Mo2C膜表面粗糙度随温度和时间变化规律的研究

对以碳基金属气相沉积制备的MO2C膜表面粗糙度进行了测量；在测量基础上进行统计，找出了表面高度分布并确定表面粗糙度随时间和温度的变化规律。结果表明：MO2C膜表面粗糙化属快速粗糙化，粗糙度随时间的变化具有标度函数的特征；粗糙度随基底温度升高而增大。     

Mo2C膜脱附激活能随沉积温度的变化规律

介绍了用金属有机气相沉积(MOCVD)制备Mo2C膜的过程和对膜的颗粒粒径的测量结果,建立物理模型,导出粒子脱附激活能的计算公式,探讨了Mo2C膜的脱附激活能随沉积温度的变化.结果表明:沉积温度低于380 ℃时,Mo2C膜的脱附激活能随温度升高而增大较快;而高于380 ℃时,激活能随温度升高而增大的速度变小.     

Mo2C膜电阻率的研究

介绍了Mo2C膜的制备过程和对其电阻率的测量结果，探索了其导电机理以及沉积时间、基底温度和生长过程对电阻率的影响。利用Gibbs函数极小的原理探索了膜中Mo原子的含量随温度的变化规律，并对电阻率随温度的变化规律给予了解释。结果表明：它的电阻率取决于生长过程和Mo原子的含量；电阻率随基底温度、沉积时间呈非线性变化。     

MOCVD制备的Mo2C膜粗糙度研究

介绍了金属有机气相沉积制备Ｍｏ２Ｃ膜的过程和对膜表面粗糙度的测量结果,在测量基础上进行统计,找出Ｍｏ２Ｃ膜的高差分布;应用非平衡统计理论导出表面高差分布公式,结果表明实际测量与理论推导结果一致。     

粗糙矩形平板挤压膜的表面粗糙度效应

提出了粗糙平板挤压膜的数值分析方法，研究了不同边长比 Ｌ／Ｂ时表面粗糙度幅值和纹向对矩形粗糙平板挤压膜挤压特性的影响，表面粗糙度幅值越大，流体膜的沉降速度就越快，从而缩短了流体膜的保持时间．反之，表面粗糙度幅值越小，流体膜保持性越好。表面粗糙度纹向对挤压特性的影响与边长比有关，就流体膜保持性而言，表面粗糙度存在最佳纹向，最佳纹向参数γｏｐｔ可按近似公式γｏｐｔ＝（Ｌ／Ｂ）４，５估计，但表面粗糙度纹向的影响要小于幅值的影响。     

氮离子注入对W6Mo5Cr4V2钢表面粗糙度的影响

运用Talysurf－6型轮廓仪,详细测量和分析了氮离子注入参数对W6Mo5Cr4V2钢二维和三维表面粗糙度评定参数（如高度参数Ra、Rq、Rtm,间距参数Sm、S、λq和形状参数Δq、Tp％、Rsk、Rku等）的影响结果表明,随注入能量和注入剂量的不同,各评定参数的变化趋势也不同氮离子注入使W6Mo5Cr4V2钢粗糙度高度参数值普遍下降,间距参数值有时增大、有时减小,出现不规则变化同时对不同注入参数的注入表面还进行了自相关函数和功率谱函数分析,发现随注入能量和剂量的提高,在所观察到的频带范围内,各种频率的强度普遍降低,高频成分减少,表面自相关系数减小,使注入试件的表面变得光洁.     

板式家具构件端面粗糙度随摆放时间的变化规律

在板式家具制造过程中,粗糙度是表面质量的重要指标.将中密度纤维板裁板后放置15个不等的时间段,用轮廓法测定各个时间段的端面粗糙度特征参数.结果表明:轮廓最大高度(Ry)、轮廓算术平均偏差(Ra)及轮廓不平度平均间距(Sm)均受摆放时间的影响, Ra和Ry与时间正相关,Sm与时间负相关.裁板后,板件端面粗糙度随时间的变化呈现一定的规律性,可为后续加工时间的确定提供依据.     

