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利用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)系统制备了a—Si:H薄膜.使用KrF准分子脉冲激光对a-Si:H薄膜进行辐照,使a-Si:H晶化.拉曼散射谱和电子衍射谱的结果表明经过激光辐照后在a—Si:H层形成纳米硅颗粒. 相似文献
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