α(β)-四取代苯氧基酞菁的合成、表征和光谱性质

以3-硝基邻苯二腈和4-硝基邻苯二腈为原料分别合成了α(β)-四苯氧基酞菁锌,通过红外光谱和紫外可见光谱表征了其结构,并讨论了取代基的位置对酞菁紫外可见光谱和荧光光谱的影响.     

聚四氨基酞菁钴的电化学性质

研究了聚四氨基酞菁钴修饰电极(p—CoTAPc／GC)的制备及电化学性质．用电聚合法在玻碳电极上制备P—CoTAPc／GC,并用循环伏安法研究其电化学性质．结果表明：在高扫速时,P—CoTAPc／GC的电极表面为扩散控制．P—CoTAPc／GC具有良好的电化学性质．     

MCM-41/酞菁钴、酞菁铜的合成、表征及催化性质

用烷基化试剂将介孔分子筛MCM-41的表面烷基化,使MCM-41的表面连接含有伯氨的有机链,再与氯磺酸基酞菁钴、氯磺酸基酞菁铜反应,合成纳米复合材料CoPc(CuPc)-NH-MCM-41,并且用红外光谱、紫外光谱、XRD进行表征.结果表明:酞菁钴、酞菁铜以单体形式负载在介孔分子筛MCM-41的孔壁上;酞菁铜对苯酚羟化反应的催化活性较好;在丙酮溶剂中苯酚的转化率大于在乙腈中的转化率.     

萘酞菁镍化合物的合成、 非线性及光限幅特性

以1,8-二氮杂双环［5.4.0］十一碳烯-7（DBU）为催化剂采用液相法合成了四叔丁基-2,3-萘酞菁镍(TBNPcNi). 应用调Q倍频(ns/ps)Nd ∶[KG-*3]YAG脉冲激光系统, 在532 nm波长下, 研究了化合物的非线性和光限幅特性. 在高斯单位制(esu)下测得化合物的非线性折射率n₂和三阶非线性极化率χ⁽³⁾分别为2.07×10^-11和7.57×10^-12, 分子极化率γ′为2.96×10^-29, 显著高于金属酞菁分子. 化合物具有优异的非线性光限幅特性, 当线性透过率为72%时, 限幅阈值为1 722 mJ/cm², 箝位值为700 mJ/cm², 有效激发态与基态吸收截面比为4.48.     

四-β-(2-甲基-8-喹啉氧基)酞菁锌(Ⅱ)的合成、表征及其Uv/Vis光谱研究

利用4-硝基邻苯二甲腈和2-甲基-8-羟基喹啉在碱环境下,DMF溶液中反应得到4-(2-甲基8-喹啉氧基)邻苯二甲腈,对其进行了元素分析、IR光谱、1HNMR谱、质谱表征.进一步利用DBU催化法合成得到四-β-(2-甲基-8-喹啉氧基)酞菁锌(Ⅱ),并对其进行了元素分析、Uv/Vis、IR、质谱表征.同时对该化合物的Uv/Vis光谱进行研究,探讨其在不同溶剂中的聚集行为.     

1-(4-苯氧基苯氧基)-2-丙醇的合成及分析

以4-苯氧基苯酚，环氧丙烷为原料合成1-（4-苯氧基苯氧基）-2-丙醇，考察了物料比、反应时间、反应温度等因素对其收率的影响，得到最佳工艺条件。规（4一苯氧基苯酚）：规（环氧丙烷）：规（氢氧化钾）=1：3．0：0．3，反应温度40℃，反应时间3．5h，1-（4-苯氧基苯氧基）-2-丙醇收率最高达93．7％。以液相色谱法，采用LiChrospher100 RP～18柱、甲醇＋水为流动相、紫外检测器、外标法对1-（4-苯氧基苯氧基）-2-丙醇进行了高效液相色谱分析研究。方法标准偏差0．20％，变异系数0．23％，回收率在99．57％～100．52％之间。     

四-(2,4-二甲基-3-戊氧基)酞菁钴(Ⅱ)的合成、表征和性质研究

以2-溴代丙烷、异丁醛、3-硝基邻苯二甲腈、无水二氯化钴为主要初始原料合成了四-(2,4-二甲基-3-戊氧基)酞菁钴(CoPc),并采用元素分析、红外光谱及质谱对目标产物进行表征,同时研究了它的电子吸收光谱和热稳定性.     

