羰基钼化学气相沉积对模具表面改性的研究

以Mo(CO) 6 为物源在刀具钢回火温度以下实施了气相沉积超硬膜涂覆 ,经实验测试、分析 ,结果表明薄膜中含碳量是影响薄膜表观硬度的重要因素 ,并且该薄膜能改善刀具 (钻头 )的表面力学性能 ,增加其使用寿命     

无氢化学气相沉积碳化钛

本文介绍了一种新的化学气相沉积碳化钛方法。用此法对几种常用的工具材料进行了沉积处理,并用金相观察、X射线结构分析、X射线光谱显微分析等手段测定了碳化钛沉积层的组织、结构和性能。应用此法于模具和某些易磨损机件上可较大地提高机件的使用寿命,且方法本身安全、经济,在一般的热处理设备条件下即能进行。     

射频等离子体化学气相沉积择优取向膜的研究

用射频等离子体沉积择优取向的ＴｉＮ膜，用Ｘ－衍射的方法分析影响取向的原因。     

钢表面化学气相沉积碳化钛

采用化学气相沉积（CVD）法，以TiCl4-CH4-H2为原料气体，在不锈钢表面获得了致密的碳化钛(TiC)膜，研究了TiC的成膜速度、表面形貌和日本择优取向与沉积条件的关系。结果表明，沉积温度Taep、碳钛比CH4／TiCl4强烈的影响TiC的成膜速度、表面形貌和晶体择优取向。CH4／TiCl4低时，TiC晶体的择优取向为（220）；CH4／TiCl4高时，TiC晶体的择优取向为（200）。气氛中活性碳的平衡浓度是决定碳化钛的表达形貌、晶体择优取向的主要因素。     

Fe-Ni-P合金电沉积机理

采用阴极极化技术和循环伏安技术,研究Fe-Ni-P合金的电化学特性.实验结果表明,Fe-Ni-P合金较Fe-Ni合金有较负的沉积电位,随着镀液pH值的增加,Fe-Ni-P合金的阴极沉积反应速度变小.采用恒电位阶跃技术研究Fe-Ni-P合金的电结晶行为,结果表明,在玻碳电极上,该合金的电结晶过程遵循瞬时成核三维生长模式,且随着过电位的增加,电极表面晶核数增多.     

化学气相沉积金刚石膜的光学性质

多晶金刚石膜的光学性质与工艺参数密切相关．采用一较为完备的金刚石透过率模型，研究了一系列金刚石膜在中远红外区的光学性质．并得出了不同衬底预处理方法和反应室中甲烷分压对CVD膜的平均透过率、表面粗糙度、非金刚石相含量、各种成分的吸收系数等光学性质的影响，计算结果与实测结果一致．     

等离子化学气相沉积硬膜技术研究

用等离子体化学气相沉积（ＰＣＶＤ）技术制备了ＴｉＮ、ＴｉＣ、Ｔｉ（ＣＮ）和（ＴｉＳｉ）Ｎ膜及其组合的多层膜。ＰＣＶＤ具有很好的覆盖性，ＰＣＶＤ－ＴｉＮ具有很好的耐磨、蚀性，膜与基体结合良好，因而用ＰＣＶＤ法在高速钢刀具、模具及轴承上沉积ＴｉＮ可大大提高其使用寿命。ＰＣＶＤ－ＴｉＮ和Ｔｉ（ＣＮ）膜无明显柱状晶，其显微硬度高于ＴｉＮ亦可用于高速钢刀具、模具上提高其使用寿命。ＰＣＶＤ－（ＴｉＳｉ）Ｎ，晶     

Ni-P-PTFE复合化学沉积机理研究

提出了复合化学沉积包括弱吸附和强吸附两个过程,研究了Ni-P-PTFE复合化学沉积过程的机理,通过实验数据验证结果表明,所提出机理与实验数据吻合。     

CVD法制备SiO2薄膜工艺条件的研究

在Al2 O3 陶瓷基片上以正硅酸乙酯 (TEOS)为原料 ,高纯氮气作载气 ,采用低压冷壁式设备和化学气相沉积(CVD)方法制备SiO2 薄膜 ,研究了基片温度、TEOS温度和沉积时间对SiO2 薄膜沉积速率的影响 .采用XRD ,XPS和SEM技术对SiO2 薄膜的组成和结构进行了分析     

电刷镀纳米镍薄膜表面形貌和沉积生长机理分析

采用电刷镀技术在铜基体表面上制备光亮的纳米镍薄膜。通过FESEM,AFM,SEM观察,分析纳米镍薄膜的二维和三维表面形貌。利用XRD估算纳米镍薄膜的晶粒平均尺寸,探讨纳米镍薄膜沉积生长机理。     

CVD金刚石涂层附着性能研究

采用微波等离子体CVD（MPCVD）法在YG6硬质合金基体表面沉积金刚石涂层，在金刚石的形核和生长阶段分别采用不同的沉积条件，研究了分步沉积工艺对金刚石涂层形核，质量及其附着性能的影响，结果表明：采用分步优化的沉积工艺，可明显改善金刚石涂层与刀具基体之间的附着性能，这主要是由于基体表面形核密度的提高，增大了涂层与基体之间的实际接触面积。     

Structural and electrical properties of ZnO films on freestanding thick diamond films

In this paper, ZnO films are deposited on freestanding thick diamond films （FTDF） by plasma-assisted metal organic chemical vapour deposition （MOCVD）. Diethyl zinc （DEZn）, O2 and N2O are applied as precursors and different substrate temperatures are used to achieve high quality ZnO films. The influence of substrate temperature on the properties of ZnO films is systematically investigated by X-ray diffraction （XRD）, Hall measurements and electron probe microanalysis （EPMA）. Experimental results demonstrate that ZnO films deposited at 600℃ and 73 Pa display a fine electrical quality and Zn/O atomic ratio plays an important role in the electrical property of ZnO films.     

化学气相沉积钽限制性环节初探

本实验用氯气将钽块氯化，然后用氢还原，在镍基合金上沉积出致密的钽涂层。根据反应速度和温度的关系，求出反应的活化能，确认表面反应是过程的限制性环节。     

图谱法在反倾销预警机制中的应用

反倾销预警机制是通过监测进口产品的价格、销量、份额等因素，对国内企业或产业的同类产品带来的影响进行跟踪，并适时发出预警，以便能为反倾销工作提前做好各种准备。图谱法主要是利用逻辑图形(即进口产品价格变化图、国内同类产品价格变化图以及市场份额变化图)的方法进行预警，它是以数据分布和逻辑判断为基础的动态直观的预警方法。     

硅油基底Ni薄膜的生长机理及微观结构研究

基于液相材料可用作薄膜生长基底的事实,采用真空热蒸发沉积方法,在硅油基底表面制备了具有近似自由支撑边界条件的镍(Ni)薄膜系统。在原子力显微镜(AFM)的观察下发现,镍分枝状凝聚体事实上是由尺寸为几十纳米且呈现高斯分布的原子颗粒组成,在一定的沉积速率下,其原子颗粒的平均直径随着薄膜名义厚度的增加而迅速减小;同时,还观察到了Ni薄膜的反常边缘效应,并对此现象做了一定的物理分析。     

羰基金属气相沉积工艺条件及膜结构研究

在Al2O3陶瓷基片上以Mo（CO）6为源采用低压冷壁式设备和金属有机气相沉积（MOCVD）方法制备Mo2C薄膜,探讨了该薄膜结构受温度、压力和沉积速率等工艺因素影响的关系．