CAPP—定位基准,工序基准,测量基准选择的全自动系统

工艺基准的选择是工艺规程设计的重要内容，为实现工艺基准选择的规范化和自动化，并在调整法加工中保证零件的距离尺寸精度和相对位置关系精度，本文设计了计算机辅助定位基准、工序基准、测量基准选择的全自动系统。并在零件信息输入方面提出了零件立体形状矩阵描述的新方法，。     

设计基准与工艺基准不同时对轴类零件位置公差的影响

本文针对轴类零件分析了在制订工艺规程时，由于工艺基准与设计基准不同，需要进行位置公差换算的重要性，并结合生产实际，介绍了如何进行位置公差换算，说明位置公差换算对效益有着很大程度的影响。     

专家系统在 CAPP-工序基准选择中的应用

本文以专家系统技术为基础，针对机械制造工艺规程设计中工序基准的选择问题，建立了工艺知识库，应用产生式原理研制出了计算机辅助工序基准选择的软件系统．为实现完整实用的ＣＡＰＰ系统奠定了基础．     

专家系统在CAPP—工序基准选择中的应用

本文以专家系统技术为基础，针对机械制造工艺规程设计工序基准的选择问题，建立了工艺知识库，应用产生式原理研制出了计算机辅助工序基准选择的软件系统，为实现完整实用的ＣＡＰＰ系统奠定了基础。     

高精度电压基准源的设计

在分析传统带隙基准电压电路的基础上，本设计利用纵向NPN双极型晶体管的寄生模型提出了一种结构简单新颖、具有良好的温度系数和较高的电源抑制比，可用于数模转换器、模数转换器、线性稳压器和开关稳压器等电路的高精度基准电压源，此外还讨论了基准源的启动问题．本文采用的是CSMC公司的CMOS混合信号工艺，输出电压为2．5V．     

顶针连接板的上平面的定位基准的确定

文中确定了顶针连接板的上平面相对于细牙普通螺纹M8×1(大径为8 mm,螺距为1 mm)的轴线精度尺寸加工的工艺定位基准,顶针连接板的上平面和螺纹轴线的垂直距离尺寸是(1±0.02)mm,公差只有0.04 mm,精度较高。运用基准重合的原则,得出了顶针连接板的上平面与螺纹,同时使用一个工艺定位基准定位加工这种产品,能够保证产品有较高尺寸精度的要求。     

一种三阶曲率补偿带隙基准电压源的设计

在传统电流求和模式带隙基准电压源的基础上进行改进，设计了一种简单的三阶曲率补偿带隙基准电压源。该基准源由启动电路、低压高增益两级运算放大器、基准核心电路和高阶曲率补偿电路组成。在低温段，通过PMOS管进行二阶补偿；在高温段，通过PTAT2电流进行三阶补偿。基于CSMC 0．35μm CMOS工艺，采用Cadence软件对设计电路进行仿真分析。结果表明，在－40～125℃温度范围内，5 V电源电压下，基准源输出电压为1．226V，输出电压变化范围为0．51mV，基准源的温度系数为2．5×10－6／℃，低频时的电源抑制比为－67 dB。     

低功耗双带隙结构的CMOS带隙基准源

随着片上系统的发展,带隙基准源精度和功耗的要求也越来越高.目前的高阶温度补偿方法在工艺兼容、设计复杂度和功耗上还存在一定的局限性.本文推导了一个新颖的电流模带隙基准电路在饱和区工作时的温度特性,并结合双带隙结构在输出支路上采用电流比例相减的方式实现有效的曲率补偿,从而实现了一个新颖的双带隙结构CMOS带隙基准源.在GSMC 0.18μm工艺下,设计的CMOS带隙基准源版图面积为0.066mm~2.蒙特卡罗后仿真的结果表明,在-40~125℃温度范围内平均温度系数为14.27ppm/℃;在27℃时基准电压平均值为1.201V,标准偏差变化仅为33.813mV(2.82%);在3.3V工作电压下,静态电流平均为9.865μA,电源抑制为-37.21dB.本文设计的带隙基准源具有高精度、低功耗、结构简单的特点,是片上系统的良好选择.     

夹具定位元件起始基准与加工精度

工件的加工精度与夹具设计时工件定位基准的选择、夹具对刀元件及定位元件位置的确定密切相关.本文讨论如何确定它们之间的关系,以避免由于夹具定位元件的制造误差而降低工件的加工精度.     

