电化学自组装法制备透明ZnO薄膜及性能研究

以低浓度的Zn(NO3)2为电解液、KCl为支持电解质,采用电沉积自组装法在氧化铟锡(ITO)玻璃基片上成功制备了尺寸可控、性能优异、具有强的C轴择优取向生长的纳米柱ZnO薄膜;并进一步获得了六方晶体纳米结构的ZnO薄膜的优化沉积工艺.同时,结合X射线衍射(XRD)、扫描电镜测试(SEM)、透射电镜(TEM)、紫外吸收光谱(UV-vis)等测试手段对薄膜的形貌、晶形及光学性能进行了系统表征.结果表明,制备的ZnO薄膜为六方纤锌矿结构,且沿[002]方向的择优生长趋势明显、物相纯正;该薄膜的透射率最大值可达75%,禁带宽度接近于3.28 eV.     

Ni2+/纳米MoS2插层化合物的制备及催化性能表征

文章分别采用市售微米MoS2和自制纳米MoS2作为原料,通过剥层法合成了单层MoS2悬浮液.在2种单层MoS2悬浮液中分别加入等量硫酸镍溶液,调节pH值使单层MoS2发生重堆积反应,可得到Ni2+/微米MoS2和Ni2+/纳米MoS2插层化合物.利用X射线衍射仪、扫描电镜和原子吸收光谱仪对插层化合物进行表征,并考察了2...     

磁控溅射沉积镓掺杂氧化锌薄膜的微观结构性质研究(英文)

采用磁控溅射工艺在玻璃衬底上沉积镓掺杂氧化物透明导电薄膜样品,通过X-射线衍射仪的测试表征及其定量分析研究了薄膜样品的结晶性质和微观结构性能.结果表明,所沉积的样品均为六角纤锌矿型的多晶结构并具有(002)择优取向生长特性,其晶格常数、晶面间距和Zn-O键长等参数与标准值一致.当膜厚为570 nm时,薄膜样品的(002...     

用MOCVD法制备TiO2/Fe2O3双包覆层珠光颜料

研究了在常压喷动流化反应器中 ,以金属有机化学气相沉积 (MOCVD)法制备双包覆层珠光颜料的工艺 .实验结果表明 :以Ti(OC2 H5) 4 为物源 ,在有氧情况下用高纯氮气作为载气 ,沉积温度为 30 0℃时 ,沉积的TiO2 膜晶形为锐钛型 ,温度升高至 5 0 0℃时 ,TiO2 膜晶形为金红石型 ,且包覆致密 .在此基础上控制不同的包覆时间 ,再包覆以Fe2 O3 为主的铁氧化物 ,可获得橘红、金红等光泽柔和的双包覆层珠光颜料     

等离子体增强化学气相沉积法制备氧化锌薄膜

通过引入金属有机源——二乙基锌和二氧化碳,用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的方法在低温下制备高质量(002)取向的氧化锌薄膜,详细研究了衬底温度对薄膜质量的影响.实验发现,衬底温度对氧化锌的取向性和晶粒的大小都有显著的影响.随着温度的提高,氧化锌的取向性增强,温度为230℃时得到单一(002)取向的六角结构的氧化锌薄膜,其XRD的半高宽为0.26.°从其透射谱可以观察到典型的激子吸收线,从光致发光谱上可以观察到一个强而窄(半高宽度大约为125 m eV)的3.26 eV紫外激子发射.     

乙酰胺-尿素-NaBr熔体中Ce3+和Ni2+的电化学行为及其诱导共沉积

在353K的乙酰胺-尿素-NaBr熔体中,Ni(Ⅱ)一步不可逆还原为金属Ni,测得在Pt电极上α为0.27,D0为4.65×10-5cm2.s-1.该条件下Ce(Ⅲ)不能单独还原为Ce,但可以被Ni(Ⅱ)诱导而共沉积.由恒电位电解法得到Ce-Ni合金,Ce的含量随阴极电位的负移,Ce(Ⅲ)/Ni(Ⅱ)摩尔比增大及电解时间延长而增大,最大可达32.76%.     

TiO2-聚苯胺纳米复合薄膜的电沉积制备

为获得形貌均匀、晶形细小的TiO2-聚苯胺纳米复合薄膜,研究沉积条件对复合膜的影响,采用电化学沉积技术进行了复合膜的制备试验.试验确定了膜沉积的优化条件:电位为-1.5 V(VSSCE),pH=1.5～2.0,沉积时间为1 300 s.采用电化学方法、扫描电镜及热分析等测试手段对电沉积复合膜进行了表征.结果表明:循环伏安峰电流越小,对应的沉积膜的沉积质量越好;基底不同,复合膜形貌有着显著差异.扫描电镜观察发现:沉积液中苯胺分子对电沉积反应过程、沉积物粒度及形貌有很大的影响,苯胺小分子的添加有利于得到晶形更为细小的TiO2-聚苯胺纳米复合薄膜.     

乙酰胺-尿素-NaBr熔体中Tb-Ni薄膜合金的制备

在 35 3K的乙酰胺_尿素_NaBr熔体中 ,Ni(Ⅱ )一步不可逆还原为Ni,测得α为 0 18和D为 1.44× 10 - 6cm2 ·s- 1 。Tb(Ⅲ )不能单独还原为Tb ,但是可以被Ni(Ⅱ )诱导共沉积。由恒电势电解法得到非晶态的Tb_Ni合金膜。铽的质量分数随着阴极电势的负移和Tb(Ⅲ ) Ni(Ⅱ )摩尔比增大而增大。铽的质量分数可达 84.32 %     

Cu/Ni多层膜的调制波长与力学性能的关系

为研究Cu/Ni多层膜的调制波长与力学性能的关系,采用计算机控制的单槽双脉冲控电位沉积系统,在Cu基体上沉积Cu/Ni多层膜,分别采用扫描电镜和纳米压痕技术对Cu/Ni多层膜的截面和硬度进行了测试.结果表明:电沉积方法制备的Cu/Ni多层膜具有良好的周期结构;在调制波长为37 nm时硬度达到极值;在调制波长小于37 nm时其硬度值明显下降.实验结果符合理论分析中多层膜的硬度随调制波长的变化规律,但临界调制波长大于理论计算结果.     

Li[Li_(0.2)Mn_(0.54)Ni_(0.13)Co_(0.13)]O_2富锂正极材料表面修饰LaF_3及其电化学性能的研究

采用溶胶凝胶方法合成Li[Li0.2Mn0.54Ni0.13Co0.13]O2富锂正极材料,通过化学沉积技术在Li[Li0.2Mn0.54Ni0.13Co0.13]O2颗粒表面沉积La F3颗粒.利用X-射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、充放电测试、循环伏安及交流阻抗测试系统研究了La F3包覆对材料电化学性能的影响.合成的材料具有α-Na Fe O2层状结构且La F3颗粒均匀包覆在颗粒表面,表面修饰La F3后的样品表现出更高的比容量和更好的倍率性能,电化学性能测试表明La F3表面修饰层有助于缓解电解液中HF对活性材料的腐蚀,降低电荷跃迁电阻(Rct),增强锂离子的扩散能力.