铝阳极氧化电解着色膜的光谱选择性

将工业纯铝分别用硫酸和磷酸进行阳极氯化,再交流电解着色镍制作光/热转换薄膜.绪果用砒酸阳极氧化,在所采用的工艺参数范围内着色困难,而磷酸阳极氧化着色容易。用超薄切片技术及透射电镜观察膜的形貌,发现上述结果与用两种酸阳极氧化后得到的多孔性氧化膜的孔的底部直径大小有关,而与膜上部孔径关系不大。用磷酸进行阳极氧化,寻找到一种交流电解着深黑色的方法,并获得太阳光谱范围吸收率a=0.93,远红外热幅射率e=0.26的光热转换薄膜。     

铝阳极氧化膜的复合金属盐电解着色的研究

利用铜盐、镍盐构成的复合金属盐对铝阳极氧化膜进行电解着红色系的研究，所得着色液性能十分稳定，所着颜色色调均匀饱满，随着色时间及交流电压的变化，可得到浅红、紫红、深红、红黑及黑色，并对着色液中的某些因素的作用进行了探讨。     

阳极氧化铝在Cu—Ni混合浴中的电解着色

研究了几种阳极氧化铝的电解着色及其工艺条件对色调的影响.普通硫酸阳极氧化铝经 Cu-Ni混合浴交流电解着色获得红色氧化膜,色调几乎不受工艺条件影响;着色膜经磷酸交流电解处理,结果原色膜色度变纯,鲜艳度增加;稀硫酸阳极氧化铝和磷酸改质阳极氧化铝经以镍为主盐的混合浴着色,得到不同色调的多种颜色,其中以稀硫酸阳极氧化铝的多彩效果较为丰富.     

纳米级铝氧化膜的结构与电解着色性能

采用不同电解液及不同性质的电源，在铝表面制备出结构相异的纳米级氧化膜，对其结构及着色性能进行了测试分析研究；论述了H2SO4交流氧化膜层结构特点及电解着色性能的优越性。     

电解法制取彩色铝膜的新工艺

在硫酸中进行阳极氧化的基础上，通过正交试验获得了采用磷酸进行二步阳极化处理后在硫酸镍溶液中电解着色并在磺基上杨酸中进行电解处理以制取鲜艳，多色彩膜系列的工艺条件。同时还对彩色膜的性能进行了测定和评估。利用ｘ－衍射仪和ＳＥＭ仪对膜成分及结构进行了测定，并对有关机理进行了分析。     

泡沫铝表面处理电解着金黄色试验研究

讨论了泡沫铝着金黄色的工艺过程,泡沫铝经过脱脂、蚀洗、中和、阳极氧化、电解着色和水合封孔等一系列表面处理过程,可在其表面生成均匀的金黄色薄膜,使其美观耐用。     

铝合金中Cu对阳极氧化电解着色的影响

研究了Al-Cu 合金中Cu 含量对氧化膜厚度、耐蚀性、颜色的影响及 Cu 在阳极氧化时的行为、着色沉积物的存在状态。研究结果表明:随着Cu 元素含量的增加,氧化膜厚度变薄,耐蚀性下降。Cu 在阳极氧化时氧化和溶解速度远快于基体铝,在氧化膜微孔里的沉积物是呈非晶态存在的。     

3kA钕电解槽温度分布研究

通过设计实验装置在高温电解过程中实际测量了Nd2O3-NdF3-LiF熔盐电解槽内的温度分布,并对电解槽内温度分布特征及其形成的原因进行了分析。研究结果表明:电解槽内温度纵向分布是从上到下先升高再下降,横向分布是从阴极到阳极先下降再升高,电解过程中电化学反应主要集中在电解槽的中部。根据研究结果,可以设计一种能够更耐阳极消耗、降低生产成本的石墨阳极。     

用李沙育图形法研究铝阳极氧化膜的电解着色

本文叙述用李沙育图形法研究 GKC青铜色系电解着色液组份的作用机理和工艺参数的影响,并探索控制着色的可能性,提出了电解着色初期有一个“前置反应”期的看法.证实了锡和镍共存时能发生共析。     

模拟印染废水电混凝脱色研究

对活性艳红X-3B模拟印染废水进行了不同条件下的电混凝脱色研究。结果表明，选用二氧化铅-钛电极对脱色有利；高离子澄清剂G409的电混凝脱色效果要优于其它常用混凝剂，其最佳pH值为6～7，投加量为40～50mg Al2O3/L；温度升高会加速活性艳红X-3B水解而导致脱色率下降，电解产物在空气中放置一定时间可以提高脱色率。     

套筒式内循环电解反应器的研究

在小型实验装置上研究了电解ＮａＣｌＯ３溶液的套筒式内循环电解反应器的操作性能。结果表明其电解反应速度和电流效率均高于传统的槽式反应器。对实验结果进行分析发现，在由微气泡构成的两相流动系统中，其传递特性与普通的鼓泡系统不同；它不仅受气含率的影响，而且与液体的流速有关。由此引入液相雷诺数ＲｅＬ来表征流速的影响。关联实验数据，得到平均电解速度Ｎ＝０．０１３８ＲｅＧ＾０．５０－ＲｅＬ＾０．４２，平均电解效     

电解铝硅合金耐蚀性研究

对比了电解铝硅合金和常规铝硅合金的耐蚀性.电化学试验和湿热试验结果表明电解铝硅合金具有良好的耐蚀性.讨论了电解铝硅合金耐蚀机理,含有较多的微量元素及合金组织均匀细小是其腐蚀性能良好的原因.     

基于完全二分图矩阵的△(G)-边着色求解完全图K4n的完备匹配

给出了边矩阵和循环赛图的定义,提出了基于n(n-1)/2个完全二分图矩阵的△(G′)-边着色求解完全图K4n的完备匹配Mi的算法。阐明了循环赛图K(2i)n的构造的基本思路,介绍了完全图K20的△(G′)个完备匹配Mi的划分过程。     

AZ31镁合金等离子体电解氧化工艺优化

利用四因素（Na2SiO3浓度、KOH浓度、电解氧化电压和电解氧化时间）,三水平的田口正交矩阵设计法优化工艺条件,并用动电位极化曲线扫描评价陶瓷膜的耐腐蚀性能。结果表明：镁合金等离子体电解氧化陶瓷膜的耐腐蚀性能受田口正交矩阵中各水平的影响显著,其中KOH的浓度影响最大;陶瓷膜的耐腐蚀性能的最优实验参数是：Na2SiO3浓度为20 g/L、KOH浓度为4 g/L、电解氧化电压为300 V和电解氧化时间为40 min。