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相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 54 毫秒
1.
【目的】从原子层次分析金属Al诱导Si晶化的物理过程与机理。【方法】运用第一性原理计算方法,对Al/Si异质非晶薄膜在热处理过程中Si的晶化过程进行理论计算与模拟。【结果】结果表明,Al/Si异质薄膜在热处理过程中Al、Si原子发生了互扩散现象。随热处理时间的延长,膜层系统进入能量更低较为稳定的状态。Al原子逐步上移,Si原子逐步下移,在结构演变的过程中逐步实现Al/Si异质膜层的翻转。【结论】Al原子引起Si原子之间成键状态的变化,Al原子的库仑屏蔽作用使得Si—Si键的强度减弱,Al原子扩散进入Si层具有能量优势,降低了Si的晶化能垒,有利于Si原子的迁移并结晶。  相似文献   

2.
本文采用机械合金化法(MA)制备Fe-Ti-Cu系三元非晶合金.利用X射线衍射仪(XRD)和振动样品次强计(VSM)对样品的结构及磁性能进行测试,结果表明:Fe、Ti、Cu元素之间发生相互扩散,当扩散速度增加到一定程度,来不及形成有序结构,而形成Fe-Ti-Cu非晶合金.球磨得到的Fe-Ti-Cu非晶合金在高温下发生晶化,最后晶化的产物为FeTi、Fe2Ti、CuTi2的混合物.Fe-Ti-Cu非晶合金在高温下的磁性能随晶化产物的不同而变化.  相似文献   

3.
本文利用DTA、XRD并结合热处理方法研究了用机械合金化方法制备的Fe50Ti50非晶态合金的晶化过程,分析了非晶Fe50Ti50的晶化机制。  相似文献   

4.
李明岩  王潇  孙亚明  魏茂彬  于万秋  华中 《松辽学刊》2010,31(2):118-119,122
采用单辊快淬法制备Fe75Nb8B15Zr2非晶合金,对该非晶合金进行不同温度的等温退火,研究其晶化过程及结构变化.利用示差热分析仪(DTA)确定样品的退火温度,利用X射线衍射(XRD)测试其相结构.结果表明:Fe75Nb8B15Zr2合金在快淬速率为38 m/s时呈完全非晶状态,随着退火温度的升高,α-Fe相逐渐析出,并伴随有硼化物(Fe3B和Fe2B)析出.Fe75Nb8B15Zr2非晶合金的晶化过程:非晶→非晶+α-Fe→α-Fe+Fe3B→α-Fe+Fe3B+Fe2B.  相似文献   

5.
纳米多层膜和复合超硬涂层的研究进展   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文综述了近年来纳米多层膜和复合超硬涂层研究的最新进展,详述了纳米多层膜和复合超硬涂层的致硬机理和设计方法,分析了Ti/TiN、氮化物/氮化物多层膜和Ti-Si-N及Ti-Si-N系复合膜的最新研究现状,指出了今后纳米多层膜和复合超硬涂层的研究方向。  相似文献   

6.
应用机械合金化法(MA)制备了Ti50Fe50-xCux(x=5%、10%、20%)三元合金,通过XRD、DTA等测试手段,研究MA过程中样品的相结构与热稳定性的变化,进而探讨第三组元Cu对固态反应过程及产物结构的影响.研究结果表明:Cu的含量并未明显改变Ti50Fe50-xCux(x=5%、10%、20%)的机械合金化过程,只是所得非晶产物并非为单一的非晶相,其中含有一定量的微晶及纳米晶,而使非晶相的晶化有所减慢.  相似文献   

7.
采用机械合金化法制备了Fe87-xCuxZr7B6(x=0,1)纳米晶合金.通过X射线衍射、差热分析、磁性能测试,研究了两种合金的结构、热稳定性及磁性能.结果表明:球磨40h后,Fe87Zr7B6和Fe86Cu1Zr7B6均形成单相bcc纳米晶过饱和固溶体;相比之下,Fe86Cu1Zr7B6比Fe87Zr7B6具有更高的热稳定性和软磁性能.  相似文献   

8.
Fe50Ti50非晶合金的高温高压研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
刘惠莲  刘永胜  王佐成  华中 《松辽学刊》2003,24(3):10-11,14
对用机械合金化方法制备的Fe50Ti50非晶合金的高温高压性质进行分析,结果表明高温与高压均有利于非晶合金的晶化。  相似文献   

9.
采用微重力落管法制得了Nd60AltoFRoCoto非晶薄片,利用X衍射(XRD)分析了Nd50Al10Fe2OCo20非晶薄片的结构特征,用振动样品磁强计(VSM)研究了其磁性能.结果表明微重力落管法制得的非晶薄片具有硬磁性,与快速非平衡凝固(如甩带法)试样的XRD相比.尽管其曲线还是较为典型的非品相漫敞衍射峰,但已有少量的不规则的类似晶化的突起小峰,表明该非晶片中已经有微量品态合金或者细小品粒析出.初步分析可能是生成了类似于亚稳A1相的短程有序原子团簇或者足较大尺寸的纳米晶,这种短程有序原子团簇或纳米晶是Nd60Al10Fe20Co10非品薄片显示硬磁性的主要原因。  相似文献   

10.
运用LBL法将同多酸Na4W10O32(简记为W10)和聚阴离子PEI沉积到多层膜中,进而制得{PEI/[W10/PEI]n/W10}多层薄膜,用UV-vis光谱监测整个膜增长过程,并研究了多层膜修饰的ITO电极的电化学性质.以具有分析价值的化合物NaNO2为底物,研究了多层膜的催化性质,并通过安培计时法进行了进一步的研究.研究结果表明,多层膜对NO2-具有优良的电催化性能,且具有较低的检出限和较高的灵敏度.作为一种原料简单、制备简易的复合膜电极,有望在传感器领域得以应用.  相似文献   

