等离子体镀光学薄膜的数学模型

从电离气体等离子体的基本性质入手,分析了处于等离子体中的基片表面鞘层及基片悬浮电位的形成,计算了正离子进入势垒到达基片的条件、基片的悬浮电位、到达基片的正离子流的密度,以及入射基片的正离子的能量,从而建立起等离子体镀光学膜的数学模型。     

光学薄膜镀制技术的对比研究

本文介绍了两种光学镀膜真空淀积技术——离子辅助淀积和反应离子镀,并详述了近年来的应用及进一步的发展。     

低温等离子辅助上呼吸道成形术治疗OSAHS的疗效研究

目的：探讨低温等离子辅助上呼吸道成形术（CAUP）治疗阻塞性睡眠呼吸暂停低通气综合征（OSAHS）的临床应用价值。方法：选择2007年1月-2008年1月间接受低温等离子辅助上呼吸道成形术（CAUP）治疗的42例OSAHS患者（轻度17例,中度10例,重度15例）,术后1年复查PSG,并与术前比较,依据PSG结果中AHI和最低SaO2评价总有效率,观察手术疗效。结果：42例患者术后呼吸暂停低通气指数显著减少,术前AHI均数为40．8＋87,术后一年为163±66,（p〈0．01）：最低血氧饱和度显著提高,术前最低Sa02均数为60．6±7．0,术后一年为83．5±9．0（p〈0．01）。42例患者中,治愈16例,显效11例,有效7例,无效8例,总有效率为810％。结论：低温等离子辅助上呼吸道成形术（CAUP）治疗OSAHS操作简便,对局部组织的消融效果确切、疗效满意,并发症少．可对患者不同阻塞部位同时进行治疗干预,还可作为其他治疗的补充手段,是一种有效且值得推广的手术方式．     

硅的等离子阳极氧化研究

等离子阳极化是一种先进的半导体材料氧化技术,本文评论了目前国际上等离子阳极化技术的进展,报告了我们自己的独创工作。说明了本技术用于半导体器件加工的优点与主要困难。文中较详细地说明了我们自己发展的一种射频激励的直流放电模式及根据它设计的设备。利用这种设备成功地进行了等离子阴极化,并将这种氧化物用于MOSFET的栅区。     

BaMnZnCo-W型铁氧体微波吸收特性的研究

对BaMnZn-W型铁氧体的制备和Co2+含量对其微波吸收特性的影响进行了分析研究,发现有一个2.5mm厚的涂层在11.5GHz频率左右有一较大的损耗吸收峰,峰值高达40dB.初步分析了此损耗吸收峰可能产生的机制,同时比较了在相同条件下加碳纤维前后铁氧体吸收特性的变化.     

氧化物辅助合成纳米硅线的研究

2002年8月15日～2003年8月15日，我被山东大学派往香港城市大学物理与材料科学系金刚石与超级薄膜中心(COSDAF)进行了为期1年的合作研究。主要从事氧化物辅助合成纳米硅线的生长机理的理论研究工作。     

碳纳米管中氢等离子体的介电特性及微波吸收机理研究

运用双流体理论和唯象模型,导出了碳纳米管中氢等离子体的复介电常数和微波吸收系数,构建了铁催化高压歧化生成的碳纳米管中氢等离子体的微波吸收模型,从理论上证明了铁催化高压歧化生成的碳纳米管氢等离子体中的带电粒子对微波产生的碰撞吸收是其主要微波吸收机理,揭示了铁催化高压歧化生成的碳纳米管对2.45 GHz的微波产生强烈吸收的物理机制.     

含稀土纳米材料微波吸收特性的研究

在9.3GHz频率点对稀土复合氧化物与以稀土复合氧化物为基掺杂铁粉得到的吸波材料的吸波性能进行了比较,并研究了材料粒度对吸波性能的影响。结果表明：纳米稀土复合氧化物具有优异的吸波性能,是一种有发展前景的微波吸收剂。     

音箱低频特性辅助分析软件的研究与开发

音箱的箱体参数对音箱的低频特性影响很大,为了减小音箱设计与制作过程中的盲目性,有必要研制与开发一套相关的软件对音箱的低音特性进行仿真。就音箱类比等效线路模型的建立、分析方法、开发软件的选取、界面的设计以及仿真结果作了初步的探讨。     

超越离合器辅助换挡变速器的换挡控制研究

提出一种仅用一个摩擦离合器实现无动力中断换挡的新型自动变速器——超越离合器辅助换挡自动变速器.该变速器采用摩擦离合器与超越离合器交替传递动力的方式实现连续换挡.为研究该自动变速器的换挡平顺性问题,搭建了两个挡位的6自由度变速器动力学模型,提出了换挡过程中离合器和动力源的协调控制策略,开展了仿真和台架试验研究.结果表明:所提升挡和降挡控制策略能有效降低换挡冲击,使得换挡时的冲击度保持在10m·s~(-3)以内.     

