磁光静态记录温度场的分布及计算

讨论了磁光静态记录过程中单层膜与多层膜在激光照射微区内温度场的分布，导出多层膜在激光照射下温度变化的解析表达式，由此模拟出局域瞬态温度场，在理论上确定了ＴｂＦｅＣｏ记录材料的成畴大小和形状，这对磁光薄膜宽温化，表面温度特性和磁光记录畴表面形貌分析等具有实际意义。     

磁存储的研究现状及发展方向

磁性存储是最常用的大容量存储技术。其记录密度越来越高，发展也越来越快。通过对信息记录、读出和存储3个过程的分析，对硬磁盘记录、垂直磁记录和磁光记录的优缺点作了对比。指出了采用垂直记录模式、非晶结构合金薄膜或铁氧体薄膜介质是实现超高密度记录的方向，光辅助磁记录是很有希望的记录技术。还指出量子磁盘技术是未来极高密度记录的方向。     

静态磁光记录温度场的模拟

讨论磁光静态记录过程中单层膜与多层膜在激光照射微区内温度场的分布,导出多层膜在激光照射下温度变化的解析表达式。由此模拟出局域瞬态温度场,在理论上确定了TbFeCo记录材料的成畴大小和形状。这对磁光薄膜宽温化、表面温度特性和磁光记录畴表面形貌分析等具有重要的实际意义。     

可擦型富Tb的TbFeCo磁光存贮膜静态记录性能实验测试

实验测试了富Ｔｂ的ＴｂＦｅＣｏ激光存贮膜对６３２．８ｎｍ激光的静态记录性能。结果表明，当记录激光功率小于３．５ｍＷ时不能实现记录，记录磁畴尺寸随记录激光功率和记录外加磁场的增加而增大。     

非晶SmDyFeCo薄膜的制备和磁光记录特性

研究了制备非晶ＳｍＤｙＦｅＣｏ薄膜的方法和它的磁光记录畴大小随记录激光功率Ｐ及记录偏磁场Ｈｂ的变化趋势，并与非晶重稀土－过渡族ＤｙＦｅＣｏ薄膜的磁光性能比较，得到了重要的结论：在非晶重稀土－过渡族ＤｙＦｅＣｏ薄膜中加一定量的轻稀土元素Ｓｍ组成四元非晶合金薄膜能使它的磁光记录畴直径减小，它可能成为未来高记录密度的新型磁光材料     

磁记录与磁光记录

信息的可擦重写磁光记录方式克服了磁记录方式信息密度较小的缺点,本文从磁记录原理出发介绍了磁光记录的原理及其近期发展,概述了这两种技术对记录介质的技术要求,并对记录材料的最新进展进行了述评．     

激光辅助跨越补偿点磁化反转动力学的实验测量

文章介绍了稀土-过渡族金属铁磁合金薄膜的磁学性质以及超快磁化动力学的一般测量方法，论述了传统实验手段难以测量非可逆的激光辅助跨越补偿点磁化反转动力学的原因．实现了一种新的实验测量方法——光-磁同步动态磁光测量法，并论述了相关原理和技术．以此方法测量得到了GdFeCo薄膜的磁化反转动力学，能够反映真正跨越补偿点磁光记录的过程信息．     

磁存储的研究现状及发展方向

磁性存储是最常用的大容量存储技术,其记录密度越来越高,发展也越来越快。通过对信息记录, 读出和存储3个过程的分析,对硬磁盘记录。垂直磁记录和磁光记录的优缺点作了对比,指出了采用垂直记 录模式,非晶结构合金薄膜或铁氧体薄膜介质是实现超高密度记录的方向,光辅助磁记录是很有希望的记 录技术。还指出量子磁盘技术是未来极高密度记录的方向。     

高密度可读写DVD技术分析

对高密度可读写DVD光盘所采用的相变记录技术、增加记录密度的方法、轨道格式的确定、前置技术、ZCLV转动控制技术、绿色和兰色激光技术等关键技术作了介绍和分析。     

磁光静态记录温度场的分布及计算

讨论了磁光静态记录过程中单层膜与多层膜在激光照射微区内温度场的分布，导出多层膜在激光照射下温度变化的解析表达式，由此模拟出局域瞬态温度场，在理论上确定了ＴｂＦｅＣｏ记录材料的成畴大小和形状，这对磁光薄膜宽温化、表面温度特性和磁光记录畴表面形貌分析等具有实际意义     

三层磁性耦合膜的磁化过程

从理论上计算了三层磁性耦合的磁化过程。假定每层膜具有单轴各向异性，且易轴方向垂直于膜面，各层磁化曲线都为矩形。第一层与第三层组成成份和膜厚完全相同。我们得到了各种各样磁化过程及其条件。尤其指出了得到矩形磁化过程条件。磁光记录需要矩形磁化过程，为进一步多层膜磁光记录研究提供了依据。     

Thickness dependence of magnetic properties in DyFeCo films

Films of amorphous DyFeCo were deposited on glass substrates using RF sputtering deposition system. The thickness dependence of the coercivity of DyFeCo films prepared under the same sputtering conditions was investigated.It is found that the composition is nearly thickness independent, while the coercivity is shown to increase with the film thickness increasing at the beginning, then above a certain thickness decrease with the thickness increasing. The thickness dependence of the coercivity is believed to be due to microstructure-induced variations in the short-range order during the film growth.     

（PrGdYb）3—xBi（FeAl）5O12石榴石外延膜及其磁光特性

文中详细讨论了新型磁光材料（PrGdYb)3-xBix(FeAl)5O12单晶薄膜的外延生长法及所得样品的测试数据，样品比法拉第旋转θF－1．6×^4deg/cm，并有较宽的光谱透过区。     

磁光记录原理与展望

本文简要阐述了一种新兴的存储器件——磁光盘的记录原理和磁光记录介质的性能与发展前景.     

Co—Si合金膜的结构和磁光克尔效应

用射频磁控溅射在衬底温度（Ｔｓ）为 ４００℃和室温（ＲＴ）两种情形制备了Ｃｏ１－ｘＳｉｘ（０．０≤Ｘ≤０．３４）合金膜．Ｘ射线衍射结果表明在这些合金膜中出现了不同程度的ｈｃｐ（００２）取向．在室温下沉积的薄膜中，仅在ｘ＝０．０时有明显的ｈｃｐ（００２）取向．在４００℃下沉积的薄膜中，随着硅含量ｘ的增加，ｈｃｐ（００２）取向先是增强，继而在Ｘ＝０．３４时消失．相应与此的４００℃下沉积的薄膜的θｋ（Ｈ）、（Ｍ（Ｈ））回线在ｘ＝０．２３时出现了磁滞现象（Ｈｃ≈６４ｋＡ／ｍ），并且有大约２０％的比剩余克尔旋转（比剩余磁化强度）．同时，当Ｘ≤０．２３，硅的加入使得钻硅合金的克尔旋转在蓝光及近紫外区相比于纯钻来说有所加强，其值约为－０．３°～－０．４°．     

BIG磁光隔离器的研制

用非稀土磁光石榴石晶体，金女铁硼永久磁铁和格兰一汤姆逊棱镜研制的磁光隔离器．实验结果在１．５２μｍ波段正向插入损耗＜０．６ｄＢ，反向隔离度＞３６ｄＢ．     

BetacamSP与U－Matic录像机之比较

通过对Ｕ－Ｍａｔｉｃ和ＢｅｔａｃａｍＳＰ录像机在记录方式、磁带等方面的比较，全面了解ＢｅｔａｃａｍＳＰ录像机的性能、特点。为选择专业录像机提供参考。