11.
该文从离子电流密度空间分布函数的角度出发,针对自由电弧沉积和磁场控制电弧沉积两种情况,分别提出了单斑点和多斑点计算模型,进行了平面基片上真空电弧沉积的金属薄膜厚度分布的计算。计算结果表明,自由电弧沉积的膜厚分布曲线存在峰值现象,而磁控电弧沉积的膜厚分布曲线可使该峰值现象得到消除;同时,磁控电弧沉积的膜厚分布均匀性与阴极半径和基片配置距离密切相关,当两者比值选取适当时,可获得较均匀的膜厚分布;旋转基片上所获得的膜厚分布均匀性较之静止基片上获得的膜厚分布均匀性要好。理论计算值与实验测量值吻合。  相似文献   

12.
采用磁控溅射方法制备Mo/Si多层膜。通过小角X射线散射图证明该多层膜是原子水平的,界面清晰,与设计周期基本相同。通过X射线衍射方法检测了该多层膜的组成和结构,同时对Mo/Si多层膜的位错密度等参数进行定量研究。结果表明,该超晶格的位错密度随周期厚度的减小而增大,晶粒尺寸随周期厚度的减小而减小。  相似文献   

13.
用波阻抗方法对具有“周期”性介质层的λ0/4膜系进行了研究,对不同层数的ZnS-MgF2λ0/4(λ0=0.46μm)膜系给出了一些计算结果,由计算结果可见,当采用奇数层λ0/4膜系,层数愈多,比值εh/ε1较大时,反射系数Г0(0)接近于-1,反射率愈大;当采用偶数层λ0/4膜系,层数愈多,比值εh/εl较大时,反射率愈大,但较奇数层变化缓慢,反射系数Г0(0)接近于+1。  相似文献   

14.
用Mullins和Sekerka的线性动力学理论定性探讨了Te溶液生长半磁半导体Cd1-xMnxTe时固-液界面的稳定性,并在自行设计的旋转式液相外延装置中,用Cdte作籽晶,利用失稳小平面的长厚,富Te溶液生长了Cd1-xMnxTe晶膜,其面积为0.5cm^2,厚度 ̄0.4mm,分析了界面能各向异性的影响及晶膜表面形貌呈波纹状的原因,最后探讨了获得稳定液相外延的条件。  相似文献   

15.
采用机械合金化法制备Fe68Zr20-xNbxB12(x=0,5,10,15)合金粉末,利用XRD、SEM和DTA等测试手段对该合金系进行测试,研究Nb含量对FeZrNbB合金系的结构及晶化模式的影响.结果表明:添加5at%的Nb元素抑制非晶合金的形成,Nb含量为10,15at%时,又促进了非晶合金的形成;随Nb含量的增加,颗粒尺寸先减小后增加;Nb含量的增加使晶化模式由一次晶化向共晶晶化转变.  相似文献   

16.
用Mullins和Sekerka的线性动力学理论定性探讨了Te溶液生长半磁半导体Cd_(1Mn_xTe时固-液界面的稳定性.并在自行设计的旋转式液相外延装置中,用CdTe作籽晶,利用失稳小平面的长厚,富Te溶液生长了CdMnTe晶膜,其面积为0.5cm ̄2,厚度~0.4mm.分析了界面能各向异性的影响及晶膜表面形貌呈波纹状的原因,最后探讨了获得稳定液相外延的条件.  相似文献   

17.
吴洁  王萌 《河南科技》2023,(20):134-138
【目的】揭示隔热窗膜近几十年的发展态势,研究隔热机理及工艺路线的演变。【方法】依托专利和期刊检索工具,对最早的多层复合隔热膜、磁控溅射/蒸发镀膜的无机隔热膜、原色膜/染色膜、涂布的隔热透明涂料,后期的智能窗膜进行系统全面的检索和多维度的分析研究。【结果】以上技术解决了汽车和建筑用隔热窗膜领域长久以来的隔热、环保、防晒等问题。【结论】国内隔热窗膜的相关企业应当加强专利布局,在隔热窗膜领域、待开拓的市场地域进行有针对性的专利布局,进行海外专利风险研判。  相似文献   

18.
本文给出了Te,Dy和Au的KLLAuger电子能g的相对论的Hartree-Fock-Slater的计算值,并与实验值作了比较,两者符合的较好对于Te,Au偏离在3/1000以内,对于Dy其偏离在8/1000以内。结果表明此法是从头计算法中较为适合的方法。  相似文献   

19.
通过铝热反应制备了Cr质量百分比为5%、10%、15%的块体纳米晶Fe3Al材料,并对材料进行了XRD、EPMA、TEM等分析表征.结果表明,随着合金元素Cr的加入,块体纳米晶Fe3Al材料的晶粒尺寸先减小后增大,材料的硬度也随着Cr含量的增加先减小后增大.  相似文献   

20.
利用反应磁控溅射方法制备了一系列不同调制比的多晶CrN/SiNx纳米多层膜.对多层膜在900 ℃条件下进行真空退火4个小时.结果发现,当调制周期中SiNx的层厚较小时,退火后发生了明显的界面融混;而当调制周期中SiNx层厚较大时,退火后不但没有发生界面融混,反而使界面变得更加清晰,这一变化和界面处CrSiyN1-y相的析出有关,相的析出有利于界面的平滑和多层膜热稳定性的提高.  相似文献   

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