电子束纳米分辨率分刻

本文侧重分析电子束纳光刻中的若干限制因素，包括电子光学系统中的象差、电子束与抗蚀剂的相互作用（散射与二次电子效应）、衬底条件等，并对已用于进行纳米分辨率电子束刻中的一些方法进行了归纳，讨论了其应用前景。     

单晶样品材料的生长与纳米量级光刻工艺探索

基于电子束直写技术在纳米尺度刻蚀的标准过程,探索适用于单晶样品的刻蚀工艺,在微米尺度上建立一套方案,给出各步骤条件参量,以期进一步应用到单晶样品的纳米尺度光刻。     

大有前途的电子束光刻技术

本文介绍了电子束光刻技术的基本原理及发展情况,对电子束光刻技术在现代高技术产业中的重要作用进行了论述,并对比其他微细加工技术,提出要大力发展我国的电子束光刻技术与设备。     

浅析光刻设备与技术的发展

阐述了光刻设备技术的的发展,描述了浸没式光刻技术、纳米压印光刻工艺设备基本原理、技术优势,并展望几种光刻技术的前景。     

原子光刻技术

针对原子光刻技术在纳米计量及传递作用中的特殊地位,介绍了该技术的基本原理、方案、刻及Cr原子光刻实验.通过与其他微刻印方法的比较,展望了其应用于微电子学等领域的前景。     

美开发出热蘸笔纳朱光刻技术

据美国物理学家组织网2011年11月7日报道，美国科学家首次厘清了温度在蘸笔纳米光刻技术中的作用，据此研制出的热蘸笔纳米光刻技术能在物质表面构造大小为20纳米的结构。     

电子束光刻“自主可控”EDA软件HNU-EBL

为模拟和优化电子束光刻（Electron Beam Lithography,EBL）工艺过程,提高电子束光刻版图加工质量,依托湖南大学（Hunan University,HNU）开发了一套电子束光刻的“自主可控”国产电子设计自动化（Electronic Design Automation,EDA）软件HNU-EBL.该软件实现了以下主要功能：1）基于Monte Carlo方法计算电子束在光刻胶和衬底中的散射过程与运动轨迹;2）基于多高斯加指数函数模型计算拟合出电子束散射的点扩散函数;3）基于GDSII光刻版图文件矩阵化,进行邻近效应、雾效应等校正计算,优化电子束曝光剂量;4）基于卷积计算,计算出给定曝光剂量下的能量沉积密度,并计算出边缘放置误差等光刻加工质量关键指标.基于该软件,通过异或门（Exclusive OR,XOR）集成电路的光刻版图算例,计算在聚甲基丙烯酸甲酯（Polymethyl Methacrylate,PMMA）光刻胶和硅衬底中10 kV电子束的光刻工艺过程.通过对比电子束邻近效应校正前后的显影版图,验证了该软件的有效性.在完全相同的计算硬件和算例条件下,与主流同类进口EDA软件进行了对比,证实了在同等精度下,本软件具有更高的计算效率.已建立http：//www.ebeam.com.cn网站,将HNU-EBL软件免费授权给EBL用户使用.     

新型纳米加工技术的研究

新型纳米加工技术是近几年迅速发展并取得突破性进展的一种纳米制造技术,利用无机纳米材料及无机—有机纳米复合图形材料制备纳米图形化掩模,结合纳米刻蚀技术实现小于30 nm的图形结构制备。克服了传统光刻技术对尺寸的限制和电子束光刻等在设备和生产速度上的限制,为从宏观到微观纳米图形制作开辟了新途径。通过新型纳米加工技术的研究,克服了传统光刻技术对尺寸的限制和电子束光刻等在设备和生产速度上的限制,为从宏观到微观纳米图形制作开辟了新途径。     

2008纳米压印光刻国际学术会议

2008年9月26～30日,我参加Obducat AB组织的纳米压印光刻学术研讨会。纳米压印光刻（Nanoimprint Lithography,NIL）是一种全新的纳米图形复制方法,目前压印的最小特征尺寸可以达到5nm,NIL较之现行的投影光刻和其他下一代光刻技术,具有高分辨率、超低成本（国际权威机构评估同等制作水平的NIL比传统光学投影光刻至少低一个数量级）和高生产率等特点,     

电子束直写模版电沉积制备图案化磁记录介质

以电子束直写光刻图形为模版,采用直流电沉积和数值模拟的方法,研究了镍纳米柱阵列图案化磁记录介质的制备工艺和模版电沉积过程中的沉积不均匀问题.研究结果表明,在加速电压、曝光电流确定的条件下,电子束直写光刻模版孔径由曝光时间决定,模版的孔径和孔距在10 nm量级精确可调.在纳米孔阵列模版中进行电沉积时,适当增大孔距,降低阴极电解电势,可以减小电沉积过程中相邻孔之间的相互干扰,提高电沉积的均匀性,从而为图案化磁记录介质的电沉积制备提供了一种新的方法.     

