常温物体比辐射率的测量

任何物体的比辐射率ε(T,λ)定义为在温度T波长λ处的出辐射度m_s(T,λ)与同温度、同波长下的黑体出辐射度m_B(T,λ)的比值,即     

由卫星测量确定地面温度和比辐射率的算法

地面温度在气候变化和多种天气过程研究中,在农业和国民经济的许多领域中都具有重要意义.而从卫星测量来得到地面温度则在其全球性的覆盖范围和测值空间分布的均匀性上,都有实地测量所不能相比的优越性.因此,由卫星测量得到精确的地面温度成为人们十分关注的一个问题.但由卫星遥感精确确定地面温度是十分困难的,这是由于:(1)大气影响;(2)地面温度和地面比辐射率之间的耦合;(3)陆地表面的非均一性.目前,绝大多数由卫星遥感测量确定地面温度的方法都建立在预先给定地面比辐射率的基础上,但在8～14μm大气窗区,不同类型地表的比辐射率可以在0.9～0.99之间变化,有很大差别.目前,人们对全球范围各种不同类型地表在8～14μm窗区比辐射率的了解还十分缺乏,在地面比辐射率有0.01的差别时,得出的地面温度的差别就可能达到2℃.在利用一个遥感通道得出     

单光子探测激光距离测量技术

激光距离测量技术通过测量激光的时间、相位、频率、偏振、强度等信息,实现非接触和高精度的距离测量,在科研和工业生产中具有广泛的应用。单光子探测技术将光电直接探测的灵敏度提高到单光子极限,大幅提升了激光距离测量的能力,使我们看得更远。我们通过发展高速、多通道、高精度单光子探测器,实现了远距离高精度激光三维成像。     

利用激光测量风

美国佐治亚技术学院近日研制了一种单引出瑞长轨道激光传感器——风速表。人们可以用它来跟踪空气中的污染情况，测量风速和风向；以便提高飞机的飞行安全性，并使气象预报更加精确。相比之下，老式的机械风速测量仪不能检测到风的变动情况。开始，人们希望把这种激光传感器和其他传感器协同，以监视化工厂上空化学物质的浓度和侧风的有关数据，以便让市民能了解到化工厂污染物的散发速度。该系统主要通过氦氖激光器把一束光照射到大约100英尺的反射靶上。并通过电子收集被反射的激光，再通过一系列的透镜、镜片发送激光。在一系列的镜片中…     

CO_2激光场的横向效应及其奇怪吸引子

激光场的横向效应对激光非稳性的影响,越来越受到人们的重视。高锦岳、Narducci和Lugiato等人对场横向分布仅沿径向变化的轴对称系统进行了理论计算。Chen Nanpeng,Zhang Ligen等人通过频谱观测研究了激光横向效应产生的混沌运转。但是,横向效应在     

氯化镁矿化利用低浓度烟气CO_2联产碳酸镁

CO2矿化利用是一种新的CO2减排方式,主要原理是利用天然矿物或工业废料与CO2反应,将CO2矿化为碳酸钙或碳酸镁等固体碳酸盐,同时联产高附加值的化工产品.本文提出采用低能耗的电解工艺利用氯化镁溶液矿化利用低浓度烟气CO2的新方法,该方法将氯化镁转化为活性较高的氢氧化镁,与不同浓度的CO2反应从而矿化CO2.该方法可以直接矿化浓度仅为20%的低浓度CO2,这使得直接矿化利用工业烟气CO2成为可能,避免了较高能耗的CO2捕捉提纯过程.另外,该方法可在较低的能耗下减排大量CO2,同时获取高附加值的碱式碳酸镁或三水合碳酸镁.由于氯化镁自然储量非常丰富,氯化镁矿化利用CO2具有大规模减排的潜力.     

激光诱导敏化荧光法测量钼原子跃迁的自发发射分支比

测量原子跃迁自发发射分支比通常采用发射光谱法。在原子束光谱研究中不能检测发射光谱,因而多采用激光诱导荧光光谱技术或离子检测技术。用荧光法测量分支比通常需检测谱线强度较高的直跃线荧光,特别是必须检测对计算分支比贡献较大的共振荧光。然而     

CO_2激光诱导SF_6—UF_6—CO体系的光敏反应

脉冲CO_2激光激发SP_6引起UF_6光敏解离近来已有报道。我们曾研究以H_2为清扫剂的UF_6红外光敏反应,但用一氧化碳作为F原子清扫剂的详细研究尚未见报道。本文着重研究TEA CO_2激光诱导SF_6—UF_6—CO体系的光敏反应,并测定了UF_6解离率与激光能量密度、频率和CO分压之间的关系。     

用强红外激光辐照CF_3I+CO_2混合物合成CI_4晶体

用脉冲红外激光诱导或增强化学反应过程是近十多年来发展起来的一个新的研究领域。基于多光子吸收的激光红外光化学不同于通常的热反应过程,因而也就出现了尚待深入认识的一些新课题,其前景是诱人的。用这种方法极有希望合成某些用其他方法难以得到的化合物。在这一领域,过去所做的工作几乎都是基于气相物质的单分子离解、异构化或重排,而涉及脉冲红外激光的双分子反应或更高级反应则研究得很少。特别是用强红外激光辐照气相     

利用紫外激光以及H_2O_2和HF的混合溶液对硅片进行光化学蚀刻

讨论了一种在硅片上进行无抗蚀膜光化学蚀刻的方法,使用过氧化氢和氟化氢混合水溶液作为化学媒质,分别使用１９３ｎｍ准分子激光和２６６ｎｍ四倍频固体Ｎｄ︰ＹＡＧ激光作为光源．实验结果显示,可以不需要任何抗蚀膜,直接在硅表面进行图案蚀刻．对于１９３ｎｍ波长,在Ｈ２Ｏ２／ＨＦ质量比为１．３时,得到最佳蚀刻深度．在２９ｍＪ·ｃｍ～（－２）能量密度和１００００个脉冲照射下,得到２１０ｎｍ的蚀刻深度．在相同条件下,使用Ｈ２Ｏ２与ＨＦ混合液时的蚀刻深度大约是使用Ｈ２Ｏ与ＨＦ混合液时的４倍．对于２６６ｎｍ波长,在Ｈ２Ｏ２／ＨＦ　质量比为２时,　得到最佳蚀刻深度．　在１２ｍＪ·ｃｍ～（－２）能量密度和３００００个脉冲照射下,得到４２０ｎｍ的蚀刻深度．     

利用紫外激光以及H2O2和HF的混合溶液对硅片进行光化学蚀刻

讨论了一种在硅片上进行无抗蚀膜光化学蚀刻的方法,使用过氧化氢和氟化氢混合水溶液作为化学媒质,分别使用193nm准分子激光和266nm四倍频固体NdYAG激光作为光源.实验结果显示,可以不需要任何抗蚀膜,直接在硅表面进行图案蚀刻.对于193nm波长,在H2O2/HF质量比为1.3时,得到最佳蚀刻深度.在29mJ·cm-2能量密度和10000个脉冲照射下,得到210nm的蚀刻深度.在相同条件下,使用H2O2与HF混合液时的蚀刻深度大约是使用H2O与HF混合液时的4倍.对于266nm波长,在H2O2/HF质量比为2时,得到最佳蚀刻深度.在12mJ·cm-2能量密度和30000个脉冲照射下,得到420nm的蚀刻深度.