Mo原子表面扩散激活能的计算及Mo2C膜成膜机理

应用Ｃｏｌｌｉｎｓ模型,计算了Ｍｏ原子表面扩散激活能。根据实验结果,论证了如下结论：在制备Ｍｏ２Ｃ膜的过程中,Ｍｏ（ＣＯ）６的变化遵从先被基底吸附,发生相变再进行级联式分解的两步机制;其成膜过程是Ｍｏ（ＣＯ）６先分解,再由Ｍｏ碳化为Ｍｏ２Ｃ成膜。用Ｇｉｂｂｓ函数最小的原理,探讨了成膜的适宜温度。     

磨削加工表面粗糙度理论模型修正方法

大多数计算磨削表面粗糙度的理论公式都是基于砂轮表面磨粒与工件表面的几何创成机理建立的.理论公式虽然计算精度较高,但由于对一些磨削条件的简化,特别是假定工件表面全部由切削过程完成而忽略了材料的塑性隆起变形对表面粗糙度的影响,使其计算结果往往小于实际表面粗糙度数值.分析了磨削加工表面塑性隆起对轮廓最大谷底高度的影响,提出了计算磨削表面粗糙度数值的塑性影响系数及其理论修正公式,并给出了理论计算与实验结果.     

高速高效低粗糙度磨削表面粗糙度和质量的试验研究

本文介绍了一种用普通砂轮和高速磨床进行高速高效低粗糙度磨削的新型超精密磨削加工技术。在大量的试验中对磨削表面粗糙度和质量进行系统地研究,并且获得了镜面(R_(zmin)=0. 048μm)。与传统的低速超精密磨削相比,采用这种新技术将会使磨削表面粗糙度大大降低和获得良好的表面质量。此外,也对其磨削机理进行了一定的探讨。     

CVD方法制备Mo2C膜的化学反应机制和组分含量的热力学计算

报道了采用ＣＶＤ方法制备Ｍｏ２Ｃ膜的方法,在实验上证实了Ｍｏ２Ｃ膜的化学反应机制包括Ｍｏ（ＣＯ）６的分解和Ｍｏ的碳化两个过程,根据自由能极小原理对薄膜中各组分的含量与沉积温度的关系作了计算,计算值的变化趋势与测量值基本一致     

溶胶-凝胶法制备SnO_2气敏薄膜的研究

以SnCl2 ·2H2 O及乙醇为原料 ,利用溶胶 -凝胶法制备SnO2 纳米薄膜 .探讨了制膜的工艺条件 ,用XRD、SEM、TEM、AES以及XPS等研究了所得薄膜的结构性质 ,同时考察了薄膜的晶相结构、晶粒尺寸、表面形貌以及薄膜中元素的化学状态与热处理条件之间的相互关系 .     

金属离子对导电聚苯胺薄膜电阻-温度关系的影响

在含有不同金属盐的酸盐溶液中利用原位聚合法制备了一系列导电聚苯胺薄膜样品，测量并研究了不同样品的电阻随温度变化的关系。实验结果表明反应过程中金属离子的存在能够改善样品的电传输行为，表现为在金属盐酸盐的溶液中制备的样品具有更小的R60/R285和更低的TMOtt。     

Sol-gel法制备(Ba0.95Ca0.05)(Sn0.05Ti0.95)O3薄膜及升温速度对形貌的影响

用溶胶 -凝胶法制备了光滑的 (Ba0 .95Ca0 .0 5) (Sn0 .0 5Ti0 .95)O3(以下称BCST)薄膜。研究了热处理的升温速率和处理温度对薄膜形貌的影响。SEM测试结果表明快速升温和低温 (刚高出成晶温度 )有利于获得好质量的BCST薄膜。     

减压法制备TiO2薄膜及影响因素的研究

主要研究了用化学气相沉积法在减压状态下制备ＴｉＯ２薄膜，不温度和压力改变时，会影响薄膜的沉积率，晶型及表面形貌。并且根据阿龙尼乌斯公式算是在玻璃片镀膜基表反应的平均活化能为５７．０８６ｋＪ／ｍｏｌ。     

SnO2—ZnO薄膜特性研究

用真空蒸发ＳｎＯ２－ＺｎＯ,获取超微粒结构的ＳｎＯ２－ＺｎＯ薄膜．实验发现ｗ（ＳｎＯ２）ｗ（ＺｎＯ）＝８０％２０％薄膜有较低的电阻率,对乙醇有较高的敏感性,是较好的酒敏材料．     

SnO2薄膜的激光化学雾状沉积

把ＣＯ２激光聚焦在玻璃基底上的小区域内，热解ＳｎＣｌ４·５Ｈ２Ｏ来实现ＳｎＯ２薄膜的沉积。用Ｘ－Ｙ扫描获得了选择性薄膜图形。薄膜的电阻率约为１×１０（－２）Ω·ｍ，可见光谱区透射率为７５％～８０％．用Ｘ射线衍射对膜层进行了物相分析，判定ＳｎＯ２薄膜基本为多晶结构，其最优方向为（１１０）。此外，还用扫描电子显微镜观察了薄膜的表面形貌。