等离子体界面附近短脉冲激光场中运动电子的能量增益

分析了等离子体界面附近短脉冲激光场中等离子体的集体效应和运动电子的辐射效应。导出了运动电子被激光弹推出光场时的能量增益。     

激光作用下硅靶材的等离子体光谱强度分析

建立一套激光等离子体光谱测量实验装置,以Nd∶YAG调Q倍频固体激光器为激发光源,硅作为样品.获得了不同激光能量时的硅样品原子辐射谱图,从中提取硅在634 nm处的等离子体谱,分析等离子体谱强度的变化趋势,得到的实验结果与理论分析符合的很好.     

ns级激光脉冲作用下CCD响应的实验研究

以1 064 nm,9.733 ns的脉冲激光作为光源,经积分球匀化后辐照于CCD,同时用光功率计测试进入CCD的脉冲激光功率。实验发现,当入射激光功率超过一定阈值,CCD某些像元的光电响应特性会发生改变,导致CCD的响应快速进入死区。当入射激光功率继续增大时,CCD将发生溢出及过饱和现象。实验中,观察并测量到了CCD发生光电响应特性改变、溢出及过饱和时的现象及对应的功率阈值。     

激光脉冲与等离子体相互作用中高次谐波的产生

利用强激光照射金属材料,致使材料表面大量分子电离产生等离子体．该文从电子的运动方程出发,求解出了电子在激光场中运动的位置函数的解析解．发现除了包含基次及二次谐波外,它还包含有三次、四次等高次谐波．这说明激光脉冲与等离子体相互作用能够产生高次谐波．谐波次数越高,其系数越小．该文比较了基次与二次谐波的系数,其比值p＞1,与事实相符合。     

相对论长脉冲激光在非均匀等离子体中的传播特性

通过解析和数值方法研究了相对论长脉冲激光在非均匀等离子体中的传播.首先,得到了激光脉冲在均匀等离子体中传播的解析解,并通过数值模拟进行了验证.结果表明,长脉冲激光在均匀等离子体中传播时,脉冲宽度的变化不影响激光强度空间分布的变化;然而,激光脉冲的强度和电子密度的空间分布可以通过调制等离子体频率来调节.在具有高斯型密度分...     

脉冲激光烧蚀过程中等离子体屏蔽的形成

脉冲激光烧蚀技术被广泛应用于诸多领域,特别是在微电子/光电子器件、纳米材料制备以及新型元器件制备等领域有着重要的地位,并具有很大的发展潜力。对脉冲激光烧蚀过程中等离子体屏蔽现象的分析将有利于激光烧蚀技术的进一步发展。本文建立了一维半导体Ge激光烧蚀模型,对紫外激光烧蚀半导体Ge的过程进行了模拟,并对等离子体屏蔽现象前后蒸汽的数密度、速度和温度的时空演化进行分析,观察到冲击波形成过程,并发现蒸汽密度,温度,速度的爆发不是同时的。     

激光致等离子体及其对激光加工的影响

论述了激光致等离子体机理和激光致等离子体在光束一工件能量耦合过程中的作用。对等离子体振荡与逆韧致副射吸收作了物理讨论，导出了等离子振荡频率和吸收系数公式。     

超短激光脉冲与部分离化等离子体的相互作用

第一次讨论了超强超短激光与部分离化等离子体相互作用中，束缚电子的振荡辐射和电离问题。在该文给出的模型下，激光有质动力的作用将对束缚电子的振荡辐射和电离条件产生修正。     

斜入射激光脉冲与稠密等离子体相互作用产生的阿秒脉冲

利用一维粒子模拟程序研究和比较了斜入射和垂直入射激光脉冲与稠密等离子体相互作用得到的阿秒脉冲以及激光强度对阿秒脉冲转换比率的影响.同样参数下,斜入射的阿秒脉冲转换比率明显高于垂直入射的情况,滤波后得到的阿秒脉冲振幅比较大,而脉冲串中阿秒脉冲的个数则是垂直入射时的一半.根据振荡镜面模型对两种情况进行了分析,由镜面振荡方程可以对结果给出解释.保持等离子体密度不变,增大入射激光强度时,随着滤波次数的增加,斜入射与垂直入射的阿秒脉冲的转换比率逐渐趋于相同.300次以上高通滤波后我们得到了处于X射线范围的阿秒脉冲.     

