ZrO2—Y2O3—Al2O3系统的拉曼光谱

测试了60％ZrO2(4.05%Y2O3)-40%a-Al2O3(ZYA)(百分数全为重量比）粉末样品受机械压力前后的拉曼光谱和纯ZrO2粉末样品的拉曼光谱,样品光谱的对比研究表明,四方相ZtrO2受到50MPA的冲压后,约64％转化为单斜相,由此证明了四方相ZrO2陶瓷基质的相变增韧机制,文中同时给不同相ZrO2拉曼活性模的群论分析结果。     

N2O4—O3硝化芳烃机理研究

实验证明,臭氧化四氧化二氮硝化芳烃的反应能力与芳烃电离势很有关系,该反应的ρ^＋（－6．8）和产品异构体分布与传统硝化方法所得的结果很相似。通过比较和实验,该反应过程为一电子转移形成电子转移络合物过程。该电子转移络合物最后分解为基芳烃化合物。     

N2O氮化n—MOSFET‘s低温可靠性研究

通过与热氧化ｎ－ＭＯＳＦＥＴ’ｓ比较,调查了Ｎ２Ｏ氮化（Ｎ２ＯＮ）ｎ＝－ＭＯＳＦＥＴ‘ｓ在最大衬底电流ＩＢｍａｘ和最大栅电流ＩＧｍａｘ应力下的低温热载流子效应,结果表明,Ｎ２ＯＮ器件在低温就在室温一样呈现出大大抑制的热载流子应力感应退化的特性;低温下产生的浅能级陷阱增强了器件的退化,Ｎ２Ｏ的氮化也大大减少了浅能级陷阱的产生。     

N2O4离解度的简易测定方法

本文对N_2O_4的离解度不但从理论上进行了分析,同时做了实际测定。说明在通常情况下,不能制得纯净的NO_2,而是NO_2和N_2O_4的混合物。它是一个受温度制约的NO_2—N_2O_4平衡体系。因此在讨论NO_2溶于水后体积发生变化时,必须同时考虑NO_2和N_2O_4分别被水吸收后产生NO体积的总和。否则必然导致计算和实验上的错误,在中学化学教学中,这一点应引起注意。     

原位漫反射红外光谱对N2O在分子筛上吸附的研究

基于离子交换法制备了Fe改性ZSM-5、MCM-22和Beta分子筛,原位漫反射红外光谱(in situ DRIFTS)考察了N2O在分子筛上的吸附行为.结果表明:N2O在分子筛上的吸附强度较弱;N2O可分别吸附在分子筛表面Br(o)nsted酸中心和价键补偿Fe3 阳离子位,其中2 228 cm-1红外吸收峰归属于N2O在Br(o)nsted酸中心的吸附,2 218 cm-1红外吸收峰是Fe3 对N2O的吸附;不同构型分子筛的孔道结构不影响N2O在分子筛上的吸附.     

Fe-ZSM-5分子筛上NO和N2O吸附行为及NO助N2O催化分解机理的研究

利用原位漫反射红外光谱法考察了NO 和N2O在液相离子交换法制备的Fe-ZSM-5分子筛上的吸附行为,并对NO助N2O催化分解的机理进行了研究.结果表明,NO和N2O均可吸附在Fe-ZSM-5分子筛表面的Brnsted 酸性位和价键补偿铁离子位上;且在高温下,NO和N2O均主要以价键补偿Fe离子的形式吸附在分子筛上.NO和O2在Fe-ZSM-5表面可反应生成N2O4、NO2和NO-3或NO-2;NO与N2O分解释放的O反应生成NO2,因而能起到加速N2O分解和提高Fe-ZSM-5分子筛催化活性的作用.     

