纳米铈-铝共掺杂氧化锌透明薄膜的光学性能研究

用溶胶-凝胶浸渍提拉法在普通玻璃片上制备了纳米Ce-Al共掺杂ZnO(Ce-AZO)透明薄膜,并研究了Ce-AZO薄膜的光学性能.结果表明:Ce-AZO薄膜在可见光区的平均透过率均在85%以上;Al和Ce掺杂摩尔分数分别为4%和2%、pH 7.1、退火温度450℃时,Ce-AZO薄膜在可见光区500～700 nm的透过率达到92%,在紫外区300～350 nm平均透过率只有2%.     

中频磁控溅射法制备氧化锌钇薄膜及其性能研究

利用中频磁控溅射法，溅射氧化锌钇（ZYO）陶瓷靶材，在玻璃基底上制备ZYO透明导电薄膜。研究了氧化钇掺杂量和基底温度对薄膜的结构、电学性能和光学性能的影响。结果表明，ZYO薄膜为钎锌矿型结构，呈c轴择优取向，平均可见光透过率（400-800nm）达到80％以上。制备的ZYO薄膜具有的最低电阻率为1．18×10^-3Ωm。     

增强可见光透过的铈掺杂ATO透明薄膜研究

采用溶胶-凝胶法与浸渍提拉技术在普通玻璃片上制备出纳米铈掺杂的ATO (Ce/ATO)透明薄膜. 利用XRD、SEM、UV-Vis和FL等测试方法对薄膜的结构与性能进行了表征. 结果表明：Ce/ATO薄膜仍保持四方金红石晶相结构,且铈成功地掺杂到ATO中;薄膜表面光滑平整、结构致密,膜层晶粒分布均匀,晶粒尺寸分布为8-12 nm;与ATO薄膜相比, Ce/ATO薄膜在可见光区的透过率有明显增强, 当Ce掺杂量为1 mol%时,薄膜在440 nm-680 nm的透过率超过了空白玻璃;当Ce掺杂量为3 mol%时,薄膜在440 nm-600 nm的平均透过率达到92%以上.     

金刚石薄膜光学透过性能的研究

研究了金刚石薄膜的厚度、表面粗糙度及其成分对金刚石薄膜光学透过率的影响,采用AFM观察金刚石膜的表面形貌并测试其表面粗糙度Ra值;用XPS仪测试了金刚石膜成分;用UV-365分光光度仪测试了光学透过率.结果表明:表面粗糙度是影响金刚石薄膜光学透过率的重要因素,其降低一倍,光学透过率增加两倍多.要提高金刚石薄膜的光学透过率,应大力降低表面粗糙度.     

中频磁控溅射法制备氧化锌钇薄膜及其性能研究(英文)

利用中频磁控溅射法,溅射氧化锌钇(ZYO)陶瓷靶材,在玻璃基底上制备ZYO透明导电薄膜。研究了氧化钇掺杂量和基底温度对薄膜的结构、电学性能和光学性能的影响。结果表明,ZYO薄膜为钎锌矿型结构,呈c轴择优取向,平均可见光透过率(400～800nm)达到80%以上。制备的ZYO薄膜具有的最低电阻率为1.18×10-3Ωcm。     

Pr掺杂对SrTiO3薄膜光学性能的影响

采用金属有机物分解法在石英衬底上制备了Pr掺杂SrTiO3薄膜材料,并对其光学性能进行了研究。Raman谱显示Pr掺杂SrTiO3样品中存在极性纳米微区。另外,所有样品都表现出高的光学透过率,并且Pr的含量对样品的透过率和能隙都有明显影响,这与Pr掺杂造成样品的晶粒大小、晶格常数、结晶度以及氧空位浓度的变化有关。     

氧化锌薄膜的光电性能研究

采用溶胶-凝胶法在ITO导电玻璃衬底上制备氧化锌(ZnO)薄膜,研究其结构、光学透过率和电学性能.AFM测试结果表明,ZnO薄膜晶粒尺寸随退火温度的提高而增大.薄膜的光学透过率曲线显示,在大于400nm的波段,ZnO的透过率比较高,而其禁带宽度约为3.25eV.在相同的电压下,ZnO薄膜产生的电流大小随着退火温度的提高,先增强后减弱,在550℃时达到最大.     

K掺杂量对氧化锌薄膜晶体结构和光学性能的影响

利用溶胶-凝胶旋涂法(sol-gel)在玻璃衬底上制备了不同K掺杂量的K-N共掺ZnO薄膜.采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV-Vis)和光致发光谱(PL)对样品的晶体结构、表面形貌和光学性能进行了表征.结果表明:与未掺杂样品相比,K-N元素共掺之后,薄膜结构仍保持六方纤锌矿型且沿c轴择优生长;随着K掺杂量的增加,样品的(002)衍射峰强度先增强后减弱,而对薄膜的紫外发光峰影响不大.当K掺杂量(原子比)为0.060时,晶粒尺寸最大,结晶性能最优,紫外发光峰强度相对较大.利用紫外-可见分光光度计对薄膜的光学透过率进行研究,结果表明不同K掺杂量的K-N共掺ZnO薄膜其光透过率没有明显变化,均维持在80%左右.     

衬底温度对钛镁掺杂氧化锌薄膜光学性能的影响

以石英玻璃作为衬底,采用射频磁控溅射技术沉积钛镁掺杂氧化锌(TMZO)薄膜样品.基于分光光度计测量的透射光谱数据,利用光学表征方法确定了薄膜样品的折射率、消光系数和光学能隙等光学参数,研究了衬底温度对TMZO样品光学性能的影响.结果表明,可见光区域所有薄膜的折射率均随波长增加而单调减小,表现为正常的色散关系,衬底温度对薄膜样品的透光性和光学参数具有明显的影响.衬底温度升高时,TMZO样品的可见光区平均透过率和光学能隙均呈现出先增后减的变化趋势,当衬底温度为300°C时,它们都具有最大值.     

