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1.
对化学镀镍层在几种化学介质中腐蚀行为的研究
常利民
余大书等
《松辽学刊》
1994,(4):18-22
用三种化学镀镍工艺在低碳钢上制取含磷分别为1-4%,5-8%,9-12%的镍-磷合金镀层,用该镀层在化学介质亚硫酰氯,磷酸,磷酰氯,三氯化苯,苯甲酰氯和氢氧化钠中模拟工业条件试验,结果发现用化学镀镍为防护层的试片大多数能有效地阻止在上述化学介质中的腐蚀。
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2.
电子束在胶层及衬底中散射轨迹的MonteCarlo模拟并从背散射系数看LB抗蚀层优越性
鲁武
顾宁
陆祖宏
韦钰
《应用科学学报》
1995,(1)
用MonteCarlo方法研究了电子束曝光中电子与胶层及衬底中原子相互作用情况,提出了一个高能电子在多层介质间散射的“折射”模型,模拟了不同条件下在硅衬底或覆铬硅片上用Langmuir-Blodgett(LB)技术和旋涂法制备的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)抗蚀层及衬底中电子的散射轨迹,并计算了背散射系数。结果证明:在相同的电子束能下,电子在LB抗蚀层中存在较小的背散射系数,并且采用较低或较高的能量曝光,均可达到减小背散射的目的。
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