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相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 187 毫秒
1.
对于一个确定的核反应,实验上容易测量到峰值处的截面值,利用选择共振隧穿模型把^15N(p,α,)^12C的峰值处的反应截面值外推到200kev-500kev.理论计算值和实验结果在一定程度上符合的很好,这说明了选择共振隧穿模型是计算有明显共振峰的核反应截面的有利工具.  相似文献   

2.
分析了理论计算11B(p,α)2α核反应截面的重要意义.利用选择共振遂穿模型对11B(p,α)2α的核反应截面进行计算.调出了核势的实部和虚部分别为-54.6Mev和-257.4kev.理论计算和实验测量值在一定程度上符合的很好,进一步说明选择共振遂穿模型是计算有明显峰值的核反应截面的有效方法.  相似文献   

3.
多重双势垒结构中电子共振隧道效应的理论研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究了一维多重双势垒结构中电子共振隧穿效应,给出了透射系数和共振隧穿条件的解析表达式,数值计算并解释了随双势垒内外讲宽度差△d变化的共振隧穿透射能谱,与对应的多重单势垒结构相比,这种多重双势垒结构显示出一些有趣的性质.  相似文献   

4.
研究在自旋轨道耦合和周期振动场的作用下,电子隧穿双量子阱结构的透射系数和自旋极化率.通过数值计算发现:隧穿后电子的自旋简并消除,得到与自旋相关的共振峰.电子隧穿宽势阱时出现对称的Breit-Wigner共振峰,而隧穿窄势阱时出现不对称的Fano共振峰.研究也发现通过调节入射能量和中间势垒的宽度,可以改变共振峰的振幅和位置.利用这个原理可以设计可调的自旋过滤器,实现对自旋的调控.  相似文献   

5.
用球形光学模型和核反应多步过程的半经典理论,计算了入射能量在1.0keV-20MeV的中子与^204Pb,^206Pb,^207Pb,^206Pb,和^NatPb相互作用的全套核反应数据,计算结果与评价实验数据比较,符合较好。  相似文献   

6.
为了解决传统台面型共振隧穿二极管制作过程中横向钻蚀问题,提出了一种采用离子注入法在N^+GaAs衬底上制作平面型共振隧穿二极管,通过离子注入对器件之间进行隔离,取代了台面制作工艺中的通过湿法腐蚀隔离器件的目的.研究了它的I-V特性,测得的峰谷电流比为3.4.研究了由平面型共振隧穿二极管构成的单双稳态逻辑单元,实现了作为反相器的功能.  相似文献   

7.
宋捷 《科技信息》2010,(11):91-92
在PECVD系统中,用layerbylayer的方法原位制备了a—SiNx/nc—Si/a—SiNx双势垒结构样品。AFM测量结果显示nc—Si晶拉密度约为1.2×10^11cm^-2,通过Raman散射谱计算出薄膜中的平均晶粒尺寸为6nm,nc—Si层的晶化比约46%。在低频时的电容-电压(C—V)测试过程中,观察到了与共振隧穿效应有关的电容峰,由于样品中的nc-Si颗粒尺寸均匀性不高,没有观察到分立的隧穿电容峰结构,只得到扩展的电容峰。  相似文献   

8.
双势垒中杂质原子对量子隧穿的影响   总被引:1,自引:1,他引:0  
采用计算穿越任意势之透射系数的数值计算方法,得到了在双势垒阱区中有正电杂质时电子隧穿的共振能级、波函数、透射系数.通过与无杂质原子的双势垒量子隧穿情形对比,详细讨论了杂质原子对量子隧穿的影响.数值结果显示,体系的有效势是双势垒与杂质原子库仑势的叠加,当电子能量处于叠加势中的本征能级时,发生共振隧穿,对纯束缚态,不可能发生共振隧穿.此外,还给出势阱中有、无杂质两种情形的波形图,通过对比,可以进一步看出杂质原子对共振隧穿的影响.  相似文献   

9.
采用连续介电模型,细致探讨了AIxGa1-xAs/GaAs双势垒结构中界面声子的色散关系及其与电子的耦合作用.进而采用Fermi黄金法则,在该结构的垒或阱为三元混晶材料时,分别计算了声子辅助隧穿电流密度.结果表明,在宽阱情形下,若垒为混晶材料,混晶效应不明显,只有一个明显的声子峰,该结论与实验符合较好;若阱为混晶材料,则混晶效应明显,具有两个声子峰,该结论对实验有指导意义.本文还讨论了压力对声子辅助共振隧穿的影响,结果显示:声子辅助隧穿峰和共振峰的峰值均随压力增加而减小,但声子辅助隧穿效应则随压力增加.  相似文献   

10.
天然汞全套中子核反应数据的理论计算   总被引:1,自引:1,他引:0  
用光学模型(OPM),核反应多步过程的半经典理论,双微分截面理论(DDCS)和γ辐射的非统计过程及γ产生数据理论,计算了人射能量在0.1 ̄20MeV的中民天然汞相互作用的全套核反应数据,计算结果与评价的实验数据比较,符合较好。  相似文献   