铝掺杂氧化锌薄膜的光学性能及其微结构研究

以氧化铝(Al2O3)掺杂的氧化锌(Zn O)陶瓷靶作为溅射靶材,采用射频磁控溅射工艺在玻璃基片上制备了具有c轴择优取向的铝掺杂氧化锌(Zn O:Al)薄膜样品.通过可见-紫外光分光光度计和X射线衍射仪的测试表征,研究了生长温度对薄膜光学性能及其微结构的影响.实验结果表明:薄膜性能和微观结构与生长温度密切相关.随着生长温度的升高,样品的可见光平均透过率、(002)择优取向程度和晶粒尺寸均呈非单调变化,生长温度为640 K的样品具有最好的透光性能和晶体质量.同时薄膜样品的折射率均表现为正常色散特性,其光学能隙随生长温度升高而单调增大.与未掺杂Zn O块材的能隙相比,所有Zn O:Al薄膜样品的直接光学能隙均变宽.     

稀土碱式碳酸盐LnOHCO3(Ln=La,Sm,Pr)的水热合成及其非线性光学性质

采用水热法合成了一系列不同形貌的稀土的碱式碳酸盐LnOHCO3(Lr=La,Sm,Pr),详细研究了合成条件,解释了反应机理.并用XRD,SEM,TG进行表征,同时第一次报道了LnOHCO3(Ln=Sm,Pr)的倍频效应(SHG).     

CuInSe2多晶薄膜的光学特性研究

根据ＣｕＩｎＳｅ２多晶薄膜的反射特性和透射特性,研究了薄膜的吸收系数α（λ）、消光系数ｋ（λ）、折射率ｎ（λ）以及光学禁带宽度Ｅｇ．结果表明,用双源法制备的ＣｕＩｎＳｅ２多晶薄膜的光学特性和其它方法获得的ＣｕＩｎＳｅ２多晶薄膜的光学特性基本一致     

稀土对6063铝合金组织性能的影响

对６０６３铝合金中添加稀土元素后所引起的机械性能、物理性能的变化进行研究，结果表明：稀土相主要分布在晶界，部分存在晶内；热挤压态稀土相周围有大量位错塞积；稀土元素的加入使铝合金晶粒细化、机械性能改善；添加少量的单一稀土Ｌａ能显著提高铝合金的导电导热能力；添加适量富Ｃｅ混合稀土可使２００℃时的热扩散率提高１２％．     

真空反应蒸发法制备ZnO透明导电薄膜

以ＺｎＣｌ２作为蒸发源，采用真空反应蒸发技术制备出具有高透过率和电导率的ＺｎＯ薄膜．对制备薄膜的结构，电学和光学特性进行了测量．     

氧化物半导体气敏膜片光学特性研究

为了更深入地研究半导体气敏器件的气敏－光学特性,进一步提高其性能,地导体气敏元件的机理及光波在导电媒质中的传播,本文在实验基础上,建立了氧化物半导体气敏片的光学特性数学模型,导出了光通过膜片时上对透过率与膜片生长的若干主要因素的定量关系。     

稀土光纤放大器研究概况

简单介绍了稀土光纤放大器的结构、工作原理、研究概况 ,评述了作为稀土光纤放大器芯层材料的石英光纤及塑料光纤的性能优缺点 ,并展望了放大器未来发展方向     

硅压阻式传感器性能影响因素的研究

本文对影响硅压阻式传感器性能的诸因素进行分析,并对圆形力敏器件的灵敏度进行了剖析,给出了部分实验数据与理论分析符合较好。本文的研究对开发设计高性能敏感元件有重要的指导意义     

Ce-Co-Cu-Fe稀土永磁合金的研制

本文通过研究Cu含量、Fe含量、Co含量和其它工艺参数对Ce-Co-Cu-Fe稀土永磁合金磁性能的影响,制备出了Br≥6000GS,_bHc≥4000Oe,(BH)_m=8～12MGOe的高磁性能稀土永磁合金.     

稀土对铝板组织和深冲性能的影响

用金相和电子显微分析技术，研究了微量稀土在深冲铝板中的分布、存在形式及其对板材力学性能、深冲性能的影响。结果表明，稀土主要以Ａｌ１０Ｆｅ２ＲＥ相和ＡＩＦｅＳｉＲＥ相的形式存在。在铸造组织中，这些化合物富集于晶界上和二次枝晶界上。经变形加工和热处理后，弥散分布于晶内和晶界。微量稀土能改善铝中Ｆｅ，Ｓｉ夹杂的形态和分布，但过量稀土会形成球团状化合物聚集。这种化合物聚集，对深加工工模具产生磨料磨损。研究指出，深冲铝材稀土含量不宜超过０．０２０％（质量分数）。     

稀土元素La,Y对钨材显微组织和性能的影响

本文借助金相显微镜、扫描电镜、透射电镜、X射线衍射技术等手段研究了稀土钨加工材的显微组织和性能、稀土第二相粒子在加工和退火过程中的变化规律及稀土钨材的再结晶行为特征。结果表明:稀土元素La,Y的存在强烈地抑制垂熔过程中钨晶粒的长大,而且Y的抑制作用更为显著;随着加工过程的进行,将发生大尺寸第二相粒子的变形和破裂而小尺寸粒子不变形的过程,这一过程将改变第二相粒子在钨基体中的弥散状态,最终影响到钨材的加工性能、再结晶行为及热电子发射性能;此外第二相粒子在高温下的稳定性也是影响材料高温性能、再结晶行为和热电子发射性能的关键因素。