La2/3Sr1/3MnO3的室温磁电阻效应

采用溶胶-凝胶法制备了La2／3Sr1／3MnO3多晶样品．X射线衍射测试结果表明样品具有钙钛矿结构．利用振动样品磁强计测量了粉体样品在室温下的磁性能,样品表现为铁磁性．对不同烧结温度下形成的块体样品的导电性以及磁电阻的研究表明,随着烧结温度的提高材料的金属-绝缘体转变温度有所增加,说明材料的烧结温度对其电导性有很大的影响．     

D8 advance X射线衍射仪测试ITO薄膜厚度

X射线衍射仪是材料研究中物相表征的常规手段,利用X射线衍射测试纳米级平整薄膜厚度具有无损、高精度、测试范围大的优点。以ITO薄膜材料为例,利用布鲁克D8 advance衍射仪通过X射线反射法测量薄膜材料的厚度以及粗糙度等结构参数,对测试样品的要求、测量方法的原理、布鲁克D8 advance衍射仪的具体调试和测试步骤以及数据处理方法等进行了详细的说明。这一方法为高校利用常见的X射线衍射仪测试薄膜材料结构参数提供了具体的实验指导。     

印刷法制备多晶硅薄膜

本文以TiO2溶胶与硅粉混合采用印刷法制备了多晶硅薄膜,利用X射线衍射、I-V测试系统、扫描电镜以及分光光度计表征了样品结构与特性．研究了薄膜退火条件及TiO2晶相对多晶硅薄膜性能的影响．结果表明：在550℃退火1h,TiO2为锐钛矿相的条件下,所制多晶硅薄膜的电导性最好,其电导率与其他条件下的样品相比提高了约1个数量级．     

基于MOCVD法制备的NiO薄膜结构与光学特性

用金属有机化学气相沉积法在Si衬底上制备了NiO薄膜。分别采用X光电子能谱、电子显微镜、X射线衍射以及紫外-可见分光光度计对样品的结构和光学特性进行测试。X光电子能谱测试结果表明:薄膜中Ni元素以二价态存在,Ni与O比值接近1∶1,表明制备的样品为NiO薄膜;电子显微镜和X射线衍射分析显示NiO薄膜呈现多晶态;紫外-可见分光光度计测试结果显示:NiO薄膜具有高透过率,400 nm附近最高透过率为96%,通过线性外推法作图得到NiO薄膜的禁带宽度在3.7 eV左右。     

NSRL衍射和散射站的性能及在材料科学中的典型应用

介绍了国家同步辐射实验室二期工程X射线衍射和散射光束线实验站的建设与主要设备．利用设备采用X射线反射法，在不破坏样品的情况下得到了Si／C多层膜的结构信息；通过对标准Si粉末样品的FWHM测试表明该站可进行粉末全谱扫描；利用X射线掠入射衍射技术分析了ZnO薄膜的生长条件与结构的关系；采用X射线散斑方法直接观测了弛豫铁电体内部的纳米空间尺度的电极化团簇的空间时间构造．     

金刚石压砧径向X射线衍射技术的评述

与金刚石压砧传统轴向X射线衍射技术相比,采用金刚石压砧径向X射线衍射技术更方便,且实验压力更高（大于100Gea）,获取的信息更多．以c-BC2N样品的高压原位同步辐射径向X射线衍射实验为例,说明了金刚石压砧径向X射线衍射技术的优越性．     

一种新的湿法钝化多孔硅的方法

采用硫代乙酰胺的HF酸水溶液作为氧化剂对初始多孔硅进行钝化处理，改善了多孔硅表面结构并提高了发光强度、同时研究了钝化电流．钝化温度和钝化时间等一系列因素对钝化多孔硅光致发光强度的影响、实验发现．在60℃恒温下．对样品通电流1mA／cm^2．进行10min的钝化处理可以获得最强的光致发光．发光强度比初始样品发光强度增强了一个数量级．另外．通过傅立叶红外吸收谱(FTIR)以及X射线光电子能谱(XPS)测试分析．探讨了钝化处理使得多孔硅发光强度提高的原因．     

凝胶- 燃烧法合成锂离子正极材料LiAl 0. 1Mn1. 9 O4

用凝胶-燃烧法合成锂离子正极材料LiAl0.1Mn1．9O4,采用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、循环伏安法（CV）和充放电测试对样品进行了表征．结果表明,凝胶-燃烧法在800℃烧结12h合成掺铝后的LiAl0.1Mn1．9O4样品形貌比没有掺铝的更规整,电化学的循环性能更好．     

磁场下烧结对Bi_(0.9)La_(0.1)FeO_3结构和电极化性能的影响

采用固相反应法在高温和磁场下退火制备了Bi0.9La0.1FeO3块体样品,利用X射线衍射仪和扫描电子显微镜对其结构和形貌进行了分析,利用铁电材料分析系统对样品的电极化性能进行了测试,在常温下测试结果表明磁场下制备的Bi0.9La0.1FeO3样品电极化性能得到了提高.     

Mn掺杂纳米晶ZnO的制备及其性质

 采用固相热分解自组装方法制备Mn掺杂纳米晶ZnO样品, 并利用X射线衍射(XRD)、 能量散射光谱(EDS)、 X射线光电子能谱(XPS)和光致发光光谱(PL)等方法测试Mn掺杂ZnO样品的结构、 形态及光学性质. 结果表明: 采用本文方法获得了具有ZnMn低O/ZnMn高O核壳结构的ZnMnO合金; 在250 ℃和300 ℃制备样品时, 表面存在大量的Mn对表面起钝化作用.