陆英提取物乌索酸的紫外和红外光谱研究

采用高效液相色谱二极管矩阵检测器测定了乌索酸的紫外光谱,建立了分析色谱峰纯度的方法.采用傅立叶红外变换光谱仪测定了乌索酸的红外光谱,得到乌索酸的特征 IR光谱结构,解析了乌索酸的 IR光谱与其结构特征的关系,确定了乌索酸 IR光谱的结构特征和官能团归属.IR光谱的谱峰形态清晰可辨,使乌索酸的主要结构和官能团均能得到准确的分析和指认,与质谱联用,推定了乌索酸的分子骨架、官能团位置和结构.     

对-甲基杯[4]芳烃激光光解的研究

研究了对－甲基杯[4]芳烃在环己烷和乙腈中的激光光解行为,在环己烷中观察到４２００nm及５４０nm附近的杯芳烃激发三线态吸收峰,极性溶剂乙腈对该三核态有稳定作用,吸收峰显著红移,其三线态双峰特征与不带取取代基的杯[4]芳烃相近,同时发现在３３０nm附近杯芳烃自由基吸收峰,其动力学分析表明,该自由基按二级动力学衰减。     

不同放牧强度对草原生态系统N2O和CH4排放通量的影响

用密闭箱法原位观测了不同放牧强度时草原生态系统Ｎ２Ｏ（Ｎ２Ｏ－Ｎ）和ＣＨ４（ＣＨ４－Ｃ）的排放通量，研究了以轮牧为放牧方式低度放牧率、中度放牧率和重度放禾率对草原生态系统Ｎ２Ｏ和ＣＨ４排放通量的季节变化和日变化的影响，得出放牧强度对于草原生态系统Ｎ２Ｏ和ＣＨ４的排放有一定影响，不放牧率的影响结果各不相同。低度放牧，中度放牧和重度放牧以及对 场Ｎ２Ｏ通量季节变化范围１．６４￣９．６９、０．０７￣１８     

N2O4—O3硝化取代芳烃时取代基上的P轨道的邻拉协助作用

对N2O4－O3硝化取代芳烃进行广泛的研究，发现其产物的异构体分布与传统的混酸硝化产物的异构体分布有很大差别，并对造成这种差别的原因进行了分析。分析表明，取代基上的P轨道的邻位协助作用是主要因素，电子密度分布计算及试验结果支持这种解释。     

尖晶石型LiMn2O4高温电性能的研究

采用熔盐浸渍法用不同的锂锰源(LiNO3、LiOH*H2O、EMD、CMD)制备了4种尖晶石型LiMn2O4正极材料.对材料进行了XRD结构表征,采用最小二乘法计算了样品的晶格常数.采用BET法测定了各样品的比表面积,测定了各样品的电导率.检测了各样品在高温下的贮藏和循环性能,在高温下作了循环伏安分析.结果表明虽然各样品均属于立方尖晶石结构但晶格常数和比表面积均不相同.以LiOH*H2O和EMD为原料制得的样品的极化最小,在高温下的循环性能最好.     

2-磺酸钠蒽醌水溶液新颖瞬态产物时间分辨研究

采用纳秒级激光光解动态吸收光谱装置研究了 2 磺酸钠蒽醌 (AQS)水溶液激光光解行为 ,证实了 310nm的瞬态吸收为 2 磺酸钠蒽醌三重态与水反应生成的新颖加成自由基的特征吸收峰 ,以脉冲辐解方法进行了进一步的确证 ,探讨了该瞬态产物产生的过程及反应的机理 .     

低热固相法合成纳米(NH4)3PMo12O40·4H2O及其机理的研究

通过低热固相反应合成了纳米(NH4)3PMo12O40*4H2O,XRD、31P NMR研究发现,在此固相反应的4个步骤中(扩散,反应,成核,生长),反应的速率控制步骤是产物的成核.     