玻璃态碳的激光质谱研究

碳原子簇的结构多年来吸引着理论与实验化学家的兴趣。我们以脉冲激光作用于石墨和主要为石墨微晶的无定形碳(木炭,焦炭等),对所产生的碳原子簇离子的质谱加以分析,发现当碳原子数n=13时,碳原子簇的结构从链状向环状转化,为了进一步确定碳原子簇的结构规律,又选取了晶体构型不同的玻璃态碳为样品,以相同的方法研究。     

390—470nmAl的激光等离子体光谱实验观测

利用调ＱＮｄ：ＹＡＧ激光装置，测量了３９０～４７０ｎｍ范围内ＡｌⅠ—ＡｌⅢ的激光等离子体光谱，并报道了压强为０１ＭＰａ时Ｏ２气氛下激光等离子体谱线的变化情况     

利用LIF法诊断微波等离子体鞘层

简要地阐明了利用激光诱导荧光法（ＬＩＦ）诊断等离子体特性的原理，分别对二能级情况（共振荧光）与三能级情况（非共振荧光）采用饱和荧光法测量粒子浓度的公式进行了推导。在此基础上，提出了利用ＬＩＦ法测量微波等离子体鞘层（特别是高压脉冲动态鞘层）的组分及其空间分布与能量分布的实验方法。     

大尺寸磷酸盐激光钕玻璃批量制备技术研发及应用

为满足神光装置发展和未来国家专项工程对大尺寸激光玻璃的大量需求,上海光学精密机械研究所研发了以磷酸盐激光钕玻璃连续熔炼技术为核心的大尺寸激光钕玻璃批量制备技术.大尺寸磷酸盐激光钕玻璃批量制备技术是全新的工艺技术,先后攻克了除杂质、动态除羟基、除铂颗粒、小流量大尺寸成型、隧道窑退火过程玻璃易炸裂以及包边和性能检测等一系列关键单元技术,激光玻璃的所有指标包括荧光寿命、光学损耗、光学均匀性、包边剩余反射率等均达到神光装置的使用要求.使中国成为继美国之后第二个拥有大尺寸激光钕玻璃批量制造能力的国家.采用该技术已成功研制了一千多片米级尺寸N31型激光钕玻璃,并且应用于我国的神光系列装置,在中国工程物理研究院实现了1 053 nm激光波长5 ns脉冲宽度单束能量19.6 kJ激光输出.采用本技术研制的激光钕玻璃在国防、强场激光科技前沿、激光加工和医疗领域都得到推广应用.     

紫外激光照射对硅酸铅玻璃薄膜吸收谱的影响

采用溶胶-凝胶法在二氧化硅玻璃基底上制作了硅酸铅玻璃薄膜，并对不同波长的紫外光照射后硅酸铅玻璃薄膜的吸收光谱进行了研究．结果表明，硅酸铅玻璃在235m附近的吸收峰受308m和266nm的紫外光照射后没有变化，但受248nm的紫外光照射后吸收峰出现了光漂白现象。     

激光取样对LMES分析的影响

本文以玻璃基片为样品,利用扫描电镜和x能谱仪,对激光取样量、激熔穴周围的沉积层和蒸发物收积层进行了测量。并讨论了激光取样对激光显微光谱分析的影响。     

激光诱导Cu等离子体发射光谱的实验研究

利用Q－开关Nd：YAG激光器产生的1．06μm、10ns的脉冲激光聚焦在空气中的Cu靶上，观测了激光诱导的Cu等离子体发射光谱．采用激光能量为45mJ／pulse，分析了波长为440～540nm的空间分辨发射光谱．在局部热力学平衡(LTE)条件近似下，根据谱线的相对强度，得到等离子体电子温度约在10^4K以上．给出了靶面附近电子温度和谱线半高全宽的空间演化规律．     

纳秒激光加工生成硅量子点的发光性质研究

该文报道氧气、氮气或空气等不同氛围中用纳秒脉冲激光在硅基上加工生成量子点结构,发现这些样品在700 nm波长附近均有增强的光致发光(Photoluminescence,PL),且各样品的PL峰很相似;经适当退火处理后,在某些样品上观察到随机受激发光.通过第一性原理计算,发现各种量子点结构表面的成键类型与密度是形成PL发光增强的关键,并由此提出相应的物理模型.     

激光清洗原理及应用

本文简述了激光清洗的原理及方法,并介绍了激光清洗在轮胎模具、光学元件、古建筑和艺术品等方面的应用研究。