稳压电源改制双脉冲电镀电源

设计并实现了一磁由通用直流稳压电泊改制成双脉冲周期反向电镀稳定电源的具体方案，该电路具有简捷实用，功能多，成本低容易实现等特点，为脉冲电镀研究提供了方便。     

超声法高效剥离层状磷酸盐材料

层状无机材料(层状磷酸盐,高岭土,蒙脱土及阴离子型黏土等)是很重要的非金属矿物材料。近年来,人们将有机分子插入到无机非金属材料中对其进行改性处理使其获得更好的性能。但由于层状材料层间相互作用力较大,使较大的分子难以插入。本文提供一种用丙胺将层状磷酸盐剥离技术,使其层间距离增大便于其他大分子的插入。方法是先用有机小分子剥离层状无机材料,然后把已经剥离层状无机材料在超声波的条件下,使层状无机材料的剥离更为彻底。该方法不仅能使层状无机材料剥离充分,而且还可保持层状无机材料良好的晶体结构,使层状无机材料现有的用途产生质的提高,使其价值倍增。     

恒电位脉冲法检测高纯铁素体不锈钢的敏化

用恒电位脉冲（ＰＰＴ）法对高纯铁素体不锈钢的敏化度进行了检测，并与传统的动电位再活化（ＥＰＲ）法进行了比较，结果表明：ＰＰＴ法可以用来检测铁素体不锈钢的敏化，并且具有检测速度快，表面损伤小的优点。     

固相法制备含铋层状结构PBN压电陶瓷

研究了固相反应法合成PbBi2Nb2O9(PBN)层状结构压电陶瓷粉体的化学反应过程,发现固相反应主要发生在590,710,820℃·590℃时反应产物为Pb2Bi6O11、Pb5Bi8O17、Pb3Nb4O13及PBN;710℃时反应产物为Pb5Bi8O17和PBN;在820℃保温1h,可以获得单相PBN·PBN粉体在1080℃进行烧结,可获得相对密度达975%,组织细小均匀的PBN陶瓷·     

金属离子缓冲溶液电位法的原理和应用

详细地讨论了金属离子缓冲溶液测定络合物稳定的原理和应用，用铜离子选择电极电位法测定了铜的络合物稳定常数，效果满意。     

椭圆法用于计时电位法测定铜的研究

利用椭圆法对计时电位法分析的含铜离子的一系列浓度进行了研究。结果表明光学方法与电化学方法所得分析结果相同。椭圆法可获得更多的信息，而且测量的相对平均偏差也小于电化学方法。     

双脉冲TEACO_2激光器谐振腔结构分析

本文描述了由共用同一光学谐振腔结构的两组电极产生时间间隔可调脉冲的双脉冲TEACO_2激光器,在共腔结构上研究了获得单模运转的方法,认为选择纵膜采用光栅复合腔,选择TEM_(mn)模采用平一凹稳定腔以及在光腰位置插入一定大小孔径光阑比较适宜。     

固相法制备正交层状LiMnO2

以LiOH·H2O为锂源、Mn2O3(电解MnO2 680℃焙烧6 h)为锰源,采用一步固相法在氩气中制取正极材料o-LiMnO2.对Mn2O3和LiOH·H2O混合物进行热重分析,然后对影响LiMnO2合成的重要因素进行考察,最后对合成的样品进行Mn平均化合价的测定和SEM分析.研究结果表明:合成LiMnO2的温度应控制500℃以上.合成LiMnO2的最佳实验条件为:锂锰物质的量比1.03、焙烧温度600℃、焙烧时间8h.合成的样品即为LiMnO2;样品的结构为正交层状结构.     