Resistless photochemical etching of a silicon wafer by UV laser with an H2O2 and HF aqueous solution

A new resistless etching method has been developed for Silicon wafers. This new method uses an aqueous solution consisting of hydrogen peroxide (H2O2) and hydrogen fluoride (HF) as the activating etchants. A 193 nm ArF excimer laser and a 266 nm fourth harmonic generation Nd:YAG laser were used as the photon sources. Results showed that pattern etching has been achieved without any photoresist film. In the case of the 193 nm laser, the optimal etching appeared at a 1.3 H2O2/HF ratio, where an etch depth of 210 nm was achieved with a fluence of 29 mJ/cm2 and shot number of 10000. At the same conditions, the etch depth with H2O2 and HF solution was three times of that by using H2O and HF mixture. In the case of the 266 nm Nd:YAG laser, the optimal etching appeared at twice ratio of H2O2/HF, where the etch depth of 420 nm was achieved with a fluence of 12 mJ/cm2 and shot number of 30000. Results showed that the etch effect of the 266 nm Nd: YAG laser was more desirable than that of the 193 nm ArF excimer laser.``Keyords: UV laser, resistless photochemical etching, hydrogen peroxide (H2O2).     

水质对UV/H2O2降解LAS的影响及机理

研究了UV/H2O2工艺对LAS的去除效果以及水的pH、浊度对LAS降解的影响和机理.结果表明:UV/H2O2工艺可以有效的去除水中LAS,光降解过程符合一级反应动力学模型;在H2O2投加量为8 mg.L-1,14 W低压汞灯照射下,LAS在蒸馏水中光降解速率常数为0.018 1 min-1;在酸性条件下,有利于LAS光降解;浊度大于6NTU时,光降解速率常数迅速下降.     

NiFe2O4-SiO2纳米复合微粒的制备和表征

合成了NiFe2O4-SiO2纳米复合微粒,借助傅立叶变换红外光谱仪(FT-IR)、X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)等分析手段对样品的成分、结构及形貌进行了表征,利用振动样品磁场计(VSM)测定了磁核及其复合微粒的磁学性能,并在pH=6的条件下测定了样品对溴代十六烷基吡啶的饱和吸附量.结果表明:合成的纳米复合微粒分布均匀,具有磁性和吸附性能,在磁靶向治疗中具有潜在的应用价值.     

细晶Si3N4/Al2O3复合陶瓷

用热压法制备了 Si3N4 / Al2 O3细晶复合陶瓷 ,研究了热压过程中出现的氧化、致密性、相变等现象 ,讨论了热压温度对材料的力学性能及相组成的影响。结果表明 ,热压 Si3N4 / Al2 O3复合陶瓷需在氮气保护下进行 ,热压温度保持在 130 0℃左右为佳 ,热压温度越高 ,致密度下降 ,晶粒明显粗化 ,力学性能下降 ,其下降原因与较高温度下莫来石的形成有关     

SrAl2O4的电子结构及特性研究

本文采用密度泛函方法（DFT）对新型长余辉发光材料基质SrAl2O4的单斜晶进行了相关计算,从得到的晶体结构（CS）、能带（BE）、态密度（DOS）等方面对这种基质的物理特性进行了分析．从电子分布层面研究SrAl2O4微观结构的结果将有助于从基质的改进方面来提高发光材料的长余辉特性．     

城市污泥与煤混烧过程中Nox和N2O的排放特性

在热输入为0.2 MW的循环流化床试验台上进行了城市污泥与煤的混烧试验,着重研究了污泥/煤掺混质量比、空气过剩系数、二次风率等因素对NOx及N2O排放的影响.研究表明,随着污泥掺烧比例的增大,流化床密相区和稀相区的温度明显下降,烟气中NO和NO2的质量浓度均呈下降趋势,而N2O的质量浓度则明显上升;随着空气过剩系数的增加,NOx和N2O的排放质量浓度均呈增加趋势;在空气过剩系数保持不变的条件下,随着二次风率的增加,密相区的还原性气氛增强,NOx和N2O的排放质量浓度呈下降趋势.