80Kev离子注入机

本机为试验样机。我们试图通过对它的研制摸索制造微米束机的经验,同时它也可以当作毫米束机来使用,完成旧工艺难以完成的某些类型的半导体器件的掺杂任务,以满足电子工业发展的需要。     

SD—400keV离子注入机调试报告

一、引言 SD—400keV离子注入机是一种多用途离子注入机,它具有注入元素种类多、能量调节范围广、扫描面积大等特点,可以注入从质量数为1的氢离子直到质量数大于200的重离子;能量从50keV到400keV连续可调;具有垂直扫描和非垂直扫描两种功能。本机主要用于功能材料、固体材料改性和功能器件的研究以及离子与固体相互作用的基础研究等领域。     

一台400keV离子注入机的光路设计

本文给出了一台400keV离子注入机的物理设计总体方案。根据设计指标,详细计算了该机主要部件的参数。经调试,各项指标达到设计要求。     

50型MEVVA源离子注入机

详细介绍了50型强束流、大束斑MEVVA源注入机的结构和各项性能.50型MEVVA源注入机是北京师范大学低能核物理研究所于九五期间承担的"八六三"计划项目"先进离子束注入技术的工业应用"所取得的成果,是专用于工业生产的MEVVA源离子注入机.     

离子注入机后减速的研究

制作大规模集成电路要求低能量、大束流的注入。为了适应这一工作的需要,我们在400keV离子注入机上采取了使离子束在较高能量下传输,在靶附近再把能量降低的方法,这种方法就叫做后减速。     

强流离子注入机束流光学系统的计算

本文给出了计入空间电荷效应后整机光路的束流包络。分析了改变磁分析器和高梯度加速管的一些参数对束流包络的影响。     

280keV离子注入机磁分析器的研究

概述了２８０ｋｅＶ离子注入机磁分析器的设计和性能，详细地讨论了调节极面对聚焦的影响。     

Jy400型中药自动配方机

1976年夏季开始,我院机械厂、物理系部分干部、教师、技术员和工人与中国人民解放军某医院协作为中药汤剂剂型改革设计研制了一套从煎煮喷雾干燥到实现中药配方自动化设备,现已初步制成试产,这里介绍的是其中的一部分。     

离子注入机高压上的电器的光控调节

离子注入机的总体设计方案可分为先加速后分析和先分析后加速两种。在电器安排方面,有的离子注入机设计为靶室接地,使离子源处于正高压;有的注入机设计为离子源接地,使靶室处于负高压;也有的注入机设计为中间的分析器接地,使离子源和靶室分别处于正负高压(这种设计较为少用)。不管采用那一种设计方法,总有一端为高压,那么这一端的电器设备就要处在高压上。我校研制的400KeV多元素离子注入机,是采取靶室接地,头部为400KV的正高压。因而,离子源电源、吸极电源、予加速电源、初     

直流高压电源纹波测量方法

随着电子电力技术的发展,直流高压电源被广泛的应用于各个领域,由于其内部器件的特殊结构,不可避免的产生纹波。纹波电压是直流高压电源的重要参数,是衡量直流高压电源品质优劣的重要依据,对纹波电压的精确测量有着重要的意义。针对直流高压电源输出电压极高的特点,采用电容电阻法进行测量。设计了一种实验测量电路,并选取适当的电路器件参数。之后获得了纹波的波形和频谱,对纹波进行分析,经过方和根计算后得出纹波电压的有效值及峰值。进一步阐述了纹波的本质,为以后降低高压电源的纹波电压提供了可靠的依据。该测量方法测量简便、快捷高效并且测量结果准确。     

离子注入机高压舱参数光纤隔离遥控方法的研究

２８０ｋＶ全离子注入机由处于高压舱内的离子源、磁分析器及其与高压电极相连的加速管、四极透镜、扫描装置和靶室等部件组成，如图１所示．从离子源引出的离子束先经磁分析器分选，经高压加速系统使带电粒子加速到一定能量后，再经四极透镜传输到扫描系统，最后轰击到靶...     

射线管脉冲高压电源设计研究

脉冲高压电源在电场杀菌、等离子发生器、激光技术等领域有着十分广泛的应用作用,特别是在应用测井技术中还需要借助专门的脉冲和测量时序。在实际运用的过程当中,应当将离子源电压控制在1.5～2.5kV范围内,当供电电压的数值处在一定的范围内时,可以适当地调节电压。当电子源的电压数值较高时,中子射线管内部的气体会受到电离现象的影响,同时在较短的时间内释放出中子。根据上述研究,在该文中,我们提出了一类新型的高压电源,即通过单向反激逆变电路、半臂逆对称倍压整流电路来增强电压的稳定性能,实现高压电源状态下的斩波功能,围绕着中子射线管脉冲高压电源的设计进行分析,以便充分了解该设计是否具备足够的实践价值。     

50kV直流高压电源系统

本系统采用交流220V供电,经过将压、整流、升频、升压后,倍压整流,达到产生直流高压的目的。系统采用单片机控制,可远程操作。本文对系统各环节的设计原理作出了详细说明。     

静电领域的脉冲高压电源

介绍国内外几种典型的脉冲高压电源,并对它们的线路原理和性能特征进行比较和讨论.为正确选择及合理使用脉冲电源提供参考,同时也为研制新型高压电源提出一些建议.     

高压电源介质阻挡放电研究

本文作者介绍了介质阻挡放电产生等离子体采用先进软开关技术的大功率高频高压电源,频率从10Hz～50kHz连续可调,体积小,控制方便.实验证明,该装置响应快,运行稳定,给介质阻挡放电研究提供了良好的条件.     

一种高频高压电源研制

高频高压电源应用领域越来越广,如材料改性、金属冶炼、环境保护等.本设计采用220 V交流输入,经整流成直流后,通过直流斩波调压,再通过IGBT逆变为交流,最后通过电感滤波、高频变压器升压来实现输出为高频高压的正弦波.研究获得参数范围为电压峰-峰值为0~30 kV、频率为10~30 kHz和功率为2 kW的高频高压电源.     

电离层光度计中的高压电源设计

利用SG1525芯片来实现电离层光度计上的高压稳压电源。高压电源由SG1525芯片搭建的脉宽调制(PWM)电路、功率开关管、高频变压器、RC滤波电路和取样反馈电路组成。重点介绍了所搭建的脉宽调制电路,分析了影响电路最佳工作频率的因素,给出了各部分的设计参数和测试结果,最后总结了利用PWM来实现高压电源的注意事项。经过试验测定,在负载电流小于0.741mA的条件下,高压电源稳定在-1700V,满足设计要求,可用于电离层光度计中。     

离子注入杂质分布

本文在林德哈德投影射程理论(LSS理论)的基础上,考虑了离子注入的同时产生的扩散效应,给出了离子注入晶体中的杂质浓度分布为高斯函数和余误差函数。从而定性地解释了杂质浓度分布实验曲线比LSS理论曲线多出的“尾巴”。