戊二醛对原子力显微镜观测大肠杆菌的影响

戊二醛作为生物材料的固定剂,在原子力显微镜(AFM)制样中已广泛使用.虽然已有用戊二醛观测大肠杆菌的文献报道,但到目前为止,关于戊二醛在AFM观测大肠杆菌中的作用还缺乏系统研究.首先分析AFM扫描图像的假像,进而探讨戊二醛的浓度和固定时间对AFM图像质量和大肠杆菌表面形貌的影响.结果表明,戊二醛的浓度和固定时间对AFM图像的清晰度、大肠杆菌的微观结构以及细胞的三维尺寸都有着重要影响.在相同固定条件下所扫描的AFM图像与扫描电子显微镜(SEM)图像对比发现,两者的形貌相似,而AFM图像比SEM图像分辨率更高,在定量分析上也更有优势.     

煤表面结构介观表象的原子力显微镜(AFM)观测

针对煤复杂的表面结构,运用原子力显微镜(AFM)观测介观尺度下煤表面特征的研究方法,对煤表面形貌进行了初步观测,获得煤样的二维和三维表面形貌图,并进行了煤表面的粒度、粗糙度及功率谱分析.分析结果表明:幅度参数是表征煤样表面粗糙度的特征参数之一;利用功率谱密度有助于分析煤表面的分形特征,将AFM用于煤的表面结构特征研究,为研究煤表面介观特征提供了新的研究方法.     

戊二醛对原子力显微镜观测大肠杆菌的影晌

戊二醛作为生物材料的固定剂,在原子力显微镜（AFM）制样中已广泛使用．虽然已有用戊二醛观测大肠杆菌的文献报道,但到目前为止,关于戊二醛在AFM观测大肠杆菌中的作用还缺乏系统研究．首先分析AFM扫描图像的假像,进而探讨戊二醛的浓度和固定时间对AFM图像质量和大肠杆菌表面形貌的影响．结果表明,戊二醛的浓度和固定时间对AFM图像的清晰度、大肠杆菌的微观结构以及细胞的三维尺寸都有着重要影响．在相同固定条件下所扫描的AFM图像与扫描电子显微镜（SEM）图像对比发现,两者的形貌相似,而AFM图像比SEM图像分辨率更高,在定量分析上也更有优势．     

人工滑液在材料表面成膜的AFM图像分析

用原子力显微技术(AFM)观测复合人工滑液在材料表面形成的吸附膜的表面形貌图像,吸附膜上清晰地显示有大量的椭球形分子.该吸附膜的形成可能是复合人工滑液对人工关节材料润滑性能显著提高的一个重要因素.     

多孔硅薄膜的微结构及其XRD研究

使用扫描电子显微镜、原子力显微镜和X射线衍射研究了多孔硅薄膜的微结构.SEM图像显示：多孔硅膜表面的微结构比较均匀;沿纵向方向薄膜内部空腔呈流线型分布;孔和孔之间的间距为10～20 nm.AFM形貌表明：其表面在1×1μm范围内的均方根粗糙度为4.75 nm.XRD结果说明：多孔硅薄膜晶体晶格常数随深度增加而变大,多孔硅薄膜孔壁上Si？H键的比例将减少.     

影响氮化硅陶瓷内圆磨削加工表面形貌因素分析

目的研究氮化硅陶瓷在内圆磨削时不同的磨削参数:砂轮线速度(vs)、径向进给速度(f)、轴向振荡速度(fa)对表面粗糙度的影响.方法采用树脂结合剂金刚石砂轮对氮化硅陶瓷试件进行内圆加工实验,进行了3因素的均匀实验.建立了氮化硅陶瓷内圆磨削的经验公式,利用Taylor-Hobson Surtroni25型接触式粗糙度仪对加工表面进行测量,得到不同磨削参数下的粗糙度;用日立S-4800冷场发射电子显微镜对加工表面进行观测,得到被磨试件的表面形貌图像.结果加工表面粗糙度随砂轮线速度的增大而减小,随径向进给速度的增大而增大,随轴向振荡速度的增大而减小.砂轮线速度对被加工表面粗糙度影响最大,随着砂轮速度的增大,粗糙度由0.340 1μm下降到0.295 0μm.结论明确了内圆磨削氮化硅陶瓷试件时不同磨削参数对表面粗糙度的影响,通过回归分析,探索出了不同线速度下氮化硅陶瓷材料去除机理对其表面形貌产生的影响.     

电解液中Na2SiO3加入量对Ti6Al4V微弧氧化膜厚度及表面形貌的影响

在不同Na2SiO3含量的电解液体系下对Ti6Al4V合金进行微弧氧化.采用SEM和AFM分析氧化膜表面形貌及粗糙度,研究电解液中Na2SiO3含量对氧化膜厚度及表面形貌的影响.结果表明:随着电解液中Na2SiO3质量浓度从12 g.L-1增加到28 g.L-1,临界正向起弧电压逐渐降低,微弧氧化膜的厚度由31μm增加至88μm;氧化膜表面均匀分布着尺寸不等的微孔,并且随着Na2SiO3质量浓度的增加,微孔的数目增多,粗糙度增加.XRD分析显示氧化膜的相组成为锐钛矿以及金红石.     

PAM对CaCO3显微结构的影响

利用原子力显微镜(AFM)研究添加聚丙烯酰胺(PAM)后碳酸钙晶粒表面形貌的变化。观察实验所得图像发现加入PAM后碳酸钙晶体发生了较大的形貌变化。空白样品碳酸钙表面致密平整,而加入PAM的样品碳酸钙表面凸起和凹陷明显增多。结果表明,PAM对碳酸钙显微结构的影响与阻垢剂所具有的部分作用机理相似。     

ITO表面处理对有机电致发光器件光电特性的影响

分别采用超声波清洗、O2 Plasma、UV-ozone方法对ITO的表面进行处理,用原子力显微镜(AFM)观测了处理后ITO的表面形貌,并用经上述方法处理的ITO制作了结构为ITO/NPB/Alq3/Al的电致发光器件,比较了这些方法对器件性能的影响.结果表明,这些方法可以改变ITO的表面化学成分及结构,大幅度地提高器件的亮度、寿命和稳定性,尤其是氧离子轰击最为有效.     

氧化时间对纯钛表面微弧氧化涂层微孔参数的影响

在含钙磷的硅酸盐电解液体系中,采用微弧氧化技术在纯钛表面制备多孔涂层,分析不同氧化时间(3,6,9,12,15 min)对涂层孔径大小、孔隙率等微孔参数的影响.通过扫描电镜(SEM)获取涂层表面形貌的原始图像,采用MATLAB图像处理技术实现涂层微孔参数的自动分析与定量表征.结果表明:处理后图像中的大小微孔可以被清晰识别;当氧化时间为3 min时,孔径小于1μm的微孔数量最多,大约占总数的4/5,涂层表面孔隙率为10.5%;随着时间的延长,微孔总数明显减少,孔径大于4μm的微孔持续增加,涂层孔隙率不断增大;当处理时间延长到15 min时,出现8μm及以上的大孔,表面孔隙率增长至15.0%左右.