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相似文献
 共查询到19条相似文献,搜索用时 93 毫秒
1.
对垒区Te掺杂浓度不同的ZnSe/[(CdSe)1(ZnSe)3]m短周期超格量子阱的稳态和瞬态荧光进行了实验研究,通过不同激发强度下逐级饱和过程测得ZnSe垒区自由激子寿命为35ps,[(CdSe)1(ZnSe)3]7阱区自由寿命为177ps,束缚在不同n值的Te束缚激子的复合寿命为0.5-10ns。揭示了Te掺杂浓度对能量传递、荧光波长和荧光寿命的灵敏的影响及其规律。  相似文献   

2.
对用原子层外延法生长的{(ZnSe)_(70)(ZnSe:Te)_(20)(Znse)_8+[(CdSe)_1(Znse)_3]_7+(ZnSe)_8(ZnSe:Te)_(20)(ZnSe)_(70)}×1短周期超晶格量子阱样品,在77K进行了稳态和瞬态荧光光谱研究。在本征激发下,观察到在不同激发强度时荧光光谱有显著的区别,随着泵浦密度提高,荧光谱表现为绿带(S_2)、蓝带(S_1)和蓝锐线依次占优。利用时间分辩光谱测量了上述谱带的荧光产生时间和寿命,讨论了样品中激子的捕获和复合过程。认为上述荧光光谱对激发强度的依赖性,可能是束缚在势垒中Te_n(n≥2)原子簇和单Te原子周围的激子态随激发功率提高而依次饱和的现象。  相似文献   

3.
用L-K有效质量理论研究[001]方向生长的(Znse)n/(ZnS)m应变层超晶格的电子结构和光吸收系数.结果表明,光吸收系数与附宽和垒厚有关.  相似文献   

4.
在(AlAs)_3(GeGe)_1(001)超晶格的LMTO-ASA能带计算的基础上,采用“冻结势方法”,计算了超晶格中各个分子层的平均键能E_和价带边E_,揭示了超晶格体内自建电场与界面电荷的关系。  相似文献   

5.
应用时间分辨荧光光谱方法研究了微环境对Eu~(3+)络合物发光的影响,测定了NCS~-对Eu(TTA)_3和Eu(DB)_3的荧光猝灭。实验表明,Eu~(3+)的~5D_0能级弛豫速率K_0随NCS~-的引入而增大,NCS~-离子导致的微环境变化,影响了Eu~(3+)的Laporte选择规则,改变了Eu~(3+)与配位体间相互作用的程度。  相似文献   

6.
7.
本文用掠入射荧光XAFS研究 (Ge4/Si4) 5 /Si(0 0 1 )形变超晶格的局域结构 .超晶格中的Ge Ge和Ge Si第一配位键长分别为RGe Ge =0 .2 43nm和RGe Si =0 .2 38nm ,与晶态Ge(RGe Ge =0 .2 45nm)和共价Ge Si键长RGe Si =0 .2 40nm相比 ,其配位键长缩短了 0 .0 0 2nm ,表明Ge原子周围的晶格产生了扭曲 ,Ge Ge配位数为 1 .8和Ge Si配位数为 2 .2显然偏离了理论的配位数Ge Ge为 3和Ge Si配位数为 1 .我们提出Ge和Si原子的位置交换模型来解释 (Ge4/Si4) 5 超晶格的界面结构  相似文献   

8.
本文用掠入射荧光XAFS研究(Ge4/Si4)5/Si(001)形变超晶格的局域结构.超晶格中的Ge-Ge和Ge-Si第一配位键长分别为RGe-Ge=0.243 nm和RGe-Si=0.238 nm,与晶态Ge(RGe-Ge=0.245 nm)和共价Ge-Si键长RGe-Si=0.240 nm相比,其配位键长缩短了0.002 nm,表明Ge原子周围的晶格产生了扭曲,Ge-Ge配位数为1.8和Ge-Si配位数为2.2显然偏离了理论的配位数Ge-Ge为3和Ge-Si配位数为1.我们提出Ge和Si原子的位置交换模型来解释(Ge4/Si4)5超晶格的界面结构.  相似文献   

9.
利用转移矩阵方法,讨论了Fibonacci缺陷、光学厚度调制、入射角对周期超晶格透射光谱的影响.  相似文献   

10.
用胶体化学方法制备了稀土铕(Eu)二苯甲酰甲烷(DBM)和氯化十六烷基吡啶(CPC)超微粒水溶胶[Eu(DBM)3]·CPC,通过光谱性质的测定,结合透射电镜(TEM)观测,研究了[Eu(DBM)3]·CPC超微粒的粒径对光谱的影响.结果表明:由于[Eu(DBM)3]·CPC超微粒的小尺寸效应,其光谱性质明显不同于体相材料.并初步地讨论了微粒的尺寸效应对分子内能量传递的影响  相似文献   

