电沉积镍-磷-纳米金刚石纳米复合镀层性能研究

利用电沉积法制备了镍-磷复合镀层和镍-磷-纳米金刚石纳米复合镀层,对镀层的结构和形貌进行了表征,研究了热处理温度对复合镀层硬度、摩擦性能的影响．研究发现,与电沉积Ni-P合金镀层相比,镍-磷-纳米金刚石复合镀层具有较高的酎磨性和较低的摩擦系数,硬化峰值出现在673K左右．另外,对纳米复合镀层性能改善的机理进行了讨论．     

电沉积Cr/ZrO_2复合镀层的结构和摩擦性能

采用复合电沉积工艺制备Cr/ZrO2纳米复合镀层,分别用扫描电子显微镜(SEM)、扫描电子显微镜附带能谱仪(EDS)、X线衍射(XRD)等技术较系统地研究了Cr/ZrO2纳米复合镀层的表面形貌、成分、结构和耐磨性。研究结果表明:复合镀层的中ZrO2的复合量质量分数为1.47%,在ZrO2纳米粒子的弥散强化作用下,Cr/ZrO2复合镀层无裂纹,组织致密,结构呈现明显的非晶态特征;在干摩擦条件下,纳米Cr/ZrO2复合镀层的摩擦性能明显优于3价铬镀层的摩擦性能;纳米Cr/ZrO2复合镀层的磨损主要表现为疲劳磨损特征,而3价铬镀层的磨损机制为磨料磨损。     

三价铬镀液中电沉积纳米晶体Fe-Ni-Cr合金箔

在氯化物—硫酸盐镀液体系中,以柠檬酸为络合剂,通过电沉积的方法获得厚度约为30μm的Fe-Ni-Cr合金箔。研究了电流密度、温度、pH值以及镀液中三氯化铬和柠檬酸含量对Fe-Ni-Cr合金箔成分的影响。确定了最佳工艺条件,即电流密度为10~20 A/dm2,pH值为1.60~2.70,温度为20~30℃。采用能量损失谱测定镀层成分,采用X射线衍射和扫描电镜分别测定镀层的晶体结构和表面形貌。研究结果表明,电沉积得到的合金箔成分为31.13%~54.24%Fe,44.64%~65.36%Ni,1.11%~3.52%Cr,镀层表面光亮平滑,抗拉强度为900.2~996.0 MPa,电阻率为61.3~95.4μΩ.cm;Fe-Ni-Cr合金箔的晶粒尺寸小于10 nm,为纳米晶体结构,具有良好的韧性和耐腐蚀性。     

电沉积法制备镍-纳米碳复合镀层及其工艺

该文讨论了镍-纳米碳复合共沉积中纳米碳含量、温度、电流密度、表面活性剂、搅拌等因素对纳米碳微粒共沉积量的影响．总结了镍-纳米碳复合镀层的制备方法，并对镍-纳米碳的共沉积机理作了探讨．     

组合超声场下电沉积Ni-Nd2O3纳米复合镀层的摩擦磨损性能

在组合超声场下利用电沉积方法制备了Ni-Nd2O3纳米复合镀层,利用扫描电镜分析了复合镀层微观形貌和纳米颗粒含量,测试了复合镀层显微硬度,并考察了复合镀层的摩擦学性能和磨损机理。研究结果表明:组合超声对Ni-Nd2O3纳米复合镀层微观组织、颗粒含量、显微硬度和耐磨性均有影响;与无超声和单一超声相比,在组合超声空化效应和协同效应的影响下,复合镀层晶粒得到进一步细化,组织致密性得到提高,纳米颗粒含量和显微硬度得到提升;组合超声作用下制备的Ni-Nd2O3纳米复合镀层摩擦因数小、磨损率低,表现出优良摩擦学性能。     

纳米碳管化学复合镀层的耐腐蚀性

为了延长工件的使用寿命,提高金属的耐蚀性能,采用化学镀方法,米碳管增强镍磷复合镀层.结果表明：纳米碳管已均匀镶嵌在镍磷晶胞上.纳米碳管的引入使镍磷晶胞变细、孔隙度变小、致密性增加,并且纳米碳管有较高的电位,加速镀层的钝化,提高了耐蚀性.该复合镀层具有优异的耐蚀性能.     

