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相似文献
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1.
费曼路径积分的变分方法是计算束缚极化子基态能的最有效方法。文章给出了抛物线型量子线中束缚极化子的哈密顿量 ,运用费曼路径积分的变分方法统一推导出抛物线型量子线约束势中杂质库仑束缚势下极化子的基态能 ,讨论了量子阱的一些特殊情况 :有、无杂质库仑束缚势的量子点和有、无杂质库仑束缚势的量子阱束缚势的量子阱 ,以及自由极化子  相似文献   

2.
Ge(313)表面能带结构分析   总被引:1,自引:0,他引:1  
使用紧束缚最近邻近似下的sp^3s模型,利用形式散射理论的格林函数方法,首次分析了半导体Ge的(313)高指数表面能带结构。采用层轨道表象及表面投影技术,给出了(313)表面在二维布里渊区高对称点的波矢分辨的电子态密度和表面投影能带结构。分析结果表明:(313)表面在-12eV到1eV的能区内存在6个主要的表面态,在此基础上讨论了各表面态的轨道特性、色散特性和局域特性等。  相似文献   

3.
在有效质量近似下,运用变分方法,考虑内建电场效应和量子点(QD)的三维约束效应的情况下,研究了类氢施主杂质在量子点中的位置对Ⅲ族氮化物量子点中束缚激子结合能的影响。结果表明:当类氢施主杂质位于量子点中心时,对于InxGa1-xN/GaN量子点,量子点高度和In含量存在临界值,当参数大于临界值时,约束在QD中束缚激子的结合能升高,激子态的稳定性增强,提高了激子的离解温度,使人们能在较高的温度条件下观察到半导体量子点吸收谱中的激子峰。而类氢施主杂质总是使束缚在GaN/AlxGa1-xN量子点中激子的结合能升高,载流子被更强的约束在量子点中。说明对GaN/AlxGa1-xN量子点,杂质使人们能在更高温度下观察到量子点中的激子。类氢施主杂质位于量子点上界面时,束缚激子的结合能最大,系统最稳定;随着施主杂质下移,激子结合能减小,激子的离解温度下降。  相似文献   

4.
利用K·P方法计算了阱宽10.0nm的InGaAs/InP应变量子阱在1%压缩应变、无应变和1%伸张应变三种情况下的能带结构及其态密度.结果表明在阱宽较宽时,伸张应变在13.5~13.23meV能量范围之内子带较少,而在13.32~-38meV能量内,具有比无应变时较低的的态密度.从能带角度考虑,在伸张应变时,利用增大阱宽可以改善器件性能  相似文献   

5.
在考虑内建电场效应和量子点(QD)的三维约束效应的情况下,运用变分方法研究了类氢施主杂质的位置对Ⅲ族氮化物量子点中束缚激子态的影响.结果表明:当类氢施主杂质位于量子点中心,InxGa1-xN/GaN量子点的高度和In含量大于临界值时,约束在QD中激子的基态能降低,激子态的稳定性增强,在较高的温度下观察到半导体量子点吸收谱中的激子峰,发光波长增大.而类氢施主杂质总是使束缚在GaN/AlxGa1-xN量子点中激子的基态能降低,杂质可能使在更高温度下观察到GaN/AlxGa1-xN量子点中的激子,发光波长增大.研究发现类氢施主杂质位于量子点上界面时,激子的基态能最小,系统最稳定;随着施主杂质下移,激子基态能增加,激子的解离温度下降,发光波长减小.  相似文献   