11.
针对高介电常数(k)栅堆栈金属氧化物场效应晶体管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor,MOSFET)实际结构,建立了入射电子与界面缺陷共振高k栅栈结构共振隧穿模型.通过薛定谔方程和泊松方程求SiO2和高k界面束缚态波函数,利用横向共振法到共振本征态,采用量子力转移矩阵法求共振隧穿系数,模拟到栅隧穿电流密度与文献中实验结果一致.讨论了高k栅几种介质材料和栅电极材料及其界面层(IL)厚度、高k层(HK)厚度对共振隧穿系数影响.结果表明,随着HfO2和Al2O3厚度减小,栅栈结构共振隧穿系数减小,共振峰减少.随着La2O3厚度减小,共振峰减少,共振隧穿系数却增大.随着SiO2厚度增大,HfO2,Al2O3和La2O3基栅栈结构共振隧穿系数都减小,共振峰都减少.TiN栅电极HfO2,Al2O3和La2O3基栅栈比相应多晶硅栅电极栅栈结构共振隧穿系数小很多,共振峰少.  相似文献   

12.
在有效质量近似的框架下,应用传递矩阵理论研究了势垒的非对称性对单电子隧穿几率的影响.结果表明:隧穿过程的势垒的形状对隧穿几率影响很大,势垒的对称性破坏的越严重,在低能区域发生共振隧穿的可能性越小.这些可以为设计和制造更加优化的共振隧穿器件提供一定的理论指导.  相似文献   

13.
无限周期声子晶体全反射隧穿效应的机理研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
建立了一维无限周期声子晶体的谐振腔模型,利用谐振腔的共振条件推导出全反射隧穿导带频率满足的解析公式,从理论上解释了一维无限周期声子晶体全反射隧穿效应产生的物理机理.利用频率的解析公式对全反射隧穿导带的频率随导带级数、腔厚度以及入射角的变化规律进行了研究,圆满地解释了一维无限周期声子晶体的全反射隧穿效应的变化规律.并且将共振理论的结果与色散法的结果进行比较,其结果完全吻合.  相似文献   

14.
半导体多重直角势垒结构中的电子共振隧穿   总被引:2,自引:0,他引:2  
把一维N重直角势垒结构共振隧穿问题的解析工作推广到以多个势垒为单元任意重复排列的统一模型,并考虑了价带的影响。对单元M为单势垒和双势垒的结构得到简便的透射系数公式。本文结果还证明,发生共振隧穿的电子能量必须位于以M为原胞的周期系统的允许带内,考虑价带影响后,同等条件下发生共振隧穿的能量明显增大。  相似文献   

15.
用纳米硅薄膜制成了共振隧穿量子点二极管,在77K温度下对其I-V特性进行了测量,得到了具有共振隧穿特征的实验结果。对实验结果分析表明,纳米尺寸晶粒构成的量子点具有库仓阻塞效应.  相似文献   

16.
在Anti—de Sitter时空中,采用Parikh的半经典量子隧穿模型,研究了一个平面对称黑洞的霍金隧穿辐射,考虑到自引力作用和能量守恒,得出的隧穿率与Bekensten—Hawking熵有关,且隧穿辐射谱不是纯热谱,并满足么正性理论.  相似文献   

17.
研究了铁磁体-半导体-铁磁体(F/S/F)准一维系统中电子的透射率.得到如下结论:1) 改变作用在2铁磁体上磁场方向角ρ和θ,电子透射率在满足ρ θ=(2n 1)π时最小,ρ θ=2nπ时最大(其中n=1,2,3,…).2) δ势垒起到了延迟电子共振隧穿峰到来的作用.3) 改变半导体中电子的Rashba自旋轨道耦合常数α会使电子透射产生非周期性共振隧穿现象,并且随着a值的增大相邻共振隧穿峰的间距有增大的趋势.4) 半导体长度的改变虽然不会使相邻共振隧穿峰的间距改变,但会使共振隧穿峰值发生变化.  相似文献   

18.
研究双势垒GaAs/AlGaAs结构在与时间有关的交变电场的作用下电子间接共振隧穿的几率和隧穿电流密度。采用转移矩阵方法给出电子在不同空间位置的波函数,用微扰的方法求出电子波函数的含时系数,最终给出电子隧穿几率和隧穿电流密度、计算结果表明电子隧穿几率曲线中出现附加的隧穿峰和隧穿峰变低,并且随穿电流密度曲线巾出现附加的隧穿台阶,隧穿峰变低和展宽,这主要是由于外加突变电场与E±nω的电子态耦合,为电子隧穿提供间接的通道和路径、这也是设计双势垒电子隧穿器件不可忽略的、上述方法也可以推广到多量子阶系统。  相似文献   

19.
共振隧穿二极管因其特有的负微分电阻特性,成为一种很有前途的基于能带工程的异质结构量子器件.采用超高真空外延技术,以p型重掺杂硅为衬底生长出以4 nm厚Si0.6Ge0.4层为空穴量子阱、以4 nm厚Si层为空穴势垒的双势垒单量子阱结构.然后用常规半导体器件工艺制成了空穴型共振隧穿二极管.在室温下对面积为8 μm×8 μm的共振隧穿二极管进行测量,其峰值电流密度为45.92 kA/cm2, 电流峰谷比为2.21. 根据测量得到的电流电压特性考虑串联电阻的影响,提取出共振隧穿二极管的直流参数.可以利用这些参数将共振隧穿二极管的直流模型加入SPICE电路模拟软件器中进行共振隧穿二极管电路设计.  相似文献   

20.
用光学模型、核反应多步过程的半经典理论、双微分截面和γ辐射的非统计过程及γ产生数据理论,计算了入射能量在1KeV-20MeV的中子与^60Ni相互作用全套核反应数据,计算结果与评价数据比较,符合较好。  相似文献   

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