三价铬电沉积非晶态Fe-Ni-Cr合金的研究

研究了一种电镀液性能优良、重现性好且利于环保的非晶态Fe-Ni-Cr合金电沉积新技术，采用此技术获得的非晶态Fe-Ni-Cr合金中Fe、Ni和Cr的质量分数分别为45％－55％，33％－37％和9％－23％。利用正交试验法对电镀液的配方和工艺参数进行了优化，采用优化的方法于室温下电沉积20min可得到Fe、Ni和Cr质量分数分别为54.4%,33.9%和11.7%的镜面非晶态Fe-Ni-Cr合金镀层，镀层厚度达11.3μm、维氏硬度达560左右。分别采用等离子发射光谱（ICP－AES）、X－射线衍射、扫描电子显微镜（SEM）和X－射线荧光分析等方法对非晶态Fe-Ni-Cr合金镀层的组成、结构、性能、厚度及其影响因素了检测分析。实验结果表明，镀液组分对合金镀层成分有较明显的影响，而电沉积操作条件则对合金镀层物理性能的影响较为明显。只有当电镀液中含有稳定剂H－W时电沉积所得合金镀层中才有Cr存在，且由于稳定剂H－W与添加剂的共同作用，导致所得Fe-Ni-Cr合金镀层具有非晶态结构。     

垂直稳恒磁场下Fe-纳米Si颗粒复合电沉积

在垂直稳恒磁场中采用纳米复合电沉积法制备Fe--Si复合镀层.研究了磁场强度和电流密度对阴极电流效率和镀层Si颗粒含量的影响规律,并采用扫描电子显微镜和能谱对所得镀层进行分析.施加垂直磁场后,随着磁场强度增大,阴极电流效率呈现先上升后下降的趋势;镀层Si颗粒质量分数在0.2T达到最大值20.17%,比无磁场下提高了10.4%;镀层表面形貌也发生显著变化,多处形成"山脊","山脊"延伸方向与磁流体力学效应方向一致,分布数量和延伸长度与磁场强度成正比.由于磁流体力学效应,施加磁场还改变了镀层表面气孔形貌,促进氢气的析出.     

电沉积（Ni一W）一SiC复合镀层结构与性能的研究

本文报道了制备（Ｎｉ－Ｗ）一ＳｉＣ复合镀层的电沉积工艺。研究了ＳｉＣ固体微粒对于基质合金结构的影响，测试了复合镀层的硬度及耐磨性。结果表明，ＳｉＣ微粒对于Ｎｉ一Ｗ合金有较强的晶化作用；ＳｉＣ微粒的复合，明显增加了Ｎｉ一Ｗ合金的硬度和耐磨性。     

脉冲电沉积Ni-W合金镀层的摩擦磨损性能

利用脉冲电沉积方法制备了Ni-W合金镀层,观察了该镀层在不同载荷下的摩擦磨损行为,探讨了该合金镀层的摩擦磨损机理,并与45钢进行了对比试验.结果表明,Ni-W合金镀层具有优良的耐磨性能.     

杂质对三价铬电沉积行为的影响

针对三价铬镀铬的镀液不稳定的问题,主要讨论Cu2 、Ni2 等金属离子对镀液的影响,并提出了相应的处理措施.     

电沉积SiC颗粒增强抗磨复合材料

采用电刷镀技术制取Ｎｉ－Ｗ－Ｃｏ／ＳｉＣ颗粒增强抗磨复合材料,分析了ＳｉＣ颗粒沉积量的影响因素,并研究了复合材料的磨损特性,实验结果表明,复合材料具有较高的硬度和耐磨性。     

锌镀层三价铬黑色钝化工艺研究

为了解决锌镀层六价铬黑色钝化环境污染严重、黑色钝化膜装饰效果欠佳的问题,采用氯化铬、硝酸铬为主要成分,加入配位剂、促进剂,成功研究了锌镀层三价铬黑色钝化工艺,其工艺规范如下:氯化铬20~25g/L,硝酸铬2.5~3.5g/L,配合剂XHC-B15~20g/L,发黑剂XHC-A12~16g/L,磷酸二氢钠15~20g/L,pH值2.0~2.5,温度50~60℃,钝化时间80~120s.探讨了主要成分和工艺条件对黑色钝化膜质量的影响,检测了相关性能,结果表明:形成的黑色钝化膜呈纯黑色,色泽典雅纯正,装饰效果好,钝化膜耐蚀性好,且钝化液不含六价铬,环境污染小,具有较高的应用价值.     

