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《中国新技术新产品精选》2001,(Z1)
我国首次合成纳米级金刚石晶体薄膜香港城市大学国际首家“超金刚石及先进膜研究中心”检测发现:深圳市雷地科技实业有限公司在常温下生产的金刚石膜是国际上首次发现的纳米级金刚石材料,这是我国新材料领域的重大突破,这一成果将使金刚石膜材料的应用前景更加广阔。纳米级金刚石晶体膜除具有金刚石的高硬度、化学惰性等优良性能外,还具有自然清洁、自然灭菌、耐磨 相似文献
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《中国新技术新产品精选》2001,(1)
近日,香港城市大学国际首家“超金刚石及先进膜研究中心”检测发现:深圳市雷地科技实业有限公司在常温下生产的金刚石材料,这是我国新材料领域的重大突破,这一成果将使金刚石膜材料的应用前景更加广阔,标志着人类应用钻石材料时代的到来。纳米级金刚石晶体膜除具有金刚石的高硬度、化学惰性等优良性能外,还具有自然清洁、自然灭菌、耐磨损、冷阴极场发射及阻隔热辐射等纳材料性能,应用这一新材料将成功推出最新高科技产品——场发射平面显示器,其清晰度将比目前显示技术提高数千倍,将 相似文献
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《延安大学学报(自然科学版)》2015,(2)
研究了铪掺混与钛掺混对纳米金刚石场发射特性。根据金属铪与钛的不同性质,分别对纳米金刚石掺混铪和钛,通过电泳法在钛基底上制备了纳米金刚石复合阴极样品,测试了其场发射性能。通过实验发现,掺钛相比纯净的纳米金刚石涂层的场发射特性有所提高,并且钛掺混纳米金刚石涂层的均匀性和稳定性比较好,而掺铪场发射特性下降。分析表明这与金属铪和钛的特性有关。 相似文献
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简要分析了 FED场发射显示器的工作原理 ,陈述了非晶金刚石薄膜特殊的优点后 ,对用金刚石薄膜制作场发射器的可行性进行了讨论 ;还介绍了利用金刚石薄膜和阳极选择的方法对Spindt FED作了改进 ,从而使平面 FED更容易实现。 相似文献
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对等离子增强化学气相淀积多晶金刚石薄膜在N离子注入前后的场发射特性进行研究。研究发现,同一工艺条件下的淀积的多晶金刚石薄膜样口的发展射特性在离子注入前有较大的差异,离子注入后金刚石石薄膜场发射特性的差异基本上得到消除,而且在高场下发射电流密有一定程度的提高,场发射特性得到较大改善。 相似文献
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主要论述金刚石薄膜场致发射材料的性能,包括了多晶金刚石薄膜、类金刚石薄膜(DLC)、纳米结构金刚石薄膜、用酸处理后的金刚石薄膜等的性能,给出了几种典型的金刚石薄膜场致发射阴极结构。 相似文献
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首次利用前馈3层神经网络模型,结合薄膜场发射的特性,建立了场发射薄膜功函数的神经网络预测模型,并用金刚石薄膜的实验数据样本进行了验证,结果表明,该模型预测的相对误差小于6.4%,具有很好的预测性能,从而可以通过已知薄膜的功函数来预测未知薄膜的功函数。 相似文献
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刘丽丽 《沈阳师范大学学报(自然科学版)》2008,26(3)
研究了采用化学镀方法处理的金刚石颗粒场发射性能;并通过计算对金刚石薄膜场发射特点和场发射机制作出尝试性的理论探讨.经过处理,化学复合镀金刚石颗粒表现出良好的场发射性能:在真空度为10-4Pa的测试室中,其阈值电压为5V/μm,实验表明金刚石表面的镀银层有利于场发射的进行. 相似文献
