拟环强等素根的模刻划

引入强等素N-群，给出强等素根S(N)的模刻划。最后讨论了各种根之间的关系。     

蕴含K1,4+e可图序列的刻划

对于给定的图H,称π是蕴含H可图的,如果π有一个实现包含H作为子图.K_k,C_k,P_k分别表示k阶完全图,圈长为k的圈和路长为k的路.K_(1,4) e表示K_(1,4)添加一条边后构成的具有5个顶点5条边的简单图.Luo Rong~[12]考虑了蕴含C_k可图序列的刻划问题,并刻划了当k=3,4,5时,蕴含C_k的可图序列.此外,Luo等人~[13]刻划了蕴含K_4的可图序列.Eschen和Niu~[14]刻划了蕴含K_4-e的可图序列.Yin Jianhua等人~[18]刻划了当r=2,s=3和r=2,s=4时,蕴含K_(r,s)的可图序列,其中K_(r,s)是r×s完全二部图.Hu Lili等人~[3-4]刻划了蕴含K_5-C_4,K_5-Z_4的可图序列.本文刻划了当n≥5时,蕴含K_(1,4) e的可图序列.     

用元的阶刻划U3(2n)

证明了除U3( 2 )外 ,所有射影特殊酉群U3( 2 n)均可由它们的元的阶加以刻划 .     

关于Frobenius群的一个特征标刻划

给出了Frobenius群的一个特征标刻划：设G是一个有限群,1≠N△G,则G是以N为Forbenius核的Frobenius群的充要条件是对每个1N≠θ∈IrrN,θ∧G不可约。     

关于J_2(N)遗传性的注记

本文证明I是N的理想,那末:①J_2(I)■J_2(N)∩I,②若Г是2类型I群,那末L={n∈N|ne∈L}={n-ne|n∈N}+L是极大的2类型N群,其中e是模左单位元,e∈I,L是I的2-模左理想。且L+Ie=N。     

多圈法刻划圆光栅

本文叙述了多圈法刻划圆形计量光栅的方法。近年来我们应用多圈法刻划,使精度提高了约一秒,即是说用单圈法刻划精度约为2″或更多些,而用多圈法刻划精度则为1″或更小些。     

格值半连续映射的乘积式刻划

首先构造了一个反例,说明用积空间的开子集刻划通常下半连续函数的情形对一般的格值半连续映射不必成立.然后讨论了用X×L的子集刻划格值半连续映射的各种情形,并且通过在X×M(L)上引入新的拓扑,给出了格值半连续映射的几个刻划定理.     

关于紧致(T_2)型空间的刻划

紧致(T_2)型空间是一类重要的空间,它有各种刻划方式。我们将讨论如何用它上面的连续函数去刻划它。空间的拓扑结构完全决定了它上面连续函数空间的结构。反过来,拓扑空间的结构也应当可以由其上的连续函数决定。     

n-凝聚环的若干刻划

通过引入FPn-内射右模与FPn-平坦左模来刻划右n-凝聚环，证明了R是右n-凝聚环当且仅当FPn-内射右R-模组成的模类是上分解的(n≥1)，当且仅当FPn-平坦左R-模组成的模类是分解的(n≥2)．     

芜湖赭山风景区植物游憩刻划研究

城市生态型公园是游憩量最大的一类风景区,而在城市生态型公园中户外游憩刻划对被刻划的植物影响最大,对游憩景区的环境也会造成一定程度的影响.本文对位于芜湖市中心的赭山风景区(生态型城市公园)进行了游憩刻划调查,调查了20条不同类型游憩步道上的409棵被刻划的树木,发现刻划主要集中在14个树种上,刻划的平均长度为88.5cm、宽度为27.8cm,最大刻痕的平均宽度为16.15mm、深度为2.07mm,调查区域的刻划频度为0.14棵/米;分析了刻划时间、空间上的分布特征,结果显示赭山风景区的游憩刻划程度较大,对景区内植被和环境造成了一定影响.     

强正则环的若干刻划

环R称为强正则的,如果任意的a∈R,使得a=a~2b.本文研究满足条件:每个单奇异右(或左)R-模是GP-内射的SF-环,并给出了强正则环的一些刻划.     

Suzuki系列单群的一个刻划

“用群的极大子群阶之集”刻划了Suzuki系列单群S_z(2~(2m+1))(m≥1).证明了定理 设G是有限群,M=S_z(2~(2m+1))(m≥1),则G(?)M当且仅当π_s(G)=π_s(M).     