铁基层状双氢氧化物的制备与析氧性能研究

析氧反应是水分解反应中的一个重要反应,而开发具有低成本高效率的催化剂对于非贵金属催化剂的实际应用至关重要.采用水热法制备了生长在泡沫镍上的三维花瓣状Ni Fe-LDH/NF、Co Fe-LDH/NF纳米片,其层状多孔的泡沫镍为层状双氢氧化物提供了较大的电化学活性表面积和丰富的电化学反应活性位点,而Ni2+与Fe3+之间的协同作用优化了制备的催化剂的电子结构,进一步提高了其析氧反应活性.实验结果表明,在碱性溶液中,Ni Fe-LDH/NF和Co Fe-LDH/NF比其相应的单金属化合物具有更强的电化学活性;在电流密度为20 m A/cm2时,Ni Fe-LDH/NF的过电位仅为180 m V,其Tafel斜率为47. 4 m V/dec,优于大多数非贵金属催化剂; Ni Fe-LDH/NF在电化学耐久性测试中表现出了优异的稳定性和耐久性,在0. 8 V的阶跃电位下持续电解36 000 s,其电流密度为63m A/cm2,且无明显衰减.     

食品中铅,铜的电位溶出法简析

电位溶出法是近代分析化学中除放射化学和中子活化法等之外最灵敏的方法，该方法仪器设备简单，容易普遍推广。原理：铅、锡金属离子在一定酸性介质中，选择一定电位条件下，使金属离子还原为金属，与汞形成汞齐、沉积在电极表面。当沉积一定时间后，断开恒电位，汞齐化金属与溶液中氯化剂反应，金属又重成为离子进入溶液。主要仪器：l、MP－1型港出分析仪2、MCP—IT极谱工作台3、工作电极、玻碳汞膜电极、银电极4、参比电极：饱和甘汞电极5、对电极：铂电极6‘25mL硬质烧杯一7、表面M样品消化用电子控温万能消化电炉，方便快捷、操作容…     

在二甲亚砜中脉冲电沉积La-Co-Fe合金膜的研究

应用脉冲电解技术制备La-Co-Fe合金膜,加入络合剂乙二胺后,可制备出表面光滑、致密、粘附性好和有金属光泽的La-Co-Fe合金膜.室温下所得合金膜是非晶态的,并对非晶态La-Co-Fe合金膜进行了磁性测试.经热处理后,La-Co-Fe合金膜在物相中有La和LaFeO3.     

Fe—Ni—P非晶合金的电沉积

研究了电沉积法制备FeNiP非晶合金的工艺条件。以抗坏血酸作为络合剂,选择了合适的电镀液,研究溶液的pH、温度和电流密度对电镀层的影响。     

半导体热电材料Bi1-xSbx薄膜的电化学制备

B I1-XSBX半导体合金是性能优异的热电和磁电功能材料,为制备固态电制冷器件、温差发电器件和磁电器件的重要材料。电化学沉积薄膜技术工艺设备简单成本低,在半导体薄膜制备方面有很好的应用前景。系统研究了高浓度盐酸(2.4 MOL/L)的B I和SB盐酸溶液,成份从纯铋逐步变化到纯锑的B I1-XSBX合金半导体薄膜电化学沉积特性。测试了沉积过程I-V循环曲线和和沉积电荷效率等电化学参数。结果表明在所有成份范围内都可以得到典型的B I1-XSBX固溶体结构的高质量薄膜。薄膜生长为典型的溶液扩散控制过程,具有高的沉积电荷效率。薄膜沉积和溶解之间的电位差随溶液中SB(Ⅲ)离子浓度增加而增大,生长的薄膜越来越稳定。在30%SB浓度附近,电化学过程、薄膜结构和性能发生明显的突变。应用X射线衍射和电子显微镜研究薄膜结构,发现薄膜具有明显的(012)择优取向,薄膜晶粒尺寸也随SB浓度的增加而变化。     

AZ91D铸造镁合金交流脉冲双极微弧电沉积陶瓷膜

利用交流脉冲方法在AZ91D铸造镁合金表面成功实现阴、阳极微弧电沉积陶瓷膜,并使用SEM和xRD等手段对陶瓷膜的厚度、组织形貌、成分、结构和耐蚀性作了相应研究分析.结果表明,应用交流脉冲方法不仅能够在AZ91D铸造镁合金上实现阴、阳双极微弧电沉积陶瓷膜,同时在阴、阳极陶瓷膜中电沉积有稀土元素Ce.通过比较动电位扫描极化曲线和交流阻抗分析发现阴、阳极微弧氧化处理后AZ91D镁合金的耐蚀性得到显著提高.     