6.
在考虑内建电场效应和量子点(QD)的三维约束效应的情况下,运用变分方法研究了类氢施主杂质的位置对Ⅲ族氮化物量子点中束缚激子态的影响.结果表明:当类氢施主杂质位于量子点中心,InxGa1-xN/GaN量子点的高度和In含量大于临界值时,约束在QD中激子的基态能降低,激子态的稳定性增强,在较高的温度下观察到半导体量子点吸收谱中的激子峰,发光波长增大.而类氢施主杂质总是使束缚在GaN/AlxGa1-xN量子点中激子的基态能降低,杂质可能使在更高温度下观察到GaN/AlxGa1-xN量子点中的激子,发光波长增大.研究发现类氢施主杂质位于量子点上界面时,激子的基态能最小,系统最稳定;随着施主杂质下移,激子基态能增加,激子的解离温度下降,发光波长减小.  相似文献   

7.
Sb吸附在GaAs(110)(1×1)—Sb(1ML)表面上的电子态特性   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用紧束缚的sp^3s模型本电子态,用散射理论的格林函数方法研究了Sb吸附在GaSAs(110)表面上的电子特性,计算结果表明:在-12eV-+2eV的能区内有9个表面态存在,对于这样的金属/半导体系统仍有带隙存在,其带隙宽度为0.4eV左右;体系的性质表现为半导体的性质,而不表现出金属的性质。  相似文献   

8.
应用变分方法,计算了第Ⅱ类量子阱中屏蔽激子的束缚能;讨论了势阱宽度和电场对空间屏蔽效应的影响,并比较了空间依赖介电函数与介电常数对激子束缚能的影响。我们发现,随着量子阱宽度的减小,空间屏蔽对激子束缚能的影响越来越突出。但由于GaAs/AlAs第Ⅱ类量子阱的势阱宽度较小,电场对空间依赖的介电屏蔽效应的影响是很小的。  相似文献   

9.
利用精确对角化方法,研究了抛物势双层量子点中带负电荷激子的1S态和3P态的关联能与量子点的束缚势大小的变化关系,以及1S态对应几个不同的量子点间点与点的距离的束缚能随束缚势大小的变化关系,计算了电子与空穴质量比为σ=0.677和σ=0.197的缚能随束缚势大小的变化关系.  相似文献   

10.
采用非平衡态格林函数方法,研究了一个三电极的平行双量子点结构中由局域Rashba型自旋轨道耦合诱导的自旋极化的电子输运.结果发现,当电子从"源"电极经量子点区到两个"漏"电极时,它能根据自身的自旋态选择终端,即自旋极化和自旋分离可在这一结构同时实现.同时发现,量子点内的库仑相互作用对该体系的自旋输运性质有重要影响,其中有额外电极与之耦合的量子点中的库仑相互作用的强度对自旋输运起主要调节作用.  相似文献   

11.
在有效质量近似下,运用变分方法,考虑内建电场效应和量子点(QD)的三维约束效应的情况下,研究了类氢施主杂质在量子点中的位置对III族氮化物量子点中束缚激子结合能的影响。结果表明:当类氢施主杂质位于量子点中心时,对于InxGa1-xN/GaN量子点,量子点高度和In含量存在临界值,当参数大于临界值时,约束在QD中束缚激子的结合能升高,激子态的稳定性增强,提高了激子的离解温度,使人们能在较高的温度条件下观察到半导体量子点吸收谱中的激子峰。而类氢施主杂质总是使束缚在GaN/A lxGa1-xN量子点中激子的结合能升高,载流子被更强的约束在量子点中。说明对GaN/A lxGa1-xN量子点,杂质使人们能在更高温度下观察到量子点中的激子。类氢施主杂质位于量子点上界面时,束缚激子的结合能最大,系统最稳定;随着施主杂质下移,激子结合能减小,激子的离解温度下降。  相似文献   

12.
无限深球形量子点中类氢杂质态的性质   总被引:1,自引:0,他引:1  
选用含有2个变分参数的波函数,利用变分法计算了无限深球形量子点中施主杂质态的束缚能、杂质有效玻尔半径、维里定理值等随量子点尺度的变化关系.计算结果表明,该模型的结果比选用1个变分参数波函数得到的结果有所改进.  相似文献   

