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1.
薄膜ZnS:Er^3+的近红外发光 总被引:5,自引:2,他引:5
报道了用分舟热蒸发法研制的掺铒硫化锌薄膜器件的电致近红外发光特性,用X射线衍射技术对薄膜的微观结构进行研究,指出了掺铒薄膜发光与薄膜微结构的关系. 相似文献
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观察硫化锌发光薄膜中铒离子各激发态发射光谱的瞬态特性,测量时间常数随外加电压的变化规律,分析硫化锌薄膜中铒发光中心的能量状态。 相似文献
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目的 研究纳米氧化锌的绿光发光机制.方法 深能级瞬态分析法.在实验设计中.根据衬底和薄膜的性质,利用示波器、纯电阻箱、信号源等简单的实验设备.在理论计算方面,用Matlab语言编程计算得到缺陷能级.结果 实验精度较高;缺陷能级距导带1.62 eV,这个能量差值恰和孙玉明在ZnO缺陷能级计算的博士论文中氧空位缺陷能级相符.结论 绿光发射是电子由导带到氧空位缺陷能级的跃迁所致. 相似文献
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目的研究退火温度、薄膜层数等制备工艺对发光特性的影响。方法以钛酸丁酯为前驱体,采用溶胶-凝胶法制备稀土Eu,Tb掺杂的TiO2发光干凝胶和薄膜,用紫外-可见荧光分光光度计进行表征。结果 Eu3+单掺样品,用545nm波长光激发时,在618nm处有较强的Eu3+的5D0→7F2跃迁的红光发射,其跃迁强度随着退火温度的升高先增强后减弱,600℃时达到最大值。另外,薄膜的跃迁强度随着薄膜层数的增加先增强再减弱,提拉速度为8cm/min时,19层膜的荧光强度最佳。结论 Eu,Tb共掺干凝胶,以251nm作为激发波长,发射光谱在370~520nm出现了很宽的谱带,谱带中435nm和469nm两个肩峰,认为该发射峰是Eu2+的4f→5d跃迁发射引起的,退火温度在850℃时蓝光发射最强。 相似文献
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近红外有机发光二极管(Organic light emitting diodes, OLEDs)在夜间显示、生物传感和通讯等领域具有广阔的应用前景。其中有机小分子发光材料具有制作成本低、重现性好、结构和发光特性易调节、发光效率高等优点,根据其发光特性主要分为传统荧光材料、热激发延迟荧光(Thermally activated delayed fluorescence, TADF)材料、局部电荷转移杂化态(Hybrid locally-electron and charge-transfer, HLCT)材料等几类。本文主要综述了近五年来报道的基于有机小分子的近红外发光材料的研究进展,并根据不同的特性对材料进行了分类,对未来的发展前景进行了展望,为进一步合成各方面性能良好的近红外有机小分子发光材料提供了一定的理论基础。 相似文献
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提出一种HPLC型a-C:H发光特性模型。认为此类膜材料特有的发光行为是由于膜中sp^2族能隙Eg的分布所致,激光光子能量E处的信号由相应的吸收系数α和簇数量所确定。 相似文献
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硅衬底硫化锌薄膜发光器件的研制 总被引:4,自引:1,他引:4
用双舟热蒸发技术在硅衬底上制备硫化锌电致发光薄膜.用XRD、XPS技术和电致发光谱分析技术.研究该薄膜的微结构与发光特性.发现硅衬底上硫化锌薄膜与硫化锌粉末在晶体结构上存在差异,掺入的稀土元素铒呈三价.电致发光谱为Er^3 的发光谱线.硅衬底硫化锌发光薄膜器件可与硅器件工艺兼容. 相似文献
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薄膜的场致发光 总被引:1,自引:0,他引:1
徐叙Rong 《天津理工学院学报》1997,13(2):1-9
估计进导带的具体结构,计算了碰撞激发截面,从其六个主要特征中看出过热电子能量的重要性,提出了分层优化方案,对预热,加速,发光层分别优化以提高过热电子能量,并以谱线丰富的Er^3+离子作为发光材料的激活剂,利用其发光强度的蓝或绿红比定性地表示电子的能量,从发光的亮度、效率、蓝红或绿红比都显著了这一方案的优越性。进一步分析了过热电子的能量分布,倍增发生的区域及其系数,场致发光强度与能级寿命的关系、发光 相似文献
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过渡金属敏化稀土化合物近红外发光性能研究进展 总被引:1,自引:0,他引:1
稀土元素由于具有特殊的电子构型而使得稀土原子或离子的化合物(配合物)有很多独特的物理和化学性质,尤其是稀土化合物的发光性能,但由于跃迁选择定则,稀土化合物的发光性能比较弱,需要用过渡金属离子对稀土化合物进行敏化,以增强其发光性能。在这个过程中,过渡金属离子的最低激发态不直接参与发光的辐射跃迁,却可以改善稀土化合物的发光性能。围绕过渡金属敏化稀土化合物发光的研究方法、研究成果以及其发展前景进行了综述。 相似文献
11.
高性能InP/InP,InGaAs/InP体材料LP—MOCVD生长 总被引:1,自引:0,他引:1
给出利用低压金属有机化合物化学汽相沉积(LP-MOCVD)生长技术在InP衬底上生长InP、InGaAs的条件,研究了InP/InP的生长特性、InGaAs/InP的组份控制、生长特性及生长温度对InGaAs特性的影响.发现InGaAs/InP最佳生长温度为640℃,得到InGaAs/InP16K光荧光(PL)谱全高半峰宽为32.0nm,InP/InP室温霍尔迁移率为4360cm2/Vs,背景掺杂浓度为5×1014cm-3,X光双晶衍射全高半峰宽为21". 相似文献
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采用脱氯化氢反应合成出氯仿可溶性的MEH-PPV聚合物,用MEH-PPV作为发光材料制备了单层结构ITO/MEH-PPV/Al和双层结构ITO/MEH-PPV/Alq3/Al电致发光器件,测量了器件的电致发光谱、I-V特性和B-V特性,利用能级理论分析了器件的发光特性了随器件结构的不同所具有的规律,实验表明,单层结构器件和双层结构器件的发光出现在MEH-PPV层,当加入Alq3电子传输层/空穴阻挡 相似文献
13.
采用热激电流法对ZnS:Er交流薄膜电致发光器件中深能级的测量结果。推测了几种深能级的产生机制。 相似文献