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相似文献
 共查询到18条相似文献,搜索用时 899 毫秒
1.
从列平衡的角度出发,将设计的中心化L2-偏差、对称化L2-偏差、可卷L2-偏差分别用二次型和均衡模式表示,可分别得到两个下界,它们都适合用来评价正交设计的均匀性。以double设计的对称化L2-偏差为例,证明了这两种方法算出的下界是相等的。  相似文献   

2.
基于现有的均匀性测度公式,利用Langrange乘数法和Taylor公式得到二水平设计离散偏差和对称化L2偏差紧的下界,最后通过2个例子来验证其结论.  相似文献   

3.
二水平部分因子设计在工农业生产、科学实验等领域得到广泛应用,因此有关二水平部分因子设计的研究一直是热点问题.最近,一种称为doubling的方法被用来构造二水平部分因子设计,特别是在构造分辨度为Ⅳ的设计时,这种方法是非常简单但很实用的方法,本文从均匀性的角度来研究double设计,进一步讨论doubling方法的实用性,利用对称化L_2-偏差作为均匀性的测度,发现double设计D(X)的均匀性与初始设计X的均匀性有着密切的联系,给出了double设计在对称化L_2-偏差下的下界.  相似文献   

4.
利用投影均匀性模式得到了两水平部分因子设计的组合设计的对称化L2-偏差的下界,数值例子说明这些下界是紧的,因此这个下界可以作为寻找最优折叠反转方案的基准.  相似文献   

5.
基于对称化L2-偏差讨论了组合设计的均匀性,在两种特殊的情形下分别得到了两水平部分因子设计的组合设计的离散偏差的下界,数值例子说明这些下界是紧的,因此这些下界可以作为寻找最优折叠反转方案的基准。  相似文献   

6.
拉格朗日乘数法和许尔凸函数法都是从设计的行平衡角度来考虑下界的计算.如果利用许尔凸函数来计算2-水平U-型设计在对称化L2-偏差下的下界,能够证明用拉格朗日乘数法和许尔凸函数法这两种方法计算的三种偏差的下界是相等的.  相似文献   

7.
基于中心化L2-偏差讨论了两水平扩大设计的均匀性,获得了两水平扩大设计中心化L2-偏差的一个新的下界,该下界可作为寻找最优折叠反转方案的一个基准.  相似文献   

8.
度量均匀性的偏差在小样本时具有方向性.本文给出了一个度量设计均匀性的新准则-对称偏差,它克服了偏差的上述缺点.利用该准则,给出了一些均匀设计表.  相似文献   

9.
均匀性的一个新度量准则——对称偏差   总被引:5,自引:0,他引:5  
度量均匀性的偏差在小样本时具有方向性。本文给出了一个度量设计均匀性的新准则-对称偏差,它克服了偏差的上述缺点。利用该准则,给出了一些均匀设计表。  相似文献   

10.
可卷L_2-偏差已被广泛地应用于评价部分因子设计的均匀性.研究了具有2和4混水平的非对称设计在可卷L_2-偏差下偏差值的下界,它可以作为寻找可卷L_2-偏差下具有2和4混水平的非对称U-型均匀设计的一个基准.  相似文献   

11.
给出了基于贪婪算法和门限接受算法的构造均匀设计表的随机优化算法,以中心化偏差为均匀性测度,编写了产生最优均匀设计表的相关计算机通用程序,通过计算和与文献比较,得到了更多更优的均匀设计表。  相似文献   

12.
针对执行机构受不对称约束的多螺旋桨浮空器,采用直接法和间接法设计了抗饱和控制器,通过线性变换将不对称约束转换为对称约束,利用广义扇形条件处理饱和非线性,采用2次Lyapunov方程分析饱和受限闭环系统的L2性能,给出了基于线性矩阵不等式(LMI)的综合条件,并将抗饱和控制器设计转化为LMI的凸优化求解问题,采用现有的YALMIP工具箱进行求解,分别给出采用直接法和间接法设计的抗饱和稳定控制器的仿真结果,以验证2种控制器设计方法的有效性.  相似文献   

13.
利用先验估计方法解决了半线性双速对称双曲方程组在耗散边界条件下的间断行波在边界上的反射,证明了过去时间内的间断行波必可延拓成某将来时间内的间断行波。  相似文献   

14.
考察了As2O3贴剂的制备工艺和最优处方.以黏性和释药性为考察指标,采用单因素考察压敏胶、增塑剂、交联剂和渗透促进剂对贴剂的影响,并通过正交设计筛选了贴剂处方.结果表明:所得贴剂的制备工艺简单;压敏胶成膜均匀;黏性适中,释药性发现能缓释12 h.  相似文献   

15.
设计了一种粒状散料均匀定量运送系统,包括螺旋送料器的几何建模,以及基于应变传感器和可编程控制器PLC的送料装置计量模块.采用离散单元EDEM软件对粒状散料的送料均匀性进行仿真;并通过Matlab程序对同工况下的物料进行均匀性计算.结果表明,所设计系统的散料运送均匀满足要求,适合对同类物料的定量运送.  相似文献   

16.
为了研究三水平设计投影均匀性与设计效率的关系,在中心化L2-偏差度量下,建立了强度为2的三水平正交设计的均匀性模式与设计效率的解析联系,对于强度为3的三水平正交表,最小低阶投影均匀性准则与设计效率准则等价.对于三水平设计,获得了均匀性模式紧的下界,该下界可以衡量设计是否为最小低阶投影均匀设计.  相似文献   

17.
分别采用均匀试验设计和正交试验设计法研究由吡啶和氨化亚砜合成双吡啶盐酸盐的最佳合成条件,将上述两种不同方案设计的试验结果综合分析,通过稳定试验确定出实验合成双吡啶盐酸盐的最佳工艺条件,使产率的收率达80%以上  相似文献   

18.
非对称超载条件下深基坑支护结构的变形分析   总被引:1,自引:0,他引:1  
文章以苏州地铁1号线深基坑工程为研究背景,采用GTS软件对基坑支护体系进行了有限元分析;考虑支护结构与土体的共同作用,计算和分析了非对称超载条件下支护结构的内力和变形,并与对称超载条件下的计算结果进行对比,得到了非对称超载条件下支护结构内力和变形的分布规律。计算和分析结果表明:非对称超载状态下,基坑支护体系超载侧支撑轴力略大于对称超载条件下的支护结构,但超载侧的位移较大,基坑的稳定性处于最不利的状态。研究结果将有助于提高深基坑设计水平,为类似工程的设计、施工和研究提供必要的数据。  相似文献   

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