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微波等离子体化学气相沉积是制备微/纳米结构的方法之一,使用该方法在陶瓷衬底上制备微米金刚石聚晶材料薄膜。利用扫描电子显微镜表征了材料的表面形貌,单元尺寸一致,分布均匀。使用X射线衍射和拉曼光谱分析了薄膜的结构,测试了薄膜材料的电子场发射性能。数据表明:制备的薄膜材料开启电场为1.25V/μm,在2.55V/μm的电场下,其电子场发射电流密度达到6.3mA/cm2。 相似文献
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系统研究了在微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)系统中,甲烷浓度、沉积气压、气体流量比、衬底的预处理等参数工艺对金刚石薄膜质量的影响,不同样品的扫描电镜(SEM)图片表明上述参数工艺对金刚石薄膜的微观形貌如:晶粒尺寸、均匀性、膜的连续性、致密性等具有重要影响.金刚石薄膜样品尖锐的1332cm-1Raman峰表明金刚石膜具有很高的晶化质量,与SEM图片一致.最后研究了样品的场发射特性,获得了较低的发射阈值电压4.4V/μm,电压为650V时,得到较高的约128mA/cm2的发射电流密度. 相似文献
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金刚石粉阴极的均匀性及其场发射性能研究 总被引:2,自引:2,他引:0
目的研究金刚石场发射阴极处理工艺对场发射电流和阈值电压的影响。方法设计了一个将金刚石粉热粘到金属钛表面的工艺,用XRD和SEM分析不同的金刚石纳米粉超声分散液时热粘结的状况:研究样品的场发射性能。结果用丙酮分散时的粘结表面非常均匀;经氢等离子体处理的表面均匀样品场发射阈值电压为0.5V/μm。结论丙酮分散的纳米金刚石粉热粘接到钛金属表面构成的金刚石粉场发射阴极可以降低发射阈值电压;不同等离子体处理工艺可以改变场发射电流。 相似文献
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目的研究纳米金刚石阴极电泳工艺对场发射电流的均匀性、稳定性以及场发射特性的影响。方法用金相显微镜、扫描电子显微镜、X射线衍射和拉曼光谱观察了涂层的形貌和结构,经过高温真空退火后测试场发射性能,分析样品发光照片与涂层均匀性的关系,探讨热处理后场发射性能提高的机理。结果基底钛预处理要保持适当的平整度及光滑度,过度粗糙及过度光滑都不利于涂层的均匀性沉积。在同样的工艺条件下采用异丁醇溶剂配方后的金刚石涂层表面均匀性最好,场发射阈值电场最小,为5.5V/μm;当电场强度为15V/μm时,场发射电流密度为85μA/cm2,而且场发射电流的稳定性最好,发光效果最佳。结论异丁醇分散的电泳液制备的纳米金刚石阴极涂层均匀性最好,热处理后场发射性能最佳。 相似文献
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纳米金刚石场发射显示器集成化驱动系统研制 总被引:1,自引:0,他引:1
目的 结合纳米金刚石场发射显示器的特点,研究与纳米金刚石场发射显示器适配的集成化驱动电路.方法 以集成数据驱动芯片HV632PG和Hv5308为核心,搭建灰度调制和扫描显示电路;以半桥驱动芯片IR2235为核心,搭建前后级低高压隔离转换电路.结果 集成驱动系统输出电压可达1 000V,灰度等级达256,能够实现简单图形和字符的动态显示,整体性能良好.结论 集成化驱动系统线路简单、工作可靠,能满足小屏幕场发射显示器单色显示的任务,为金刚石场发射显示器的产品化打下一定的基础. 相似文献
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采用磁控溅射工艺制备了TiN薄膜,借助X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、原子力显微镜和纳米压痕仪等设备,研究了薄膜制备工艺参数(如基体温度、溅射功率、基体负偏压等)对薄膜的相结构、表面微观形貌、纳米硬度、弹性模量等的影响。结果表明:TiN薄膜为多晶态,其溅射功率、基体负偏压和基体温度等条件对薄膜的形貌、结构及纳米硬度、弹性模量等的影响比较复杂。 相似文献