纳米级光纤探针的拉制与镀膜

光学显微镜希望能够得到更高的分辨率 ,作为高分辨率探测系统中的关键部分——纳米级光纤探针的研制则显得尤为重要 .介绍一种利用激光器加热 ,通过重物在光纤一端拉制并进行镀膜的方法 .采用该方法可得到尖端曲率半径小于 4 0 nm的光纤探计     

溶胶凝胶法制SiO2底膜的研究

本文研究了采用溶胶凝胶法制备SiO2底膜的方法,探讨了各种因素对溶胶凝胶制作和SiO2底膜质量的影响.     

化学镀铜层的表面处理

将化学镀铜层分别用浸油热处理、磷化膜处理和铬酸盐钝化处理的方法进行实验研究,结果表明：铬酸盐钝化处理是其中最好的方法。它可以提高镀铜层的表面抗氧化性能,耐磨性能以及光亮性。     

天然生漆膜化学镀镍工艺的研究

研究了天然生漆基材上的化学镀镍工艺条件,通过改变施镀工艺的pH值、温度、时间以及镀液配方中主盐质量浓度、还原剂质量浓度,得到不同条件下的化学镀层厚度、外观和镀速等实验结果.并用扫描电镜(SEM)、动态机械热性能(DMTA)、示差扫描量热分析(DSC)和热重分析(TG)等手段研究镀层的形态与性能.该工艺可在生漆膜表面镀上一层均匀、色泽光亮的金属镍膜,其粒径大小匀称、排布规整、镀层致密;生漆/镍金属复合膜的耐热性显著提高.     

热阴极鞍场离子源及其在光学薄膜技术中的应用

论述了离子束辅助蒸发光学薄膜技术对离子源的要求，给出热阴极鞍场离子源的 特性及其用于辅助蒸发光学薄膜的实验研究结果。从ＺｒＯ２薄膜的光谱特性及折射率的 测量；膜层剖面的透射电子显微镜和膜层结构的Ｘ衍射分析证实了离子束辅助蒸发对 光学薄膜特性改善的效果。     

中频反应磁控溅射Al2O3薄膜的光学性质

采用中频反应磁控溅射技术在玻璃基片上制备了Al2O3薄膜,提出了一种利用透射光谱来简单有效地分析弱吸收薄膜的光学特性及与光学相关的其他物理特性的方法.对Al2O3薄膜进行透射谱测量,通过对薄膜折射率、吸收系数、膜厚度与入射光波长相互关系的分析,获得了Al2O3薄膜在400~1 100 nm区域内的折射率、吸收系数与入射光波长的关系式,以及Al2O3薄膜厚度的计算公式.     

退火对反应离子镀ITO薄膜光学特性的影响

选用R.I.P.工艺,以Sn、In为蒸发物.以Gs-I型全息干板为基片,在200℃的条件下制备出ITO薄膜.经退火处理表明:退火有助于提高ITO薄膜的可见、近红外光的透射率,但退火温度有一阈值;退火不利于提高ITO薄膜的近红外反射率.     

化学镀Ni-B/BN自润滑复合镀层研究

以制备具有自润滑性能的新型Ni-B/BN复合镀层为目的,研究了Ni-B/BN镀液配方及工艺条件,分析了镀液稳定性的影响因素,得到了耐磨性优于Ni-B镀层的Ni-B/BN复合镀层.Ni-B/BN复合镀层性能测试实验表明该复合镀层结合力好,具有优良的耐蚀、耐磨性.     

铜镍复合化学镀

以甲醛为还原剂,ＥＤＴＡ为配位剂的碱性化学镀铜液中用添加Ｎｉ＾２＋,表面点缀镍和层状复合化学镀（镀镍、镀铜）三种方法优化了化学镀铜工艺条件,提高了不锈钢基化学镀铜层的性能。结果表明,几种方法都在不同程度上改善了不锈钢基化学镀铜层的耐磨损性能,添加Ｎｉ＾２＋与层状复合镀相结合的效果最好,镀层的耐磨损性能比一般化学镀铜层提高３５％左右。     

碳化硅薄膜的光学特性研究

采用螺旋波等离子体增强化学气相沉积(HW-PECVD)技术制备了纳米晶碳化硅(nc-SiC)薄膜,利用傅立叶红外吸收谱(FTIR)、X射线衍射谱(XRD)、紫外-可见透射光谱(UV-Vis)和光致发光谱(PL)对薄膜的结构、光学带隙、发光特性等进行了测量和分析.结果表明,所沉积薄膜主要以Si-C键合结构存在,薄膜中包含有立方结构的3C-SiC晶粒,光学带隙2.59 eV,室温下薄膜表现出强的可见蓝色光致发光,发光峰位随氙灯激发波长的增加呈现红移现象,并将此发光归因于量子限制效应作用的结果.