α-四(4-羧基苯氧基)酞菁锌的合成与抗肿瘤活性研究

通过2步合成了水溶性的α-四（4-羧基苯氧基）酞菁锌（Ⅱ）,采用UV-Vis、IR、元素分析、激光解吸电离飞行时间质谱（TOF-MS）对配合物进行了表征.在光诱导条件下,采用四甲基偶氮唑蓝比色法（MTT法）,研究了此酞菁锌配合物对Bel-7402细胞抑制作用,考察了不同浓度的配合物对抑瘤效果的影响,当浓度为100 mg.L-1时对肿瘤的抑制率可达71%左右,并确定其细胞生长抑制50%时的药物浓度（即IC50值）为21 mg.L-1.结果发现：此酞菁锌是1种很有潜力的抗癌光敏剂,在光诱导条件下,适宜的浓度具有较高的抑制率,并探讨了其抑瘤机制.     

2,9,16,23-四硝基酞菁钴(Ⅱ)的合成及光谱性质

以4-硝基邻苯二甲酰亚胺、氯化钴(Ⅱ)、尿素及钼酸铵为原料,采用熔融法于180℃合成了2,9,16,23-四硝基酞菁钴(Ⅱ),通过元素分析和IR光谱进行了表征.研究了该配合物在DMSO、DMF和Py中的电子吸收光谱及荧光光谱,讨论了溶液浓度对电子光谱的影响.     

4-(4-苯氧基苯氧基)丁酸甲酯的合成

以γ-丁内酯为原料,经酯化和氯化得到中间体γ-氯丁酸甲酯。在无水碳酸钾存在下,N,N-二甲基甲酰胺(DMF)为溶剂,由γ-氯丁酸甲酯和4-苯氧基苯酚反应,合成了4-(4-苯氧基苯氧基)丁酸甲酯。着重研究了反应温度、反应时间、投料摩尔比对4-(4-苯氧基苯氧基)丁酸甲酯收率的影响。从而确定了合成工艺条件为。在此条件下,4-(4-苯氧基苯氧基)丁酸甲酯的收率达82%以上。通过IR1、H NMR及元素分析等对产物进行了表征。     

微波等离子体合成酞菁铜聚合物

本文利用低功率微波发生器和Surfatron放电腔,以单体酞菁铜(CuPc)为原料,通过表面波激发氩微波等离子体合成了酞菁铜聚合物(PPCuPc).     

亚酞菁铜的合成与表征

新合成了亚酞菁铜.把1,3-二亚胺基异吲哚啉、钼酸铵和二水乙酸合铜在喹啉里加热,加入催化剂量的1,8-二氮杂-双环(5,4,O)十一碳烯-7(DBU)进行反应.反应完毕后,通过索氏提取,然后用柱色层分离,得到灰褐色产物.通过质谱分析和元素分析数据证实,灰褐色产物就是目标化合物亚酞菁铜.根据亚酞菁铜分子裂解质谱图,还初步分析了亚酞菁铜分子的裂解过程,首次给出亚酞菁铜合成的反应机理.     

新型三核酞菁的合成及光学性质研究

合成结构新颖的三核酞菁锌,经过元素分析和质谱的表征证明其结构,从而证实产物就是目标化合物.把该材料和PVK旋涂成膜在石英片上,经过光致发光测试,发现在880 nm附近有个比较强的三核酞菁锌的发射峰;然后用旋涂和真空镀膜的方法制作了器件,器件结构为:铟锡金属氧化物(ITO)/聚乙烯咔唑(PVK):酞菁(Pc)/2,9-二甲基-4,7-联苯-1,10-邻二氮杂菲(BCP)/8-羟基喹啉铝(Alq3)/Al.在电致发光光谱中,三核酞菁锌的发射峰出现在900 nm附近,和光致发光一致.     

