用TiCl_3低温化学气相沉积TiN的实验研究

运用热力学对用ＴｉＣｌ３为钛源在低温下化学气相沉积ＴｉＮ的可行性进行了论证，着重介绍了实验研究及实验结果。在所设计的ＴｉＣｌ３生成以及ＴｉＮ形成的实验装置上，通过对ＨＣｌ（ｇ）与ＮＨ３的流量和沉积总压强的调节与控制，在较低的温度（５５０℃）下，在钢基材料上获得了ＴｉＮ表面涂层。此研究旨在推动钢制工模具低温化学气相沉积ＴｉＮ涂层的应用     

微波等离子体化学气相沉积合成TiN超细颗粒

热力学计算表明，Ｈ２，Ｎ２的过量有助于提高ＴｉＮ的产率，但能耗也相应增加。为此考察了温度，流量，ＴｉＣｌ４携带量，混合方式对产物性能的影响。结果表明，流量增加，温度升高，ＴｉＣｌ４携带量增加，混合愈好，则产物粒径愈小。在此基础上采用微波等离子体化学气相沉积法，合成了粒径为１２３－２８４ｎｍ的ＴｉＮ超细颗粒     

辅助加热PCVD—TiN薄膜的制备及影响因素

研究了反应气体对辅助加热ＰＣＶＤ－ＴｉＮ薄膜制备的影响,结果表明,提高反应气体中ＴｉＣｌ４的含量可以提高薄膜的沉积速率,而且对薄膜内的氯含量没有影响。提高反应气体中的Ｖ（Ｈ２）／Ｖ（Ｎ２）可以略低薄膜内的氯含量,在Ｖ（Ｈ２）／Ｖ（Ｎ２）＝２,ＴｉＣｌ４的体积分数为１０％左右时ＴｉＮ薄膜的硬度最高,随着反应气压的升高,沉只速率呈正比上升而显著硬度却下降。     

含氧和氮的四氯化钛络合物催化双环戊二烯开环移位聚合 …

报道了ＴｉＣｌ４．２「Ｃ６Ｈ８Ｏ」（１）;ＴｉＣｌ４．２「Ｃ８Ｈ１１Ｎ」（２）;ＴｉＣｌ４．２「Ｏ（ＣＨ２）４ＣＨ２」（３）．ＴｉＣｌ４．２「Ｃ６Ｈ７Ｎ」（４）ＴｉＣｌ４．２「Ｃ５Ｈ５Ｎ」（５）;ＴｉＣｌ４．２「Ｃ４Ｈ８９Ｏ２」（６）催化双环戊二烯开环移位聚合反应并对６个影响因素进行了讨论,由此得到优化的反应条件。     

含氧和氮的四氯化钛络合物催化双环戊二烯开环移位聚合反应的研究

报道了ＴｉＣｌ４·２［Ｃ６Ｈ８Ｏ］（１）;ＴｉＣｌ４·２［Ｃ８Ｈ１１Ｎ］（２）;ＴｉＣｌ４·２［Ｏ（ＣＨ２）４ＣＨ２］（３）;ＴｉＣｌ４·２［Ｃ６Ｈ７Ｎ］（４）;ＴｉＣｌ４·２［Ｃ５Ｈ５Ｎ］（５）;ＴｉＣｌ４·２［Ｃ４Ｈ８Ｏ２］（６）催化双环戊二烯开环移位聚合反应并对６个影响因素进行了讨论,由此得到了优化的反应条件。     

离子镀（Ti,Al）N的抗氧化性和抗热疲劳性能

对采用多弧镀方法在ＣＨ７５热作模具钢表面沉积的ＴｉＮ与（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜的抗氧化性与抗热疲劳性能进行了研究。     

等离子化学气相沉积硬膜技术研究

用等离子体化学气相沉积（ＰＣＶＤ）技术制备了ＴｉＮ、ＴｉＣ、Ｔｉ（ＣＮ）和（ＴｉＳｉ）Ｎ膜及其组合的多层膜。ＰＣＶＤ具有很好的覆盖性，ＰＣＶＤ－ＴｉＮ具有很好的耐磨、蚀性，膜与基体结合良好，因而用ＰＣＶＤ法在高速钢刀具、模具及轴承上沉积ＴｉＮ可大大提高其使用寿命。ＰＣＶＤ－ＴｉＮ和Ｔｉ（ＣＮ）膜无明显柱状晶，其显微硬度高于ＴｉＮ亦可用于高速钢刀具、模具上提高其使用寿命。ＰＣＶＤ－（ＴｉＳｉ）Ｎ，晶     

用CVD法在陶瓷上沉积金色氨化钛装饰涂层

本实验实现了以 ＣＶＤ*法采用 ＴｉＣ１４、 ＮＨ３、 Ｎ２及 Ｈ２在陶瓷基体上产生金色的氨化钛涂层。适宜的沉积温度范围为８００～８５０℃。各气体反应物的流量比较小时，可以获得令人满意的、光亮的金色氨化钛涂层。陶瓷上沉积的金色涂层的组成接近化学计量的ＴｉＮ，即Ｎ／Ｔｉ原子比接近１：１。晶格常数ａ０＝４．２４１Ａ。光亮度达到亮金水平。由于氮化钛硬度高，金色氮化钛涂层比真金涂层具有较高的耐磨性，并且它的化学稳定性也高。     

Al_2O_3 弥散 Ti(C,N)基金属陶瓷刀具

在Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）基金属陶瓷中，通过加入Ａｌ２Ｏ３弥散颗粒，使材料的硬度和高温性能都得到提高，从而获得更好的切削耐磨性。研究结果表明：Ａｌ２Ｏ３的引入使Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）基金属陶瓷的常温强度和韧性有所下降而硬度和高温力学性能得到了改善。切削试验表明：Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）－Ａｌ２Ｏ３系金属陶瓷比硬质合金、Ａｌ２Ｏ３－ＴｉＣ复合陶瓷刀具有更好的切削性能。ＳＥＭ观察表明：在Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）－Ａｌ２Ｏ３金属陶瓷中，Ａｌ２Ｏ３与Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）有相互抑制晶粒生长的作用，使Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）基金属陶瓷的晶粒更细化     

由二氧化钛制备三氧化二钛优化工艺条件的研究

采用正交试验法,研究了影响制备Ｔｉ２Ｏ３产率的主要因素,虽然加入ＴｉＣｌ４可以降低反应温度,但是也使Ｈ２还原ＴｉＯ２的过程受到Ｈ２还原ＴｉＣｌ４反应的干扰。其中,ＴｉＯ２在电阻炉恒温区中的位置和反应温度影响较显著。在５０ｇ批量的制备中,可以得含Ｔｉ３＋质量分数为９９．９％至１００．６％的Ｔｉ２Ｏ３。