一种高性能的BiCMOS带隙基准电压源

提出了一种新颖的利用负反馈环路以及RC滤波器提高电源抑制比的高精密CMOS带隙基准电压源．采用上海贝岭的1．2μm BiCMOS工艺进行设计和仿真,spectre模拟表明该电路具有较高的精度和稳定性,带隙基准的输出电压为1．254V,在2．7V-5．5V电源电压范围内基准随输人电压的最大偏移为0．012mV,基准的最大静态电流约为11．27μA;当温度-40℃-120℃范围内,基准温度系数为1mV;在电源电压为3．6V时,基准的总电流约为10．6μA,功耗约为38．16μW;并且基准在低频时具有100dB以上的电源电压抑制比（PSRR）,基准的输出启动时间约为39μs．     

独立成份分析在径向基函数网中的应用研究

提出应用独立成份分析(Independent omponent nalysis,ICA)降低径向基函数网(RBFN)输入维数的方法,并讨论ICA降维方法对RBFN行为的影响．实验表明基于ICA的降维方法大大提高了RBFN的收敛速度,改善RBFN的行为．     

正定矩阵基与正交矩阵基及其应用

给出了正定矩阵基与正交矩阵基；证明了每个实二次型都可由基本正定二次型唯一线性表出，以及欧氏空间上的每个线性变换都可由基本正交变换唯一线性表出。     

模糊向量空间的模糊基

P. Lubczonok在中给出了判别一个模糊向量空间存在模糊基的充分条件,本文得到了一个不同于他的结果的存在性定理。     

基于RBF网络的人脸识别和表情分析方法研究

为解决人脸识别过程中出现的无法有效区分多姿态人脸的问题,进一步提高人脸表情识别率。本文在分析现有人脸表情识别方法的基础上,提出新的识别技术,即采用基于径向基函数(RBF)神经网络的方法,首先对图像皮肤和非皮肤像素进行分离,把人脸区域从检测到的皮肤区域中提取出来,然后以人脸表情数据库JAFFE为测试数据库,对人脸图像进行Gabor小波变换(GWT)和离散余弦变换(DCT),最后将该算法用于径向基函数神经网络的训练过程,建立相应优化模型,并将其应用到人脸表情的识别中,研究结果表明,具有收敛速度快、识别率高等优点,比文献中的方法提高了3%和8%的识别率。     

Fuzzy矩阵的秩与Fuzzy向量组的基

本文在文献的基础上，对于Ｆｕｚｚｙ矩阵秩的有关性质做了进一步研究；给出了Ｆｕｚｚｙ向量组线性相关的充分必要条件。提出利用拟基向量求Ｆｕｚｚｙ基的方法，使Ｆｕｚｚｙ矩阵的求秩运算得到改进。     

二次基函数的构造及其应用

本文构造了具有二次代数精度的基函数，这些基函数无论在计算方面还是在应用方面都比Ｅ．Ｌ．Ｗａｃｈｓｐｒｅｓｓ所建立的方便．利用这些基函数，得到了三角剖分下插值多元样条ｕ（ｘ，ｙ）∈Ｓ（△，Ｄ）存在的充要条件，并以数值便阐明了求解插值多元作条空间的维数问题．     

正交基低冗余无监督特征选择法

借鉴基于正则回归的无监督并行正交基聚类特征选择法和最大互信息系数,提出正交基低冗余无监督特征选择法.该方法在正交基下选择具有判别能力的特征,可用最大互信息系数矩阵选择低冗余性的特征子集. 4个图像数据集上的实验结果表明:该方法选择的特征子集可以提高聚类准确率.     

邻域套基与A1公理

该文给出一个无领域套基的空间的例子，证明了可分空间或拓扑向量空间中，领域套基的存在性等价于Ａ１公理，并利用序数理论构造了一个非可分空间的例子，其中每点存在领域套基但不满足Ａ１公理。     

关于一般多项式基的Bezout矩阵的若干性质

讨论了标准幂基到一般多项式基的转移关系，并由此把古典Bezout矩阵的若干重要结果推广到了一般多项式基的广义Bezout矩阵的情形。     

卟吩结构的理论方法和基组效应

用考虑电子相关的MP2和2种DFT方法，在不同的基组下对卟吩结构全优化。结果表明，当使用MP2／3－21G方法时，仅考虑20个最外层占据轨道的电子相关，即可较好地描述卟吩的对称结构；而BPL／3－21G和B3LYP／3－21G方法也能正确描述其对称结构；其中后者更接近实验值，说明用同时考虑定域和非定域相关的B3LYP方法，比仅考虑定域相关的BPL方法有较高的计算精度。更大的基组对卟吩结构的描述并无大的改进。