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相似文献
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1.
本文基于我们的实验结果,应用Scharfetter-Gummel解法数值求解Poisson方程,对经高强度光辐照过的a-Si:HP-i-n型太阳能电池进行计算机数值分析。结果表明,随着光辐照发生的载流子俘获所造成的a-Si:H中空间电荷净增加或减少都会使电池内部电场分布产生变化和准中性区(低场“死层”)的出现。这是a-Si:Hp-i-n型太阳能电池光致性能衰退的重要原因。于是,一条提高a-Si:H太阳能电池稳定性的新途径有可能被提出。  相似文献   

2.
本文应用计算机数值模拟方法研究了a-Si:HSchottky势主太阳能电池结构中载流子俘获对电场的调制效应.结果表明,无论先生空穴或电子俘获都将改变电池中的电场分布,导致准中性区(低场“死层”)出现或扩大,从而减小了电池的载流子收集长度,这是引起a-Si:HSchottky势垒太阳能电池光致性能衰退的一个重要原因.  相似文献   

3.
基于实验结果,应用Scharfetter-Gummel解法数值求解Poisson方程,对经主同强度光辐照过的a-Si:HSchottky势垒结构太阳能电池进行计算机数值分析。  相似文献   

4.
本应用计算机数值模拟方法研究了a-Si:HSchottky势垒太阳能电池结构中载流子俘获对电场的调制效应,结果表明,无论光生空穴或电子俘获都将改变电池中的电场分布,导致准中出现或扩大,从而减小了电池的载流子收集长度,这是引起a-Si:HSchottky势垒太阳能电池光致性能衰退的一个重要原因。  相似文献   

5.
本文基于我们的实验结果,应用Scharfetter-Gummel解法数值求解Poisson方程,对经高强度光辐照过的a-Si:H p-i-n型太阳能电池进行计算机数值分析。结果表明,随着光辐照发生的载流子俘获所造成的a-Si:H中空间电荷净增加或减少都会使电池内部电场分布产生变化和准中性区(低场“死层”)的出现。这是a-Si:H p-i-n型太阳能电池光致性能衰退的重要原因。于是,一条提高a-Si  相似文献   

6.
研究Al2O3/SiNX双层绝缘栅对a-Si∶HTFT性能的影响,介绍Al2O3/SiNX双层绝缘栅的制作方法.双层绝缘栅结构有效地抑制了单层绝缘栅的针孔效应,改善了短接现象,提高了有效介电常数,从而可减小膜厚,提高栅电容,使得阈值电压降低、开态电流上升,获得了107的开关电流比.  相似文献   

7.
本文采用多次陷落模型,用结恢复电流技术研究了a—Si:H太阳电池长时间光照后的光致变化效应。发现光照之后的太阳电池比光照前空穴迁移率和寿命的乘积有明显下降,而且光致亚稳缺陷主要起复合中心的作用。  相似文献   

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