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采用磁控溅射方法制备Mo/Si多层膜。通过小角X射线散射图证明该多层膜是原子水平的,界面清晰,与设计周期基本相同。通过X射线衍射方法检测了该多层膜的组成和结构,同时对Mo/Si多层膜的位错密度等参数进行定量研究。结果表明,该超晶格的位错密度随周期厚度的减小而增大,晶粒尺寸随周期厚度的减小而减小。 相似文献
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射线衍射法测Zn电镀层中的残余应力 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了用X射线衍射法测定残余应力的基本原理与实验步骤,并用X-射线法测量了电镀在低碳钢上Zn镀层中的残余应力,实验结果表明镀层中的残余应力为拉应力.同时对残余应力的来源进行了讨论与分析,对X射线法测量Zn镀层中的残余应力所出现的问题进行了说明. 相似文献
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用X射线双晶衍射术研究了玻璃薄层-铂膜-α-Al_2O_3多层结构。发现不同材料的玻璃层,使多层结构因热失配对铂膜产生不同的应力。对铂薄膜电阻器件的测量结果表明:应力引起器件的电阻值变化;不同的应力状态,产生不同方向的附加电阻。选择适当材料的玻璃层,使热失配在铂膜内产生相反的应力,从而造成相反的附加电阻。以这种应力补偿方法提高了薄膜铂电阻的可靠性。 相似文献
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超晶格材料是用现代薄膜生长技术制成的一种新型材料。自从1970年美国首次在GaAs半导体上制成了超晶格结构后[1],又研制出GaAs和各种Ⅲ-Ⅴ族化合物超晶格材料,而后Ⅳ-Ⅳ族、Ⅱ-Ⅵ族,以及非晶态半导体超晶格等也相继出现,有一些已经获得实用,制成了重要的微电子和光电子器件。 相似文献
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