蕴含K5-P2可图序列的刻划

对于给定的图H,称π是蕴含H可图的,如果π有一个实现包含H作为子图.K k,C k,Pk分别表示k阶完全图,圈长为k的圈和路长为k的路.K 5-P2表示从5阶完全图中删去长为2的路.Luo Rong[14]考虑了蕴含C k可图序列的刻划问题,并刻划了当k=3,4,5时,蕴含C k的可图序列.此外,Luo等人[15]刻划了蕴含K 4的可图序列,Eschen和Niu[16]刻划了蕴含K 4-e的可图序列,Yin Jianhua等人[23]刻划了当r=2,s=3和r=2,s=4时,蕴含K r,s的可图序列,其中K r,s是r×s完全二部图.Hu Lili等人[3-5]刻划了蕴含K 5-C4,K 5-Z4,K 5-E3的可图序列,徐正华等人[18]刻划了蕴含K1,4 e的可图序列,王艳[17]刻划了蕴含K 1,4 P2的可图序列,刘明静[13]等人刻划了蕴含K 5-Z5的可图序列.本文刻划了当n≥5时,蕴含K 5-P2的可图序列.     

蕴含K5-K2可图序列的刻划

对于给定的图H,称π是蕴含H可图的,如果π有一个实现包含日作为子图.Kk,Ck,Pk分别表示k阶完全图,圈长为k的圈和路长为k的路.K5-P2表示从5阶完全图中删去长为2的路.LuoRong[14]考虑了蕴Ck可图序列的刻划问题,并刻划了当k=3,4,5时,蕴含Ck的可图序列.此外,Luo等人[15]刻划了蕴含K4的可图序列,Eschen和Niu[16]刻划了蕴含K4-e的可图序列,Yin Jianhua等人[23]刻划了当r=2,S=3和r=2,S=4时,蕴含Kr,s的可图序列,其中Kr,s是r×s完全二部图.Hu Lili等人[3-5]刻划了蕴含K5-K4,K5-Z4,K5-E3的可图序列,徐正华等人[18]刻划了蕴含K1,4+e的可图序列,王艳[17]刻划了蕴含K1,4+P2的可图序列,刘明静[13]等人刻划了蕴含K5-Z5的可图序列.本文刻划了当n≥5时,蕴含K5-P2的可图序列.     

光栅刻划机导向导轨支撑结构刚度优化设计

运用有限元手段对刀桥导轨的刚度进行了有限元分析,得到了刚度方面的分析结果和模态分析结果,并在不同位置加40N载荷进行实验验证。在此基础上,对原有的结构进行一体式结构优化设计。有限元分析结果表明,刀桥底座刚度有了大幅度的提高,一阶频率由原来的690.26Hz提高到998.73Hz,一阶振型的方向也从直接影响刻划的水平方向变为对刻划不敏感的垂直方向。     

序半群中N—类左单性的刻划

分别用序半群的左序理想、元素、y－类、N-类的表示给出序半群中N－类的左单性的若干刻划,应用本文的结果可得到无序半群上的相应结果。     

奇异模刻划的环

用奇异模给出半单环、正则环的若干刻划,在交换整环上给出了域的模刻划。     

光栅刻划机刻划系统光机电集成优化方法研究

针对大面积衍射光栅刻划机在宏观尺度下进行微纳加工的工作特点以及纳米级刻线检测困难的问题,提出了一种光机电集成优化方法.此方法采用计算傅里叶光学和弦振动理论进行光栅刻线误差分析,结合振动实验及光学测量进行验证,最后采用智能优化方法对刻划系统进行结构参数优化.虚拟样机仿真结果表明,刻划系统的振动幅度降低了30%,验证了该集成优化方法的有效性.     

大型衍射光栅刻划机控制系统研究

介绍了大型高精度衍射光栅刻划机的机械结构及其控制系统设计,并针对具有复杂机械结构的控制系统研究了一种新的仿真方法.通过利用Pro/Mechanism模块中的Custom Load(定制负荷)插件实现控制算法,从而在虚拟样机上实现运动控制的仿真.采用这种方法,在光栅刻划机上进行了精定位控制仿真,并基于仿真结果进行控制方案优化,提高了控制系统的开发效率和控制方案的有效性.     

关于投射模的一个刻划

讨论了文献「１」中给出的关于投射模的刻划的一个命题，举出反例说明这个命题不成立，并个性部分条件得到某些关于投射模的新刻划。