5-甲基四氮唑铜(I)配合物的合成、晶体结构及性质

以乙腈和叠氮化钠反应生成的5-甲基四氮唑(Mtta)为配体,以乙酸铜作为金属离子源,通过溶剂热法合成了一个金属铜配合物[Cu(Mtta)]n(1),并通过元素分析、红外和X-射线单晶衍射对其结构进行表征。配合物1为单斜晶系,P2/c空间群,晶胞参数a=0. 941 02(4) nm、b=1. 606 23(6) nm、c=1. 119 62(5) nm、β=124. 08(8)°、V=1. 401 69(10) nm3,晶胞个数是4个,密度为2. 084 g·cm-3,吸收系数为4. 523 mm-1,残差因子为0. 020 1,可观测衍射点的拟合优度为1. 03。配合物1中的每个Cu原子分别与四个不同的5-甲基四氮唑配体上的一个N原子进行配位,形成一个四面体构型Cu N4。对配合物1的荧光光谱结果进行分析,配合物1的DMF溶液(浓度为5×10-7mol/L)在发射波长为579 nm处,具有较强的荧光性。     

微胶囊型酞菁铜颜料喷墨墨水的制备与性能研究

将酞菁铜颜料微胶囊应用到喷墨墨水中很好地解决了颜料在喷墨墨水中的分散稳定性。以具有良好环境效应的水为溶剂,调整控制酞菁铜颜料微胶囊的粒径、体系的粘度和表面张力,制备了微胶囊型酞菁铜颜料喷墨墨水,并用EPSON ME 200喷墨打印机进行性能测试。结果表明:微胶囊型酞菁铜颜料喷墨墨水中颜料粒径小于100nm,体系的粘度为1.2cP,表面张力为27.6mN/m,满足喷墨墨水的要求;微胶囊型酞菁铜颜料喷墨墨水的着色力、稳定性、耐热性和耐溶剂性接近进口墨水EPSON R210的标准,但耐光性较差。     

磷酸铜表面修饰富锂层状正极材料的制备及电化学性质

用溶胶 凝胶法制备富锂锰基层状正极材料Li_1.18Ni_0.15Co_0.15Mn_0.52O₂, 并对其进行Cu₃(PO₄)₂表面修饰. 用X射线衍射, 扫描电子显微镜和红外光谱测试样品的表面形貌, 并对样品进行恒电流充放电测试及电化学阻抗谱测试. 结果表明: Cu₃(PO₄)₂均匀包覆在材料表面, 以非晶态存在, 修饰后Li+在过渡金属层中的有序排列被破坏; 表面修饰后富锂材料的首圈库仑效率由77%提高至94%; 表面修饰前后材料的初始放电比容量均为244 mA·h/g, 100圈循环后经Cu₃(PO₄)₂表面修饰的富锂材料的放电比容量为203 mA·h/g, 容量保持率为83%; 表面修饰后的材料在3.0,2.7 V出现了一对氧化还原峰, 相对应在充放电曲线出现新平台; Cu₃(PO₄)₂修饰后富锂层状正极材料的阻抗明显减小.     

ZnO纳米片薄膜的合成、表征及其光学性质

采用水热法在修饰有ZnO种子层的石英玻璃衬底上制备出ZnO纳米片薄膜。利用场发射扫描电子显微镜、X射线衍射仪、透射电镜和荧光光谱仪对样品的形貌、结构和光致发光性质进行表征和分析,探讨了其形成机理。结果表明,制备的ZnO纳米片为六方纤锌矿型单晶结构,具有沿<101ˉ0>方向的择优取向,其室温下的光致发光谱由尖锐的紫外发光峰(380 nm处)和较宽的可见发光带组成,其中可见光发射可以拟合为中心分别位于550、620和760 nm处的3个发光峰。     

四(对-辛酰氧基)苯基卟啉锰的现场光谱电化学研究

以现场紫外 -可见及现场红外光谱电化学方法研究四 (对 -辛酰氧基 )苯基卟啉锰在二甲亚砜中的电还原过程 .结果表明 ,该金属卟啉配合物在非质子介质中经历了二步单电子还原反应 ,氧化态敏感带出现在 1 52 2 cm- 1,1 464cm- 1,1 2 0 4 cm- 1,1 0 0 5cm- 1和 80 7cm- 1附近 ,随中心金属氧化态降低 ,吸收带均向低波数方向移动     

片状ZnO纳米材料的制备及光学性能

ZnO是一种重要的金属氧化物无机半导体材料,其禁带宽度为3.37eV.以硫酸锌和硫氰酸钠为原料,以NaOH为沉淀剂,在超声波作用下采用液相直接沉淀法制备出了片状ZnO纳米粉体,反应在常温下进行.通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、拉曼光谱(Raman)、光致发光(PL)、光催化测试对产物的形貌、微结构和光学性能进行了表征.研究表明,制得的ZnO纳米片粉体材料具有缺陷态光致发光特性,并且有非常好的光催化活性.该制备方法简单、易于实现规模化生产.