水晶在电场作用下的新腐蚀图形

水晶的X截面,Y截面,Z截面以及大小菱方r面和z面同時在垂直的直流電場和氟氫酸的作用下,得到十二种不同的新腐蝕圖形,这种圖形的形狀不僅与晶軸觔方位有关並且与電場方向有关。X截面上的電腐蝕圖形中的似細微裂縫線條几与主要的溫度系數為零的振動晶片的切割方向一致,其中的一种圖形与各向異性的楊氏模量表示圖一致。電腐蝕圖形可能出現于有缺陷的位置,其原因可能是由于在缺陷处電場不均原子所受之電場力不同所致。     

NiTi形状记忆合金薄膜的残余应力

采用X射线掠射法和轮廓法,测量了单日Si基板上用磁控溅射法制备的NiTi形状记忆合金薄膜的残余应力,分析了其与薄膜厚度以及晶化处理温度等工艺条件的关系。结果表明：该薄膜中的残余应力主要来源于薄膜同基板材料的膨胀系数和晶格参数不匹配;薄膜厚度越大,残余应力越小;晶化处理温度对因热胀系数差异带来的热拉应力因马氏体相变而致的相变压应力均有不同程度的影响。     

X射线与晶体结构

結晶学研究晶体的几何外观及內部結構,外观是內部結構的反映,內部結構由X射綫研究出来。晶体是多面固体,構成晶体的平面称晶面。晶体內質点间的距离与X射綫的波長有相同的等級(1——10),故晶体适用于作为X射綫的繞射或反射光栅来研究晶体結构。     

NiTi形状记忆合金薄膜的残余应力

采用 X射线掠射法和轮廓法 ,测量了单晶 Si基板上用磁控溅射法制备的 Ni Ti形状记忆合金薄膜的残余应力 ,分析了其与薄膜厚度以及晶化处理温度等工艺条件的关系 .结果表明 :该薄膜中的残余应力主要来源于薄膜同基板材料的膨胀系数和晶格参数不匹配 ;薄膜厚度越大 ,残余应力越小 ;晶化处理温度对因热胀系数差异带来的热拉应力因马氏体相变而致的相变压应力均有不同程度的影响 .     

無機晶體硝酸鎳氨的有序無序結構 第一部 室温結構——硝酸根NO_3奇特旋盪的無序結構

一、引言近年来在晶體内的原子进行各种曲線热振盪的现象已陸绩被人们所发现,因而引起结晶学界的深厚兴趣.这样就使作者回念起还在1938-1942年间他自己对一个天蓝色的美丽的八面立方晶體硝酸镍氨 Ni(NO_3)_2·6NH_3所进行过室温和低温的X光结构分析。简约结果曾在英国‘自然界’(余瑞璜1938,1942)报导过.但详细结果一直没有发表.最近福里尔差異综合法间应用来研究原子在晶體内的振盪现象,得到重要结果.在上述晶體中,硝酸根NO_3和氨分子NH_3在室温结构中也都猛烈地振盪.因此作者想起:若用福里尔差異综合法或作者所发展的新综合法来加以研究,可能对这些振盪会有更详细的了解.这个晶體在室温下是     

FeNiPB(Cu,Nb)纳米晶软磁材料的研究

通过扫描电子显微镜、透射电子显微镜及场发射扫描子显微镜并借助X－ray衍射仪分析研究了Fe基纲米晶软磁材料，结果表明：用机械合金化法可以合成FeNiPB(Cu,Nb）非晶合金，非晶粉末经晶化处理可以得到FeNiPB(Cu,Nb）纳米晶组织。     

CaGd3F11:Eu3+超小纳米晶的制备及其发光性质研究

以无水氯化钙、稀土硝酸盐、正辛醇为原料,以正辛胺和油酸为表面活性剂,通过控制不同的反应条件,采用溶剂热法制备出形貌均匀的CaGd_3F_(11):Eu~(3+)纳米发光材料.用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和荧光分光光度计对合成的纳米晶的粒径、形貌和光学性质进行了表征.结果表明CaGd3F11纳米晶的结晶度良好且尺寸均匀(约5nm),其作为基质材料,掺杂Eu3+表现出很强的荧光发射.     

Cu60Zr33Ti7非晶合金的非等温晶化动力学行为

采用铜模吸铸法制备Cu60Zr33Ti7大块非晶合金(BMGs),用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)确定其非晶态结构,并利用同步示差扫描量热仪(DSC)对其晶化动力学进行研究.结果显示:该BMGs第一晶化峰晶化产物为Cu10Zr7,其晶化过程有显著的动力学效应.由Kissinger法和Ozawa法得到的全局晶化激活能分别为116.27、122.9kJ·mol-1,该大块非晶合金具有很好的热稳定性.     

