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相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 11 毫秒
1.
从纯经典理论角度分析了杨氏双缝干涉花样的成因,分析得出:花样的分布是由光的相干因素决定的,而花样的光强度则是由光的非相干因素决定的。  相似文献   

2.
光干涉条纹的形成及特点等问题是研究光波干涉的主要内容,也是光学中的重点难点之一.传统的教法是按分波阵面法及分振幅法两种类型的干涉分别加于讲授.笔者认为按点光源干涉及扩展光源的干涉分为两种干涉类型更有利于学生系统深入掌  相似文献   

3.
介绍非相干光产生无衍射Bessel光束的方法及研究现状,对比透过轴棱锥和环缝装置产生白光无衍射光,以及小尺寸全光纤装置产生白光无衍射光束的方法.研究表明:采用相干光源和非相干光源都可以产生Bessel光束,也都具有无衍射和自重建的特性;非相干光源产生Bessel光束具有对光源要求低,单个光源可产生多种波长的无衍射光等优点.  相似文献   

4.
在杨氏干涉实验中,光源宽度是影响干涉条纹清晰度的一个重要因素。从干涉条纹的衬比度和影响干涉条纹的相关因素出发,可以推出杨氏干涉实验中光源的极限宽度。  相似文献   

5.
双缝干涉是分波面法干涉的典型例子,本文讨论了光源位置对干涉条纹的影响和光源移动速率与干涉条纹移动速度间的关系。  相似文献   

6.
7.
利用自相关的方法,从理论上分析计算了超辐射发光二极管(SLD)等宽谱光源的相干特性。并利用光纤陀螺的光路,从实验上研究了SLD的相干特性。实验结果与理论计算的一致,从而验证了这种理论计算的正确性。  相似文献   

8.
用相干功率谱分析法辨识在多振源工况下的主要噪声源,并对被识别声源作自功率谱和倒功率谱分析,诊断出产生噪声的故障元件。  相似文献   

9.
减小工作环境的振动噪声是改善工作条件的主要措施之一 ,由于其振动噪声是由许多噪声源引起的 ,故用相干功率谱分析法的测试系统框图及源识别模型分析了相干功率谱 ,在多振源工况下用这种方法辨识主要噪声源 ,对被识别声源作自功率谱和倒功率谱分析 ,诊断出产生噪声的故障元件。  相似文献   

10.
对双棱镜实验中的一个特殊现象:与干涉条纹并存的直边衍射花样进行了分析和论证。  相似文献   

11.
本文通过分析光线经棱镜的折射规律,为测量两虚光源的间距(d)值提供了一种较为简单的方法,实验表明该方法能提高测量精度.  相似文献   

12.
在已有实验的基础上,以量子力学的观点,定性地解释了干涉,引入二级相关函数分析了经典的干涉,并以理想化的二能级原子实验为例,从理论上进行了定量分析,得出了干涉的本质。  相似文献   

13.
探讨了各种情况下的波列相遇,通过计算得出:普通光湖泊光波不产生可供观测的干涉。  相似文献   

14.
在双缝干涉实验中,所用光源若是有一定宽度的,则屏上干涉条纹的可见度将受到一定的影响.当宽到一定程度时,屏上千涉条纹的可见度将下降到不可观测的程度.推导出了屏上不可观测的情况出现时所用光源的最大允许宽度.  相似文献   

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扩展光源照射下双缝干涉现象研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
给出了符合实际实验参数的扩展光源照射下双缝部分相干干涉光强分布函数,运用便捷的MATLAB语言和引进的PASCO实验系统分别获得光强分布理论曲线和实验曲线,并对部分相干干涉光强分布规律和可见度进行了讨论。  相似文献   

16.
牛顿环干涉实验研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
分析了牛顿干涉实验中存在的几个问题,提出了实验过程和数据处理中减少误差的一些方法。  相似文献   

17.
导出光强空间分布曲面方程式以及不同平面与直线上干涉条纹的分布,应用瑞利判据研究了光源宽度对干涉条纹可见度的影响。  相似文献   

18.
著名的杨氏实验最初是用双孔,就像两个相干点源一样,所有教科书都给出了解,只可惜是近似的,为此,给出了两相干点源空间干涉的精确解,该解是以两点源s1和s2为公焦点,以s1,s2为转轴的回转双叶双曲面族,这一结果也适用于所有类型的波,比如机械波和电磁波。  相似文献   

19.
本文就光学相干层析术OCT成像中所用到的光源进行了探讨,根据理论推导确定了光源功率谱为矩形线型、高斯线型的相干长度表达式.分析表明。相干长度是由光源的参数决定的,并且在不同规定下具有不同取值.此外,高斯线型的光源不会给成像带来旁瓣效应,得出高斯线型光源适于在OCT成像中应用的结论.  相似文献   

20.
根据热光源具有极短的相干长度、能够提高系统的轴向分辨率的特点,设计了一种使用热光源的谱域光学相干层析成像系统.利用高斯函数计算得到的理想光谱密度与光谱仪测量的实际光谱密度之间的比值,得出了不同波长对应的光源光谱密度的校正系数,将校正系数与所测干涉光谱值相乘,得到了校正后的理想干涉光谱值.实验结果表明:高斯校正后,样品的一维散射势得到锐化,散射势峰值变大,系统的轴向分辨率变高;高斯校正后使二维层析图像的质量得到了提高,样品的薄膜边界变得清晰.因此,系统具有分辨率高、成像速度快、测量精度高和对样品无损伤的特点,在薄膜厚度的无损测量方面有着广泛的应用前景.  相似文献   

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