均匀性的一个新度量准则——对称偏差

度量均匀性的偏差在小样本时具有方向性。本文给出了一个度量设计均匀性的新准则－对称偏差，它克服了偏差的上述缺点。利用该准则，给出了一些均匀设计表。     

均匀设计抽样的小样本均匀性

文献［８］从理论上给出了均匀设计抽样样本点集的偏差的阶，并随机模拟了大样本的情况。本文通过随机模拟说明，当样本容量较小时，均匀设计抽样的偏差优于其它几种设计和抽样方法。最后，从最大对称差的角度对几种设计和抽样方法进行了比较。     

基于势函数的均匀性度量与均匀性布点方法

根据物理学中电荷的势函数,提出均匀性度量的势函数模型,该模型可以对任一试验设计的布点的均匀性进行度量,并且可以对布点进行调整,直观上看,调整可以使布点在试验空间内更加均匀分散.     

互补设计在Lee偏差下的均匀性

针对两类特殊的二、三混水平部分因子设计d=(D:-D),在适当的划分下分别给出了互补设计的Lee偏差与子设计D(-D)的广义字长型和均匀性模式的解析关系,同时给出了Lee偏差的下界,最后通过两个例子来验证其结论.     

互补设计在Lee偏差下的均匀性

针对两类特殊的二、三混水平部分因子设计d=(D:-D),在适当的划分下分别给出了互补设计的Lee偏差与子设计D(-D)的广义字长型和均匀性模式的解析关系,同时给出了Lee偏差的下界,最后通过两个例子来验证其结论.     

互补设计在广义离散偏差下的均匀性

针对一类特殊的二、三混水平部分因子设计d＝(D…),在适当的划分下分别给出了互补设计的广义离散偏差与子设计D) 的广义字长型及均匀性模式的解析关系,同时给出了互补设计的广义离散偏差的下界,最后通过例子来验证其结论.     

混水平饱和正交设计在广义离散偏差下的均匀性

针对二、三混水平饱和正交设计d,在适当的划分下d=(D:),给出设计d的广义离散偏差与子设计D()的广义字长型及均匀性模式的解析关系.同时,给出这类因子设计的广义离散偏差的下界.最后,通过例子来验证其结论.     

Double设计在对称化L_2-偏差下的均匀性

二水平部分因子设计在工农业生产、科学实验等领域得到广泛应用,因此有关二水平部分因子设计的研究一直是热点问题.最近,一种称为doubling的方法被用来构造二水平部分因子设计,特别是在构造分辨度为Ⅳ的设计时,这种方法是非常简单但很实用的方法,本文从均匀性的角度来研究double设计,进一步讨论doubling方法的实用性,利用对称化L_2-偏差作为均匀性的测度,发现double设计D(X)的均匀性与初始设计X的均匀性有着密切的联系,给出了double设计在对称化L_2-偏差下的下界.     

二四混水平因子设计在Lee偏差下的均匀性

讨论了二四混水平因子设计在Lee偏差下的均匀性,并给出了Lee偏差的一个下界,该下界可以作为搜索Lee偏差下二四混水平均匀设计的一个基准.     

用楔角偏差改善正交光楔列阵大尺度的辐照均匀性

用楔角偏差的方法能有效的改善正交光楔列阵系统（SWA）的大尺度辐照均匀性，基标量衍量积分方法和旁轴矩阵光学方法，进行了详细的分析，给出焦斑光强分布特性的理论计算和实验结果，并给出了最优设计参数。     

对称化L2-偏差下组合设计的均匀性

基于对称化L2-偏差讨论了组合设计的均匀性,在两种特殊的情形下分别得到了两水平部分因子设计的组合设计的离散偏差的下界,数值例子说明这些下界是紧的,因此这些下界可以作为寻找最优折叠反转方案的基准。     

均匀设计的等价原则及其构作

从数据分析的角度,在换行、换列、换数码符号不改变均匀性的均匀等价原则条件下,定义了一种强度2的均匀设计(类似于正交设计)及一种超饱和的均匀设计———均匀差集矩阵(类似于差集矩阵),给出了一种用均匀差集矩阵及已知的强度2的正交设计构作新的强度2的均匀设计的方法.作为这个方法的应用,某些试验次数的强度2的混合水平均匀设计被构作出.     

正交性和最大最小距离准则的联系

最大最小距离设计和正交设计在计算机试验和实体试验中备受关注.研究了一类正交U-型设计在最大最小距离准则下的表现.结果表明,此类设计如果在正交性准则下是最优的,那么在最大最小距离准则下也是最优的,从而表明正交设计和最大最小距离设计有着密切联系.     

正交设计与均匀设计的初步比较

系统研究了试验设计与优化及其在化学中的应用。对广用的正交设计与新颖的均匀设计进行了初步比较,通过有关优化效率及试验次数的比较,指出两者各自的优缺点。作为一项方法或技术,试验设计与优化及其推广应用是项重要工作,宜取长补短,相互促进。     

三水平最小低阶投影均匀设计的设计效率

为了研究三水平设计投影均匀性与设计效率的关系,在中心化L₂-偏差度量下,建立了强度为2的三水平正交设计的均匀性模式与设计效率的解析联系,对于强度为3的三水平正交表,最小低阶投影均匀性准则与设计效率准则等价.对于三水平设计,获得了均匀性模式紧的下界,该下界可以衡量设计是否为最小低阶投影均匀设计.     

两水平扩大设计基于中心化L2-偏差的均匀性

基于中心化L₂-偏差讨论了两水平扩大设计的均匀性,获得了两水平扩大设计中心化L2-偏差的一个新的下界,该下界可作为寻找最优折叠反转方案的一个基准.     

二三混水平设计可卷型L2-偏差的新下界

研究了二三混水平设计在可卷型L₂-偏差下的均匀性,获得了可卷型L₂-偏差的一个新的下界.     

基于帧间运动的神经网络非均匀性校正及其硬件实现

为解决红外焦平面阵列的非均匀性噪声制约红外成像质量问题,提出基于场景的神经网络非均匀性校正算法,利用帧间运动的图像序列实现非均匀性校正.先采用基于投影的运动估计算法选取神经网络算法的学习参考帧,再进行偏置矩阵计算的基于帧间运动判断的神经网络非均匀性校正算法,有效克服了传统SBNNT由于运动不足产生的鬼影问题.算法已在以TMS320DM643为处理核心DSP硬件处理平台上实现,取得了较好的校正效果.     

对模拟退火算法解不均匀性的改善

模拟退火算法(SA)是一种对复杂的组合问题很有效的最优化算法,例如LSI设计中的布局设计,但模拟退火算法需要很长的执行时间,所以许多的研究者都在研究更快的模拟退火技术.在观察到模拟退火算法得到的结果可能会产生不均匀性,并且在几个简单集成模块布局问题的实验中发现这种不均匀性超过了30%,由此提出了一个改善SA算法结果的方法,称之为TOSA算法.通过对标准布局问题的实验,证明了SA算法结果的不均匀性和TOSA算法的有效性.在应用TOSA算法对8个全局标准布局问题IBM01～IBM02和IBM07～IBM12进行的布局实验中,相较于原始的模拟退火算法,在解的质量上获得了平均4%～7%的改善.