激光的模式分析与模间距的测定

本文利用平行平面F—P扫描干涉仪和X—Y记录仪,分析了He—Ne激光束的频谱。根据干涉仪的透射曲线,我们标定出干涉仪的自由光谱范围,并且借助其频标比直接地测定出激光的模式间距。     

立方系多晶材料反极图测建的简化球面调和分析法

本文提出了一个测建立方系材料反极图的简化球面调和分析法。在本法中用板状试样在习用的X射线织构测角台上以Schulz反射法扫测(100)和(110)晶面的取向分布,扫测极角范围为0°—70°利用实测数据和文后所附的系数表即可算出所有取向的纤维轴密度ω(θ,φ),从而绘制成该试样的反极图。 用这一简化法比较满意地测绘了冷轧并再结晶的含3％硅钢的反极图。 文后系数表系利用TQ—16电算机Algol—60语言算出,计算程序备查,从略。     

衬底温度和退火温度对磁控溅射TiNi合金薄膜组织结构的影响

通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)等测试方法研究了不同的衬底加热温度和不同晶化退火温度对磁控溅射法制备的TiNi薄膜组织结构的影响。结果表明:加热衬底可以降低薄膜的晶化温度,通过控制加热温度可以控制晶粒的大小,同时可有效抑制析出相的产生;非晶薄膜在晶化的同时伴随Ti3Ni4相的析出,随晶化温度的升高析出相在长大的同时数量也明显增多。     

机械合金化法制备Al-Ni-La-Cu非晶合金

用机械合金化法制备了不同成份的 Al- Ni- L a- Cu非晶合金 .经 X射线衍射仪、透射电子显微术和示差扫描量热仪 (DSC)热分析研究表明 ,随着合金中 Cu含量的增加 ,Al- Ni- L a- Cu的非晶形成能力逐渐增强 ,晶化温度逐渐降低 .     

纳米晶ZnSeO3的微乳液合成及其光催化性能

采用水/聚乙二醇辛基苯基醚／环己烷/正己醇微乳液体系，合成出纳米晶ZnSeO3，通过X射线衍射仪（XRD）和透射电子显微镜（TEM）表征其组成，测试其浓度，研究其热稳定性以及对甲基橙的光催化作用．     

ZnSe-Au杂化纳米晶的制备与表征

为研制新型ZnSe基杂化纳米晶,确定ZnSe-贵金属杂化纳米晶组元间的作用机制,制备出了ZnSe-Au杂化纳米晶.利用X射线衍射仪(XRD)和高分辨透射电子显微镜(TEM)研究了杂化纳米晶的物相组成、形貌和生长机制.利用紫外可见分光光度计及荧光分光光度计对杂化纳米晶的光学性能进行了表征.结果表明:ZnSe-Au杂化纳米晶生长机制为异相形核、外延生长的机制;相对于单独的Au纳米颗粒,杂化纳米晶中Au的局域表面等离子共振吸收被显著红移.由于界面电子转移过程的存在,ZnSe的光致发光猝熄.     

动力系统的胞映射—点映射法及应用

对动力系统的胞映射法进行了改进，采用点映射法对胞映射法的计算结果进行后处理，求得精确的周期运动和吸收域，将胞映法和点映射法结合起来，有较高的计算精度和效率。     

A_s-G_e-S_e-S_n系统透红外微晶璃玻的性质与结构

本文介绍了应用新型混合晶核剂制备透红外A_s-G_c-S_c-S_n系统微晶玻璃的若干问题,诸如晶核剂的选择、玻璃与微晶玻璃的主要性质、诱导析晶时的结构变化等。应用混合晶核剂后所获得的红外透射材料达到了预期的性质。在12.8μm左右的吸收带几乎消失,从而使长波段的红处透射范围可扩展至16μm。所得硫系微晶玻璃的高断裂韧性与断裂能可归因于微小晶体(<1μm)的形成与高的晶化率。在X—射线谱、红外反射光谱与穆斯鲍尔谱研究玻璃与微晶玻璃的基础上,文中提出了A_s-G_c-S_c-S_n系统玻璃的结构模型,同时还讨论了诱导析晶时所引起的一系列结构变化。     

纳米二氧化钛光催化剂膜分解甲基橙

采用溶胶—凝胶法，以普通载玻片为基底材料，制备了纳米二氧化钛薄膜。通过扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEn)、X射线衍射仪(XRD)对TiO2薄膜进行晶相结构和薄膜结构表征。利用制备的TiO2薄膜光催化分解甲基橙溶液。实验结果表明：焙烧温度500℃时，制备的TiO2薄膜牢固、透光性能好、光催化活性强。随着紫外光照射时间的延长，镀膜次数达5次时，光催化效率较高。     

大数量圆柱绕射问题递推算法的理论基础

利用单根圆柱绕射问题的特征函数展开解,直接构造出浪散射的传输矩阵,进而利用Ｂｅｓｓｅｌ函数和Ｈａｎｋｅｌ函数的平移公式,对水波动力学问题建立了大数量圆柱波浪绕射的递推算法。作为算例,就不同方向、不同波数入射波情况下的双圆柱绕射问题进行了具体计算,并将计算结果与多柱绕射问题截面周线波动源分布法的结果进行了比较,计算比较表明,文中建立的大数量圆柱绕射问题的递推算法是有效的。该算法可以进一步拓广至其他形     

TiCl4水解制备金红石型TiO2纳米粉

实验以TiCl4为主要原料，采用直接水解法制备出了TiO2样品，经差热－热重（DTATG），X－射线衍射（XRD），透射电子显微镜（TEM0和比表在（BET）分析，得出样品TiO2的晶型为金红石型，其粒子近似呈球形，各个晶面所对应的粒径基本一,发布在7.0-12.0mm之间，平均粒径为10.5mm,对应的比表面积和孔容积分别为166m^2/g和0.12mL/g.     

衬底温度对NiTi薄膜晶化温度的影响

采用直流磁控溅射方法, 制备出沉积在不同温度衬底上 的NiTi薄膜. 应用X射线衍射、 小角X射线散射和差热扫描量热法研究了两种衬底温度(室温和573 K)溅射的NiTi合金薄膜晶化温度和在763 K退火1 h的晶化程度.