11.
用从头计算的LMTO-ASA方法计算(GaAs)_1(AlAs)_1(111)超晶格和体材料GaAs、AlA_3的能带结构,给出布里洲区对称点Γ、Z、D主要能带本征值的对称性标记和对应关系,结果表明,(GaAs)_1(AlAs)_1(111)能带与体材料能带有一定的对应转化关系,能带隙是直接能隙,在布里洲区Γ点。  相似文献   

12.
硅的有效光发射是硅基光电器件研究的一个关键问题,因此一直受到广泛的关注.本文采用第一性原理对新的硅基材料Ⅵ(A)/Sim/SiO2/Sim/Ⅵ(A)(m=6,Ⅵ(A)=O,Se)的能带结构、态密度和电荷密度等进行了计算研究.通过改变掺入Ⅵ(A)族原子氧和硒的对比,分析了SiO2层、不同的Ⅵ(A)族原子以及它们与最近邻Si原子的相互作用对硅基材料电子性质的影响.研究表明,在局域密度近似(LDA)下,O/Si6/SiO2/Si6/O结构在X点存在准直接带隙的特征,而Se/Si6/SiO2/Si6/Se在Γ点存在很小的直接带隙.  相似文献   

13.
建立了由两种不同材料构成的沿轴向的线状超晶格体系的薛定谔方程,并对(HgS/CdS)nHgS线状超晶格作具体计算,探讨了势阱和势垒宽度对电子能谱的影响。结果表明:沿轴向方向的线状超晶格系统的电子能谱存在能带结构,低能带的宽度要比高能带的宽度小;势阱宽度增大和势垒宽度减小会使带底的位置降低而带宽增大;圆柱半径在40^。A左右时,第一禁带宽度最大。  相似文献   

14.
测量以GaAs为衬底的Zn1-xCdxSe/ZnSe应变层多量子阱在不同温度下(18~300K)的光伏谱,研究Zn1-xCdxSe/ZnSe多量子阱的光伏效应和带间激子跃迁,实验结果表明,Zn1-xCdxSe/ZnSe量子阱具有显著的量子限制效应,从18K直至室温,都能观测到清晰的激子跃迁峰,说明Zn1-xCdxSe/ZnSe是制作室温下工作的蓝绿激光器等发光器件的合适材料。  相似文献   

15.
应变层超晶格(ZnSe)n/(ZnS)m的亚带结构   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文讨论了应变对越晶格(ZnSe)_n/(ZnS)_m在T点带边结构的影响,计算了带偏移:并在双量子阱近似下,用有效质量近似方法计算了应变层超晶格(ZnSe)_n/(ZnS)_m的亚带结构。  相似文献   

16.
采用变激发功率密度下的光致发光,变温下的光致发光等手段,研究了混晶GaAs1-xPx:N(x=0.4)样品中各发光带的发光特性,比较了不同激发条件下Nr与Nx发光带的不同行为,求得在不同的温度区间内,Nг及Nx不同的激活能,结果表明Nг与Nx分属不同的杂质发光中心,有着不同的束缚激子的机制.  相似文献   

17.
用 X-射线衍射测定了分子束外延 ( MBE)法生长的 Hg1-x Cdx Te- Hg Te超晶格样品在 ( 0 0 1 )附近的扫描徊摆曲线 ,并用动力学理论模拟计算出衍射曲线 ,实验曲线与理论计算基本上相符合 .由实验衍射曲线计算出的超晶格周期长度 ,阱 Hg Te层厚度及垒 Hg1-x Cdx Te层厚度与模拟计算的相一致 .用透射电子显微镜 ( TEM)对同一样品的横截面进行了分析 ,对 Cd Te/Zn Te/Ga As异质结界面失配位错的组态特征进行了研究 .证明用 Cd Te/Zn Te作为双缓冲层比单一的 Cd Te有较好的效果 .截面 TEM高分辨率明场象显示 Hg1-x Cdx Te- Hg Te超晶格的生长较为成功 ,界面较为平整 .由截面 TEM高分辨率明场象观测的周期长度与 X-射线衍射测定的结果相接近  相似文献   

18.
计算了GaAs/Al_xGa_(1-x)As和In_(1-x)Ga_xAs/GaSb_(1-y)As_y量子阱中激子的结合能,得到了结合能随阱宽和阱深的变化。结果表明,在这两类量子阱结构中激子结合能的变化规律有本质的不同。  相似文献   

19.
我们运用Kronig-Penney模型,研究了GaAs/AlxGa1-xAs超晶格的束缚态电子能级结构、带宽,跃迁矩随超晶格的结构参量(阱宽、垒宽和Al组分)变化关系,以及子带能量色散关系.计算结果表明:影响光跃迁频率的最大因素是阱宽,随着阱宽的增加,光跃迁频率逐渐减小;影响带宽的较大因素是垒宽,随垒宽的增大,带宽逐渐减小;超晶格结构参量对跃迁矩的影响很小;随着Al组分的增加,光跃迁频率逐渐增大;第一子能带随波矢的变化不是很明显,第二子能带随波矢变化比较明显.这些将对实验测量和器件应用有一定的参考价值和指导意义.  相似文献   

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