CH4／Ni（111）化学吸附解离反应终态的理论研究

采用ＣＮＤＯ和ＡＳＥＤ－ＭＯ方法，选择Ｎｉ１０原子簇模似Ｎｉ（１１１）界面，分别对ＣＨ３／Ｎｉ（１１１）和Ｈ／Ｎｉ（１１１）吸附体系进行了研究。所得结论与实验基本一致。     

ABS塑料Cu／Ni双镀层的电磁屏蔽性能

对在ＡＢＳ塑料上电镀Ｃｕ／Ｎｉ双镀层的方法及镀层的结构与性能进行了研究。重点研讨了塑料的镀前预处理及电镀铜工艺，同时对镀层的电磁屏蔽性能做了较为细致的研究。结果表明，用ＡＢＳ电镀Ｃｕ／Ｎｉ材料做电子仪器的外壳，具有良好的电磁屏蔽性能。     

CH型催化剂上芳烃饱和动力学研究

本文首次在连续流动高压微反－色谱联用装置上，以吡啶和甲苯为模型化合物，研究了Ｍｏ－Ｎｉ－Ｐ／Ａｌ２Ｏ３及Ｍｏ－Ｎｉ－Ｗ－Ｐ／Ａｌ２Ｏ３催化剂上的加氢饱和性能，并获得了试验条件下的动力学参数，为催化剂在油品深加工方面的应用提供理论依据．     

ABS表面化学镀Cu／Ni—P的电磁屏蔽功能

在ＡＢＳ塑料表面化学镀沉积Ｃｕ／Ｎｉ－Ｐ双镀层，并探讨其与其体结合程度、环境性、导电性及电磁屏蔽性能；以ＳＥＭ观察了镀层的微结构及表观形貌。形究结果表明，ＡＢＳ／Ｃｕ／Ｎｉ－Ｐ材料具有较高的电磁屏蔽效率，且经久耐用。     

Cu／Ni多层膜的电阻与位错

采和电桥及Ｘ射线衍射线形分析法研究磁控溅射Ｃｕ／Ｎｉ多层膜及Ｎｉ单层厚度均为５ｎｍ）的室温电阻率平均位错密度随对层层数的变化规律。     

黄樟素的催化氢化研究

本文研究了黄樟素的催化氢化反应．考察了Ｐ－２型硼镍催化剂在常压液相反应中，不同投料比、溶剂乙醇含水量、温度等因素对反应的影响．比较了Ｐ－２ＢＮｉ、ＲａｎｅｙＮｉ和Ｐｄ／Ｃ的催化活性，得到了Ｐ－２ＢＮｉ催化的动力学参数和最佳氢化条件．     

HDPE／NiS和HDPE／PexS导电复合材料

采用表面沉积法制备ＨＤＰＥ／ＮｉＳ和ＨＤＰＥ／ＦｅｘＳ复合材料，用扫描电子显微镜Ｘ光电子能谱、光电流光谱、穆斯堡尔谱等方法对其表面形貌和组成进行了表征，经测量ＨＤＰＥ／ＮｉＳ表面电阻率可达１０＾１Ω左右；ＨＤＰＥ／ＦｅｘＳ表面电阻率可小至１０＾２Ω左右。     

Ni／α—Al2O3上CH4／CO2重整制取合成气的研究

本文采用固定床流动反应装置对Ｎｉ／α－Ａｌ２Ｏ３上甲烷二氧化碳重整制合成气的反应进行了研究，在一定ＣＨ４／ＣＯ２配比下，考察了镍负载量、助剂及助剂添加量对催化活性和积炭量的影响。     

甲烷部分氧化制合成气催化剂的研究

采用ＴＰＲ、ＸＲＤ、ＳＥＭ等技术考察了不同焙烧温度Ｎｉ／Ａｌ２Ｏ３催化剂活性组分和载体间的相互作用及甲烷部分氧化活性，还原性能，相组成及镍的分解度。结果表明低温焙烧的催化剂具有易还原的特点。而高温焙烧的催化剂，由于活性组分Ｎｉ与Ａｌ２Ｏ３载体间较强的相互作用而使催化剂表面几乎全部形成了难以还原的ＮｉＡｌ２Ｏ４尖晶石，对于低温高空速甲烷部分氧化反应，Ｎｉ－９００活性优于其他催化剂活性。     

甲烷,二氧化碳和氧化转化制备合成气

研究了甲烷二氧化碳和氧化转化反应的的热力学特性，计算了反应平衡常数及平衡组成。采用固定床流动反应装置考察了Ｎｉ／Ａｌ２Ｏ３催化剂对甲烷、二氧化碳和氧气转化反应的催化活性。     

甲烷、二氧化碳和氧化转化制备合成气——IX.热力学平衡值计算及其与实验值对比

研究了甲烷二氧化碳和氧化转化反应的热力学特性，计算了反应平衡常数及平衡组成。采用固定床流动反应装置考察了Ｎｉ／Ａｌ２Ｏ３催化剂对甲烷、二氧化碳和氧气转化反应的催化活性。     

甲烷部分氧化制合成气催化剂的研究──Ni-Al_2O_3间的相互作用对催化剂性能的影响

采用ＴＰＲ、ＸＲＤ、ＳＥＭ等技术考察了不同焙烧温度Ｎｉ／Ａｌ２Ｏ３催化剂活性组分和载体间的相互作用及甲烷部分氧化活性、还原性能、相组成及镍的分散度。结果表明低温焙烧的催化剂具有易还原的特点而高温焙烧的催化剂，由于活性组分Ｎｉ与Ａｌ２Ｏ２载体间较强的相互作用而使催化剂表面几乎全部形成了难以还原的ＮｉＡｌ２Ｏ４尖晶石。对于低温高空速甲烷部分氧化反应，Ｎｉ－９００活性优于其他催化剂活性。     