13.
在有效质量近似下,运用变分法计算了闪锌矿GaN/AIGaN耦合量子点中类氢杂质的施主束缚能.数值结果显示了类氢杂质的施主束缚能很大程度依赖于杂质位置和耦合量子点结构参数,当杂质位于量子点中心时,施主束缚能最大,而且随着中间垒宽的增加,杂质束缚能保持着先增加,然后不变的趋势.  相似文献   

14.
在有效质量近似下,通过变分方法研究了束缚于闪锌矿InGaN/GaN量子点中的激子态.详细研究了振子强度和发光波长随InGaN/GaN量子点结构参数和量子点内In含量的变化关系.数据结果表明:量子点结构参数和In含量对闪锌矿InGaN/GaN量子点的振子强度和发光波长有重要的影响;激子效应使量子点发光波长红移.  相似文献   

15.
在有效质量近似下,通过变分方法研究了束缚于闪锌矿InGaN/GaN量子点中的激子态。详细研究了振子强度和发光波长随InGaN/GaN量子点结构参数和量子点内In含量的变化关系。数据结果表明:量子点结构参数和In含量对闪锌矿InGaN/GaN量子点的振子强度和发光波长有重要的影响;激子效应使量子点发光波长红移。  相似文献   

16.
在有效质量近似和变分原理的基础上,选取三个不同的尝试波函数,研究了纤锌矿结构的InxGa1-xN/GaN柱形量子点中离子施主束缚激子(D+,X)的束缚能随量子点高度L、In含量x及离子施主杂质位置z0的变化规律.计算结果表明:三个不同尝试波函数变分计算得到的束缚能随量子点高度L、In含量x及离子施主杂质位置z0的变化规律一致.但对比三个不同尝试波函数计算所得结果,依据变分原理可知,三参量尝试波函数优越.  相似文献   

17.
使用少体物理方法, 研究在任意磁场中非极化束缚锂量子点的低态能谱. 带正电杂质束缚的二维3电子量子点被称为束缚锂量子点, 其中正杂质位于z轴上且与束缚锂量子点所在平面(x y平面)相距为d. 研究表明, 当电子自旋为非极化时, 束缚锂量子点的低态能谱受磁场B和距离d的影响, 其最低态角动量L随B和d的变化而跃迁, 并从动力学方面进行了分析.   相似文献   

18.
杂质对柱形量子点系统束缚能的影响   总被引:1,自引:0,他引:1  
在有效质量近似和变分原理的基础上,考虑内建电场(BEF)效应和量子点的三维约束效应.研究了纤锌矿结构的GaN/AlxGa1xN单量子点中杂质体系的基态能量与杂质电荷的关系,讨论了杂质电子的束缚能随量子点的主要结构参数(量子点高度L和量子点半径R)以及杂质在量子点中不同位置的变化规律,并研究了考虑量子点内外电子有效质量失配对杂质电子束缚能的影响.  相似文献   

19.
对MOCVD生长的GaAs/AlxGa1-xAs多量子阱结构进行了光致发光特性的测量。结果观察到三个发光峰;位于1.664eV处的峰是自由激子发光;峰值处于1.48leV的发光是GaAs中施主Si(Ga)原子上的电子向受主Si(As)跃迁引起的;而在1.529eV处的弱发光峰是GaAs阱层中Si(Ga)原子上的电子与价带量子阱中基态重空穴复合形成的。  相似文献   

20.
在QQ的色八重态产生机制下,用三组omeron的部分子分布函数,在√s=200GeV,4GeV〈PT〈10GeV条件下,计算并了讨论了γ+P→P+J/ψ+X过程中J/ψ的产生截面,计算结果受色八重态顶角因子的选取的影响很大,硬衍藿面与单举截面的比值能减小这种影响,如果能消除项角因子的影响,则比值的大小只与Pomeron的流因子及部分子布函数有关。  相似文献   

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