角分布俄歇显微术──俄歇电子能谱的新进展

综述了俄歇电子能谱的新进展──角分布俄歇显微术。测量和展示俄歇电子的全角分布可给出浅表面原子的影象,借此可对样品表面原子、分子结构进行表征。理论认为这种原子形象是浅表面原子受较深层原子发射俄歇电子映照而成的,以Ｐｔ、Ｉ２为例,用相应理论教学模式模拟,所得结果和实验结果极相符合。角分布俄歇显微术在实践和理论上将俄歇电子能谱向前推进了一步。     

Ti／莫来石陶瓷界面反应的俄歇电子能谱研究

在２００℃抛光的莫来石陶瓷衬底上用电子束蒸发２００ｎｍ的Ｔｉ膜,并在高真空中退火。首次利用俄歇电子能谱（ＡＥＳ）和Ｘ射线衍射分析（ＸＲＤ）,研究了从２００￣８５０℃Ｔｉ与莫来石的固相界面反应,并用热力学解释了实验结果。结果表明,在淀积过程中,最初淀积的Ｔｉ与衬底表现的氧形成Ｔｉ－Ｏ键,界面区很窄,４５０℃退火１ｈ后,有少量元素态Ａｌ、Ｓｉ原子析出,界面区有所展宽,但变化不大;６５０℃退火１ｈ后,界     

俄歇电子能谱数据采集及数据处理系统

本文主要介绍Ａｐｐｌｅ　Ⅱ微机在俄歇电子能谱数据采集及数据处理中硬件和软件的设计．本 系统软件包括数据采集、数据快速显示和分段处理、数据平滑、扣本底、谱图微分与积分等．此 外还配有一个常用的数据库．本系统的最大特点是成本低、功能强、使用简单、方便．     

用俄歇能谱研究热氮化SiO2膜中氮原子的扩散

应用俄歇电子能谱仪，对快速热氮化法制备的热氮化二氧化硅薄膜及快速热氮化后再氧化退火的二氧化硅薄膜，进行元素深度分布剖析。薄膜厚度约为６０ｎｍ。分析结果发现：１）氮原子在二氧化硅薄膜中的扩散范围受氧原子浓度的控制；２）热氮化二氧化硅薄膜经氧化退火处理后氮原子浓度降低，分布变得平缓，均匀。     

Ⅱ-Ⅵ族三元合金半导体ZnS_(1-x)Te_x薄膜的俄歇电子能谱化学位移实验研究

对分子束外延（ＭＢＥ）生长的Ⅱ－Ⅵ族三元合金半导体碲硫锌ＺｎＳ１－ｘＴｅｘ（０≤ｘ≤１）单晶薄膜的特征俄歇电子能谱进行实验研究，发现其中各元素俄歇峰的化学位移随ｘ的增大而非线性减小的变化规律。     

Ⅱ—Ⅵ族三元合金半导体ZnS1—xTex薄膜的俄歇电子能谱化学位 …

对分子束外延（ＭＢＥ）生长的Ⅱ－Ⅵ族三元合金半导体碲硫锌ＺｎＳ１－ｘＴｅｘ（０≤ｘ≤１）单晶薄膜的特征俄歇电子能谱进行实验研究，发现其中各元素俄歇峰的化学位移随ｘ的增大而非线性减小的变化规律。     

高纯Fe-0.2%P-2%Cr-C合金晶界的高分辨俄歇能谱分析

利用高分辨俄歇能谱仪研究了高纯Fe 0 2 %P 2 %Cr C合金的晶界·结果表明 ,沿晶断面上有大量尺寸约 0 3 μm的颗粒状碳化物·碳化物处碳的PHR值分别为 3 4 9%和 3 3 3 % ,铬的PHR值为 1 4 6%和 7 3 % ,碳化物为富铬碳化物 ;晶界上无碳化物处存在显著的磷偏聚和碳偏聚 ,磷的平均偏聚量分别为 2 0 2 %和 1 9 6% (PHR) ,晶界富集系数为 5 6和 5 4,碳的PHR值分别为 8 6%和 1 2 6% ,晶界富集系数为 3 0 8和 45 0 ;随合金碳量增加 ,碳在晶界偏聚量增加 ,磷的偏聚量稍有降低     

用XPS研究Ti—15Mo合金在盐酸中钝化膜的组成

应用ＸＰＳ和电化学测量技术研究了Ｔｉ－１５Ｍｏ合金在７０℃４ｍｏｌ／Ｌ ＨＣｌ溶液中，９００ｍＶ，２００ｍＶ和０ｍＶ恒电位阳极极化条件下形成的钝化膜。结果表明，Ｔｉ－１５Ｍｏ合金在７０℃４ｍｏｌ／Ｌ ＨＣｌ溶液中钝化膜很稳定。     

用XPS研究Ti－15Mo合金在盐酸中钝化膜的组成

应用ＸＰＳ和电化学测量技术研究了Ｔｉ－１５Ｍｏ合金在７０℃４ｍｏｌ／ＬＨＣｌ溶液中，９００ｍＶ，２００ｍＶ和０ｍＶ恒电位阳极极化条件下形成的钝化膜。结果表明，Ｔｉ－１５Ｍｏ合金在７０℃４ｍｏｌ／ＬＨＣｌ溶液中钝化膜很稳定。在高阳极极化电位下（９００ｍＶ），钝化膜表层中贫Ｍｏ，而在低阳极极化电位下（２２ｍＶ，０ｍＶ），钝化膜表层有Ｍｏ的富集现象。钝化膜内含有较多的电解质阴离子Ｃｌ－，而旦分布很深，推测氯离子可能参加了膜的生成反应。     