Ni－Mo－P／Ni－P双层电镀层的耐蚀性

使用浸渍、阳极极化曲线、以及俄歇电子能谱（ＡＥＳ）等研究了电镀Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ（表层）／Ｎｉ－Ｐ（底层）５％ＮａＣｌ溶液中的耐蚀性．实验表明，电镀双层镀层的耐蚀性均优于同等厚度的单层镀层（Ｎｉ－Ｐ或Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ镀层）．高于４００℃热处理温度对镀层进行热处理后，镀层的耐蚀性进一步改善．腐蚀电位实验以及ＡＥＳ分析指示，低于４００℃热处理温度的镀层，外层作为牺牲阳极对内层进行保护；高于４００℃热处理温度的镀层，由于在热处理过程中镀层层间结构发生变化以及在镀层表面形成高耐蚀性的保护层使双层镀层的耐蚀性增加．     

Ni金属诱导多晶硅薄膜的低温制备与性能研究

利用Ｎｉ金属诱导晶化（Ｍｅｔａｌ Ｉｎｄｕｃｅｄ Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｚａｔｉｏｎ,ＭＩＣ）的方法制备ｐ－Ｓｉ薄膜ＸＲＤ,Ｒａｍａｎ光谱研究结果表明,ａ－Ｓｉ／Ｎｉ经４４０℃２ｈ以上退火处理后,形成多晶相结构用ＳＥＭ,ＸＰＳ等分析手段对薄膜的结构进行分析,并对金属Ｎｉ诱导晶化的机理进行简要的探讨。     

PAN／Cu／Ni纤维及复合材料的电磁屏蔽性能

用聚丙烯腈纤维经化学镀铜再电镀制成的导电ＰＡＮ／Ｃｕ／Ｎｉ纤维作填料，与ＨＩＰＳ树脂熔共混，制备了导电复合材料。对纤维表面镀层的形态结构、导电性及复合材料的导电怀和电磁屏蔽性进行了深入地研究。同时对复合材料电磁屏蔽的理论论值与实验值做了比较。     

CH_4-CO_2反应动力学的研究 Ⅰ.内外扩散影响的消除

采用低比表面、大孔结构的Ｎｉ／α－Ａｌ２Ｏ３催化剂，进行了动力学研究，确定了稀释固体．研究确定：在９７３Ｋ和１０２３Ｋ下、总流速为２０～３０ｍＬ／ｍｉｎ时，甲烷、二氧化碳的转化率基本上不随流速的改变而发生变化，而在１０７３Ｋ、总线流速为３０～４０ｍＬ／ｍｉｎ，镍基催化剂的粒径为０．１５４～０．２００ｍｍ时，甲烷、二氧化碳的转化率基本上不随线流速的改变而发生变化，能够消除外扩散的影响．     

超细金属和二元合金磁粉的制备及静态与动态磁性研究

利用多元醇方法制备了纳米金属及二元合金磁粉，ＸＲＤ和ＴＥＭ分析表明，所制超细金属磁粉粒长为５０ｎｍ左右，其形状近似为球形，Ｃｏ粉和Ｎｉ粉具有面心立方结构，面ＣｏｘＮｉ１－ｘ合金粉为固溶体或Ｃｏ和Ｎｉ的ｆｃｃ相混事物，用振动样品磁强计（ＶＳＭ）对其进行了静太磁性能测试，当０≤ｘ≤１（ｍｏｌ）捍，比饱和磁化强度σ从１８．８Ａｍ＾２／ｋｇ变化到１２８．８Ａｍ＾２／ｋｇ，而矫顽力Ｈｃ从１４０００Ａ／ｍ降至     

热处理对化学镀Ni－Mo－P合金镀层的硬度和电阻率的影响

作者用Ｘ－衍射研究了热处理对Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ合金镀层的结构和性质的影响。热处理温度升高镀层硬度增加，这与镀层中Ｎｉ_３Ｐ的形成有关。晶态Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ合金镀层的电阻率先随热处理温度的升高而升高，在约５００℃时达最大值，而后下降；对非晶态Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ合金镀层的电阻率，随热处理温度的升高而降低，在６００℃后几乎与热处理温度无关。     

青藏高原古里雅冰芯中现代δ18O记录与ENSO关系的分析

青藏高原古里雅芯中δ＾１８Ｏ与ＳＯＩ以及δ＾１８Ｏ与赤道东太平洋ＳＳＴ的关系被分析。在Ｅｌ Ｎｉ￣／ｎａ年,无论是隆冬还是盛夏,古里雅冰芯中δ＾１８Ｏ均减小,表现为明显的降温;在Ｌａ Ｎｉ￣／ｎａ年,盛夏时古里雅冰芯中δ＾１８Ｏ增大,表现为明显的增温,但隆冬时古里雅冰芯中δ＾１８Ｏ变化不明显;在非Ｌａ Ｎｉ￣／ｎａ年,隆冬时冰芯中δ＾１８Ｏ与财期３月ＳＯＩ和同期１月赤道东太平洋ＳＳＴ的线性相关关系变得显著。     

Ni69.5Al28Y2.5粉末的机械合金化

对Ｎｉ６９．５Ａｌ２８Ｙ２．５粉末进行球磨，获得ＮｉＡｌ金属间化合物，研究粉末结构与球磨时间的关系。探讨以中间合金的形式加入稀土元素的机械合金化方法，结果表明，加入稀土元素后，用机械合金化的方法可以新的金属间化合物。