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相似文献
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固体中质子运动的科学与技术称为质子学.本文纵览了基于质子导电陶瓷的种种可能的质子学器件.这些器件不仅有利于提高当前的科技质量,同时也将有助于构建未来的氢能系统.质子学器件按其应用方式可以分为两类,一类是利用其电动势,另一类利用质子优先传输性能.原电池型的氢传感器和燃料电池属于前者,氢泵、蒸汽电解器和膜反应器属于后者.原则上由上述器件可以推演开发出更多的改进型式.应用钙钛矿型氧化物高温质子导电陶瓷,已经制备了几种质子导电器件,虽然尚处于实验室规模但已证明具有肯定的技术功能.  相似文献   

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以2,2':5',2″-三噻吩(3T)作为单体,通过电化学聚合制备了聚噻吩,研究了聚噻吩薄膜的电致变色性能.研究发现,在液体电解质中,当施加外加电压时,聚噻吩薄膜的颜色能发生橙黄色和藏青色的可逆变化.利用聚噻吩作为电致变色活性层制备了固态电致变色器件ITO/聚噻吩/凝胶电解质/ITO,在施加外加电压时,固态电致变色器件也能发生橙黄色和藏青色的可逆变化.  相似文献   

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对碳化硅的研究从1907年就开始了,当时H.J.Round通过在一个金属针和碳化硅晶体之间加上偏压示范了黄色与兰色的辐射光。1932年俄国科学家OleyLosev发现了出自碳化硅的两种类型的光辐射,现在我们称之为预击穿光线和场致发光辐射。人们在半个世纪以前已经认识到了在半导体电子学中使用碳化硅的潜力。它最值得注意的性质是(1)宽能带间隔,对于不同的多形体为3至3.3eV;  相似文献   

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简要回顾了氮化物半导体发光二极管技术的发展历程,总结了多物理场作为有效调控和裁剪氮化物量子结构关键特性的重要手段,着重介绍了近年来厦门大学在半导体固态光源量子结构材料和器件方面的研究进展,特别是在氮化物半导体量子结构关键技术开发中,率先联合调控化学势场、光场、极化场以及电场等获得的有影响的重要创新成果.  相似文献   

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超宽禁带二维半导体作为二维材料研究领域的前沿之一,在紧跟第三、四代半导体朝着大带隙、大功率方向发展的同时,也为集成电路往小体积、高集成度方向的探索提供了思路.根据晶体堆积是否为范德华层状结构,超宽禁带二维半导体在材料层面的研究内容一方面是将已有的或成熟的非层状材料通过各种限制手段将第三维度压制在纳米量级,另一方面则是探索新型的范德华层状材料通过生长或剥离的方式得到其单层或少层结构.从器件层面看,超宽禁带二维半导体无论是以独立形式还是两两组合叠成异质结,形成的器件大多都以探测紫外波段的电磁辐射为目的,进一步可以做成包括成像系统、数字通讯等在内的光学传感器.若是辅助以柔性衬底,那么二维材料将发挥天然的可弯折优势,被广泛应用到柔性场效应晶体管、柔性紫外探测器、显示器等可穿戴电子器件中.而当材料有对外界刺激(如光照)表现出“记忆”特性时,说明可以将材料用于类神经突触传感或神经网络学习.此外,超宽禁带二维半导体中具有超大带隙的部分材料是极具潜力的电介质,它们往往拥有远比氧化硅大的介电常数与击穿电压,在减薄器件体积的同时也优化了器件的性能.最后,少数超宽禁带二维半导体是许多材料制备过程中的衬底,它...  相似文献   

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从高速全光器件和光电集成器件对材料的要求出发,报道各族半导体纳米颗粒镶嵌薄膜材料的研究近况,并对今后材料研究的主攻方向发表见解.  相似文献   

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本文介绍普通型GAL的结构和输出逻辑宏单元OLMC的7种组态类型,并在此基础上分析了实际应用中对引脚配置的限制.  相似文献   

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半导体制冷又称“热电制冷”、“温差电制冷”,是一种采用半导体制冷元件,利用热电制冷效应的特殊制冷方式.因为其没有运动部件,也没有磨损、震动和噪声,工作可靠且不受重力影响,向小型化发展不受限制,改变电流方向可以从制冷转换到加热工况,因此,可用于电器和仪表的微型冷却或恒温装置,特别适宜于要求消除振动和噪声的工作环境,不能使用常规制冷系统的高压和水下环境,以及失重或移动的环境.尽管半导体制冷的效率较低,它已在实验技术、医疗技术、宇航、海洋和国防工程等领域得到了广泛的应用,已能达到140K低温和产生35.2KW空调制冷量,并在微型制冷装置中处于不可缺少的地位.最近,由于环境保护问题越来越受到人们的重视,半导体制冷由于不使用制冷剂,将作为取代传统的制冷剂——氟里昂的一种新型材料,其产品在民用领域的应用日显重要性.  相似文献   

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本文系统介绍了半导体敏感器件的分类和在各个领域中的实际应用以及发展趋势。  相似文献   

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本文运用速率方程对半导体激光器实现逻辑器件的基本原理进行了分析,并介绍实现半导体激光逻辑器件一些基本方法。  相似文献   

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位置敏感器件(PSD)的杂光干扰研究   总被引:28,自引:0,他引:28  
光电位置敏感器件(PSD)是一种可直接对其光敏面上的光斑位置进行检测的光电器件,基于PSD可构成多种非接触的高精度动态位移监测仪器。在PSD器件使用中的一个关键问题是如何克服各种杂光干扰,以提高检测的精度和可靠性。根据PSD的原理及其特征方程,分析了杂光在PSD上的两类作用模式,并根据PSD特征方程推导了存在杂光干扰时PSD输出信号与杂光的关系,及杂光导致的位置误差方程。根据上述推导,文章给出了3种克服杂光干扰的实用方法。  相似文献   

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