用等离子质谱法研究钛钼合金钝化膜

Ti-15Mo合金试样在70℃,4mol HCl中,不同电位下恒电位阳极极化,使用等离子质谱(ICP-MS)方法分析试验溶液。结果表明,试验溶液中Mo贫乏,由此推测在试样表面形成的阳极钝化膜中Mo发生富集。Mo的富集系数Z(M_o)达到0.61。不同极化电位对Mo富集程度影响不大。     

高铬镍不锈钢钝化膜及其耐腐蚀性能

高铬镍不锈钢是湿法磷复肥生产装备中常用的材料 ,它能够经受得住工况介质腐蚀磨损的双重作用 ,是因为在其表面能形成耐腐蚀和具有自愈能力的钝化膜 .采用 XPS和 AES对钝化膜的组态和元素分布进行分析 ;运用 X衍射对钝化膜的结构进行了测试 ;并结合静态与动态的电化学性能对高铬镍不锈钢钝化膜进行了研究 .结果表明 :钝化膜主要是由 Cr、Mo、Fe的氧化物 Cr2 O3、Mo O3、Fe O、Fe2 O3等复合组成 ,所形成的是非晶态膜 ,Ni和 Cu是在膜下的富集 ,增加了膜的稳定性 .     

1Cr18Ni9Ti不锈钢的点蚀的敏感位置

本文研究了TiN夹杂对点蚀形核的影响。实验发现1Cr18Ni9Ti不锈钢微区点蚀形核敏感位置在TiN夹杂周围。AES结果表明TiN夹杂周围有一贫Cr区,Cr/Fe+Ni峰值低于基体。TiN夹杂周围是钝化膜的薄弱部位。TiN夹杂的存在降低了微区的点蚀破裂电位,即降低了不锈钢的耐点蚀性能。     

0Cr18Mo2与1Cr18Ni9Ti异种不锈钢焊接工艺研究

对 0Cr18Mo2和 1Cr18Ni9Ti异种不锈钢采用手工电弧焊进行焊接 ,检验焊接质量 ,通过光学显微镜、扫描电镜(SEM)等手段分析焊接区的显微组织 ,测试力学性能。结果表明 ,焊接工艺规范合理 ,焊缝质量良好 ,其强度和韧性均达到母材的水平     

Ti32Mo在盐酸溶液中的电化学研究

用阳极极化曲线和电化学交流阻抗研究了Ti32Mo在不同温度、不同浓度盐酸溶液中的腐蚀电化学行为。实验结果证明Ti32Mo在实验用盐酸溶液中处于自钝化状态。自腐蚀电位下的阻抗谱呈现单纯容抗特征，而在18℃、4mol/L盐酸溶液中较高阳极极化电位下，阻抗谱高频部分呈现容抗特征，低频段呈现感抗特征。采用合适的数学模型对阻抗谱进行了解释，并且用相应的等效电路进行拟合计算，结果表明解释是合理的。     

改变Cr、Ni配比电弧炉冶炼超低碳不锈钢HoCr19Ni12Mo2

冶炼超低碳不锈钢因含碳极低（Ｃ≤０．０３０％）而使冶炼难度相当大，本文以ＨｏｏＣｒ１９Ｎｉ１２Ｍｏ２为例论述了通过调氧化前Ｃｒ、Ｎｉ的配比来降低氧化终点温度，从而降低冶炼难度     

0Cr19Ni9 1Cr18Ni9不锈钢薄壁焊管缺陷及对策

南京某厂从日本引进焊管机组,用带式法生产薄壁不锈钢管。其工艺流程如下: 钢带分剪→轧辊成型→钨极氩弧焊(TIG)焊成管坯→冷拔→矫直→成品。采用某厂一批0.3mm厚的1Cr18Ni9和0Cr19Ni9奥氏体不锈钢带试焊,发现有焊渣间隔分布于焊缝的内外壁上。间隔距离从5mm至100mm不等,大部分在20～30mm之间,见图1.焊渣多呈灰褐色,其形如纺锤状,尺寸(长×宽)约在(10～20)mm×(4～6)mm。     

氢对不锈钢钝化膜纳米力学性能的影响

利用电化学实验方法和纳米力学探针技术，通过测量载荷-位移关系曲线，研究了氢对不锈钢钝化膜纳米力学性能的影响，结果表明：随氢含量的增加，不锈钢钝化膜的临界破裂载荷降低，位移偏移量减小，氢导致钝化膜的径向抗拉强度(应力)和弹性模量降低，钝化膜随氢含量的增加而逐渐软化。     

H_2S对1Cr18Ni9Ti在NaCl溶液中应力腐蚀的影响

研究H_2S对1Cr18Ni9Ti在NaCl溶液中应力腐蚀的影响。通过闭塞电池法和化学分析法,用不同浓度H_2S对多种浓度NaCl溶液进行条件试验,研究表明:溶液在中性和弱碱性的范围内,由于金属表面上生成一层较稳定的FeS膜,该膜对氯化物的应力腐蚀有一定延缓作用,随着介质不断酸化,FeS膜开始溶解,当FeS膜完全溶解后,硫化物对氯化物的应力腐蚀起促进作用。