二甲基亚砜中电沉积Eu-Co合金膜的研究

研究了二甲基亚砜 (DMSO)中Eu3 + 和Co2 + 在铂和铜电极上的电化学行为。Co2 + 在铂和铜电极上一步不可逆还原为Co ,Eu3+ 在铂和铜电极上为二步不可逆还原 ,先还原为Eu2 + ,Eu2 + 再还原为Eu。利用循环伏安法测定了 30 1K时 ,0 0 10mol·L- 1 CoCl2 - 0 10mol·L- 1 LiClO4-DMSO体系中Co2 + 的扩散系数和传递系数分别为1 34× 10 - 6 cm2 ·s- 1 和 0 16。在铜电极上于 - 1 80～ - 2 5 0V (vsSCE)下恒电位电解 ,可获得黏附性好、有金属光泽的Eu_Co合金沉积膜 ,铕的质量分数为 7 2 6 %～ 2 2 93%。加入乙二胺作为络合剂 ,使沉积层中铕的质量分数明显提高 ,沉积层中铕质量分数最高达 41 41%。     

脉冲电沉积Ni-W合金镀层的摩擦磨损性能

利用脉冲电沉积方法制备了Ni-W合金镀层,观察了该镀层在不同载荷下的摩擦磨损行为,探讨了该合金镀层的摩擦磨损机理,并与45钢进行了对比试验.结果表明,Ni-W合金镀层具有优良的耐磨性能.     

电沉积坡莫合金薄膜的结构和纵向磁阻抗效应(英)

采用电沉积法制备了厚度为1.1μm到6.9μm的坡莫合金薄膜.经X-射线衍射分析，其结构为fcc 结构，其中NiFe(111)衍射峰的强度明显增强.该薄膜的磁滞回线测量结果表明：其矫顽力随着薄膜厚度的增加而减小.在交流I_rms=6mA,频率范围在0.05kHz 到 600kHz 的条件下，纵向磁阻抗比随着薄膜厚度的增加而增加，其最小值可达-52%.     

二甲亚砜中电沉积La—Co合金膜的研究

研究在非水溶剂二甲亚砜中电沉积La-Co合金膜。体系中加入柠檬酸为络合剂,聚乙醇－100为添加剂,用于改善沉积层的质量。在沉积过程中,应用了恒电位电解技术和脉冲电解技术。所得La-Co合金膜的表面是光滑,致密。粘附性好和有金属光泽。恒电位电解技术沉积得到的La-Co合金膜中La的质量分数是22．42％－50．29％,脉冲电解技术沉积得到的La-Co合金膜中La的质量分数是1．46％－42．63％。脉冲电解技术沉积得到的La-Co合金膜通过电镜观察发现金属粒子的大小约为100nm。     

双离子束法沉积类金刚石膜的耐腐蚀特性

对双离子束法在K_q玻璃上制备DLC膜的耐酸碱溶液和有机溶剂腐蚀特性进行了研究,给出了不同制备参数对膜层耐腐蚀特性的影响,并对腐蚀机理进行了探讨。     

NiO电致变色薄膜的电化学制备和性能

以N,N-二甲基甲酰胺为溶剂、NiCl2为主盐、LiClO4为支持电解质、FTO导电玻璃为基体.采用恒电位电沉积的方法制备了电致变色性能良好的NiO薄膜.实验过程中对溶剂脱水方法、电沉积电压等实验条件进行了研究.探索在此体系中电沉积的最佳条件,制备出电致变色性能和附着性良好的NiO薄膜;通过×射线衍射仪、扫描电镜、高分辨透射电镜和能谱仪等仪器.对膜的成分、结构和厚度进行了分析;采用紫外可见分光光度计,对膜的透光性能进行了表征;通过循环伏安法和双电位阶跃法,对膜的电化学稳定性和响应时间进行研究.