薄膜介质折射率的测定

给出了用分光计测量介质簿膜的布儒斯特角而求其折射率的方法。     

硫化锌薄膜的折射率分析

我们利用椭偏法对硫化锌薄膜的光学厚度和折射率进行了实时的监控,并利用电子显微镜和X射线光电子能谱仪对硫化锌薄膜的结构和化学成份进行了观察、测量和分析,讨论了硫化锌薄膜的折射率与化学成份、薄膜结构的关系。     

波导薄膜折射率测量方法研究

本文讨论了四种测量波导薄膜的有效方法,对各种测量方法作了分析研究,并着重对棱镜耦合法进行了实验研究。     

TiO2薄膜折射率的调控方法

采用电子束蒸发技术及其辅助工艺制备了TiO2薄膜,利用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)和原子力显微镜(AFM)对薄膜的组织结构进行了表征,采用紫外可见分光光度计研究了TiO2薄膜的折射率变化.结果表明:传统电子束蒸发镀制的TiO2薄膜的折射率低于块体值,通过调节氧气压、沉积速率和衬底温度可在1.97～2...     

单轴晶体双折射率的测定

单轴晶体的双折射率是一个重要的光学参数,本文介绍了一种用迈克尔逊干涉仪测量单轴晶体双折射率的方法。     

GaAs薄膜的瞬态光致折射率变化研究

利用飞秒瞬态反射谱和透射谱，研究了ＧａＡｓ薄膜的瞬态光致折射率变化，观察到光致折射率的一个超快弛豫过程和一定激发浓度下的瞬态光致吸收增加现象，用受激载流子引起的带填充和能隙收缩解释了这些现象。     

一种测量透明薄膜折射率的方法

用一个三棱镜把光耦合到被测量透明薄膜上;由另一个三棱镜把光耦合出来。当光束在与被测量薄膜的界面刚好发生全反射,由棱镜２耦合出的光突然消失。这时光束进入被测量薄膜的入射角为临界角。测出入射棱镜的入射角,从而求出该薄膜相对不论的临界角,由此而求出该透明薄膜的折射率。     

椭圆偏振仪测量薄膜厚度和折射率

文章通过对椭偏仪测量原理的分析给出了四区平均消光状态下的计算公式,利用该公式计算在一个周期内的薄膜厚度和折射率结果较好;同时给出了膜厚大于一个周期时的计算方法。     

确定薄膜折射率和厚度的波长法

提出一种只需测量垂直入射和斜入射的两条光谱曲线,就能分别确定薄膜的折射率 n(λ)和厚度的方法.该方法在薄膜的消光系数 k~2n~2时适用,精度优于1%.     

基于光栅耦合悬空薄膜波导的折射率传感器

提出了一种纳米光栅耦合悬空薄膜波导液体折射率传感器件设计方案.纳米光栅位于悬空薄膜波导上表面,被分析液体位于波导下表面.这种薄膜波导将光栅和被分析液体分离开的传感方案,避免了液体与纳米光栅的接触导致其衍射效率下降的问题,同时增加了被分析液体与波导的接触面积,从而增强器件的传感性能.本文首先采用数值模拟方法分析器件各个参数对其传感性能的影响.分析表明,当波导模式越靠近瑞利反常波长时,器件灵敏度越高.然后实验采用3D双光子光刻技术在悬空氮化硅薄膜波导上制备光刻胶纳米光栅.最后通过自搭建光纤光谱测试系统对器件传感性能进行表征,验证了设计方案的可行性.     

薄膜材料的非线性折射率和非线性吸收系数研究

介绍了用单光束纵向扫描技术(Z扫描)测量薄膜材料的三阶非线性光学效应方法,研究了薄膜材料的非线性吸收效应对其非线性折射率测量的影响.当非线性吸收和非线性折射共存时,非线性吸收效应使Z扫描闭孔的测量曲线峰谷不对称,当耦合因子ξ=β     

管式PECVD工艺对氮化硅薄膜折射率的影响

折射率是反映薄膜成分以及致密性的重要指标, 是检验薄膜制备质量的重要参数,其变化直接影响太阳能电池的转化效率。本文研究了不同射频功率、腔体压强、衬底温度以及硅烷和氨气配比等沉积条件对在太阳能电池上沉积的氮化硅薄膜折射率的影响,分析了氮化硅薄膜折射率随各沉积条件变化的原因。     

压强和温度对薄膜折射率的影响模型

基于膜分子和气相分子在沉积时竞争的观点,得到压强和温度对薄膜折射率影响的理论模型.模型的研究表明,薄膜折射率随真空压强的增加而降低;并随沉积温度的增加而增加.在不同真空压强和不同沉积温度下制备了氧化锆薄膜,计算了样品的折射率,结果显示的规律和理论模型的规律基本一致.     

利用偏振光测定晶体折射率的实验设计

根据晶体中折射率的分布规律与偏振光的联系,给出了利用偏振光测定晶体折射率的实验原理,以λ/4波晶片为例讨论了测定晶体折射率的实验方法和步骤,并说明了该实验的优越性.     

一种折射率测定实验装置

介绍了一种实用而可自制的折射率测定实验装置的结构、原理、使用方法与测试结果。     

最小偏向角测定折射率实验改进

大学物理光学实验中,用分光计测量最小偏向角时,往往找到的是一个微小范围内的值,不能精准确定最小偏向角,针对这一问题,文章给出了相应的解决办法,即用两块薄铁片确定入射光与反射光的水平程度来精准确定最小偏向角,改进后的实验用时减少,实验数据准确度大幅度提高.     

介质薄膜的厚度和折射率测量的实验研究

实验用m—line法测得三层平板波导在不同阶导模下的有效折射率,通过解光波导的色散方程,采用计算机编程拟合,有效的得出了介质薄膜的厚度和折射率,并给出了各阶模式的光场在波导中的分布．     

常压下低折射率纳米多孔二氧化硅薄膜的制备

以正硅酸乙酯(TEOS)为有机醇盐前驱体,采用溶胶-凝胶技术,通过酸/碱二步法控制实验条件,结合低表面张力溶剂替换以及甲基非活性基团置换修饰、超声振荡等,在常压下成功地制备出折射率在1.11～1.27范围内的二氧化硅纳米多孔光学薄膜。制备过程中充分注意到稀释、老化、有机修饰表面、热处理和提拉条件对薄膜都有很大的影响,利用这些因素可以对该纳米薄膜的孔洞率、折射率进行控制,尤其是能制备低折射率薄膜,从而为该薄膜的应用开发奠定基础。采用椭偏仪测量薄膜的厚度和折射率,薄膜中高的孔洞率、低的折射率归结于最终干燥阶段中的弹性回跳。扫描电镜(SEM)观察发现修饰薄膜的表面形貌具有明显的多孔结构。耐磨实验表明所制备的薄膜有良好的机械性能。     

一种测定均匀物体折射率的方法

从理论上论述了利用太伯效应测定均匀物体折射率的方法，给出了实验方案和计算公式。