电沉积Ni—W—P工艺及镀层性能的研究

对碱性条件下电沉积Ｎｉ－Ｗ－Ｐ的镀液组成及工艺进行了优选,对镀层性能结果进行了研究。经Ｘ射线衍射表明：Ｎｉ－Ｗ－Ｐ在镀态下和３００℃以下热处理时,镀层为非晶态的,而在３５０℃以上热处理镀层转变为晶态。     

环保型低浓度硫酸盐三价铬电沉积厚铬的研究

通过大量试验研制了一种甲酸盐-羧酸盐作配位剂的低浓度(Cr3+含量仅为15.5g/L)硫酸盐三价铬电沉积厚铬工艺.优化后的工艺光亮电流密度范围在3.5～25A/dm2以上、铬的最高沉积速率达0.26μm/min、覆盖能力60.5%.该镀液稳定性好,且在较长时间内能保持较高的沉积速率,沉积2h镀层厚度达23.6μm.镀层表面瘤状凸起密布、无裂纹、呈非晶态、与基体结合力好、孔隙率为零、耐蚀性良好.     

纳米碳管化学复合镀层摩擦磨损行为

为了进一步提高Ni-P合金镀层的耐磨性,采用化学镀方法使纳米碳管与镍磷在45#钢上共沉积制得纳米碳管耐磨复合镀层。结果表明：纳米碳管已均匀镶嵌在镍磷晶胞上,在干摩擦条件下,纳米碳管复合镀层的耐磨性明显优于纳米碳化硅复合镀层,更优于普通镍磷镀层,并对纳米碳管复合镀层的磨损机理进行了研究。     

脉冲电沉积Cu-Co合金镀层及其性能

采用铂片做阳极,在不锈钢基体上采用脉冲电沉积法制备Cu-Co合金镀层,通过与直流镀层相比较,对脉冲镀层的耐蚀性、耐高温性、硬度以及组织结构进行研究.结果表明:脉冲镀层的耐蚀性、耐高温性明显优于直流镀层,硬度也较直流镀层高.SEM和XRD分析结果显示,脉冲镀层较直流镀层表面更平整,组织更致密,晶粒尺寸也更小.此外,研究占...     

电沉积Fe—Ni—MoS2复合镀层及摩擦磨损性能的研究

对Ｆｅ－Ｎｉ－ＭｏＳ２复合镀层的制备工艺及其摩擦磨损性能进行了试验研究。结果表明，依靠传统的电镀工艺，悬浮在酸性电解液中的ＭｏＳ２微粒能与Ｆｅ，Ｎｉ共沉积形成Ｆｅ－Ｎｉ－ＭｏＳ２自润滑复合镀层，通过正交试验，确定了制备复合镀层的最佳工艺参数，并与４５＾＃淬火钢和球墨铸铁等材料相比，Ｆｅ－Ｎｉ－ＭｏＳ２自润滑复合镀层具有良好的耐磨性和减磨性。     

电沉积Ni-W纳米梯度镀层

首次采用电沉积法制备Ｎｉ－Ｗ纳米结构梯度镀层。ＳＥＭ能谱测试及Ｘ－射线衍射测试表明,沿镀层生长方向,钨含量逐渐增加,晶粒尺寸由１０．２７ｎｍ递减到１．５６ｎｍ,晶格畸变度逐渐增大,镀层由纳米晶结构逐步过度到非晶态结构。结构呈梯度分布,故称为纳米结构梯度镀层。     

三价铬离子在电沉积过程中的形态

研究证明三价铬离子在ＨＣｌ体系中适应电活性物质是〔Ｃｒ（Ｈ２Ｏ）６〕＾３＋，不同ｐＨ通过溶液中的存在形态而影响Ｃｒ＾３＋电沉积过程，同时证实了Ｃｒ＾３＋在ＨＣＯＯＨ或（ＮＨ２）２ＣＯ存在时不与三价铬形成配位化合物。