ABABA型方形双势垒结构中随质量和入射角变化的共振贯穿研究

通过对双势垒结构中电子有效质量的变化及电子束不同的入射角度引起的共振贯穿现象的研究,预言了双势结构作为一种在控制自由空间电子束方面有重要应用的新型过滤器的可能性.     

Design of a Compton Polarimeter for BEPC

Introduction　　TherehavebeenmanystudiesofJ/Ψ,Ψ,Ds,andτleptonsincetheopeningoftheBeijingElectron-positronCollider(BEPC)whichhasreceivedworld-widerecognition.Theaccuratemeasurementoftheτleptonmassisperhapsthemostnoteworthy.ThenextrunatBEPCmayincludeastudyofthepolarizationoftheelectronbeam.ThefirststepinthepolarizationstudyatBEPCistomeasurethetransversepolarizationandtooptimizethebeamorbitparameterstoachievemaximumpolarization,soastoprovideusefulinformationforfurtherstudiesoflongitudi…     

低气压气体放电电子束机理的探讨

本文在实验研究的基础上，对气体放电电子束的形成机理和物理模型提出了的见解，并以此为依据对电子束的能谱进行了模拟，实验结果与理论符合很好。     

强流电子枪近阴极发射面区的分析与计算

近阴极发射面区的分析与计算是强流电子枪计算过程的一个关键环节．文中提出了该区在温度限制下交叉电磁场空间电荷流的理论分析，与Ｋｉｎｏ短枪流理论相结合，可以对交叉电磁场空间电荷流进行完整的计算．在此基础上研制的Ｃ形带状强流电子枪计算软件包已用于实际电子枪的计算，计算结果与实测一致     

高聚物的STEM象观察

将分析电子显微镜的扫描透射电子象模式(STEM)应用于两种高分子物的研究。以 ABS/PVC高分子合金和角蛋白纤维为试验材料,叙述了样品制备过程和电镜观察的结果。实验证明,STEM具有对试样穿透能力强和电子束损伤小的特点,特别适用于高聚物材料。在高放大倍数下的观察,能获得直接透射象(TEM)难以观察到的某些微结构情景。     

薄膜定量分析中的Auger线型分析方法

采用Ａｕｇｅｒ线型分析方法－因子分析方法和已知组元强度的定量解谱技术，对电子束辅助Ｎ离子注入Ｓｉ和磁控溅射方法制备的ＴｉＮｘ薄膜的高分辨率俄歇电子能谱（ＡＥＳ），进行了定量分析。讨论了化学成分对ＡＥＳ线型的影响及线型分析技术的有效性和应用范围。     

电子束在放射性核束物理研究中的应用

利用电子束与重离子冷却储存环中的放射性核束相互作用,包括电子的弹性散射、非弹性散射以及电子散射引起的核反应,可以对不稳定核的结构和性质进行有效的研究．文中对进行这些研究的物理意义、所需电子束亮度以及设备进行了描述和粗略地估计．     

High-quality electron beams from a laser wakefield accelerator using plasma-channel guiding

Laser-driven accelerators, in which particles are accelerated by the electric field of a plasma wave (the wakefield) driven by an intense laser, have demonstrated accelerating electric fields of hundreds of GV m(-1) (refs 1-3). These fields are thousands of times greater than those achievable in conventional radio-frequency accelerators, spurring interest in laser accelerators as compact next-generation sources of energetic electrons and radiation. To date, however, acceleration distances have been severely limited by the lack of a controllable method for extending the propagation distance of the focused laser pulse. The ensuing short acceleration distance results in low-energy beams with 100 per cent electron energy spread, which limits potential applications. Here we demonstrate a laser accelerator that produces electron beams with an energy spread of a few per cent, low emittance and increased energy (more than 10(9) electrons above 80 MeV). Our technique involves the use of a preformed plasma density channel to guide a relativistically intense laser, resulting in a longer propagation distance. The results open the way for compact and tunable high-brightness sources of electrons and radiation.     

相向超短超强激光脉冲与中间薄膜靶相互作用产生快电子的模型

该文研究的是两束相向超短超激光脉冲与中间薄膜靶相互作用之间产生快电子的一种简单自洽模型理论，由理论推知，当满足一定条件时，由于激光有质动力与靶电子的谐振作用，在靶表面的电子云层中的电子被强烈加速产生快速高能电子。     

静电六极球差矫正系统的理论计算

限制电子显微镜分辨本领的主要因素是电子透镜的球差，对一系列的六极系统进行了理论计算和分析，计算表明利用2个静电六极透镜和1个中间透镜的系统可以消除3级球差。