太阳能级回收硅料清洗效果研究简

通过对光伏领域回收硅料表面处理一般方法的研究,使用ICP-MS对比分析了光伏产业使用不同类型硅料经混酸腐蚀处理前后,表面金属杂质种类、含量及清洗效果的变化,并使用SEM对硅料清洗前后的形貌进行了微观分析.结果表明HF/HNO3混酸体系对于过渡族金属杂质Cu、Zn、Mn去除效果较好,对于Ti、Cr金属杂质特别是Fe的去除效果较差;硅料表面微观结构越光滑,杂质去除效果越好.     

新型清洗剂“811”、“812”清洗半导体表面杂质的机理

用放射性同位素示踪法研究清洗剂“811”和“812”对半导体表面沾污杂质的清洗效果表明,用811、812清洗半导体表面沾污的蜡和油脂等有机杂质效果很好,用812清洗半导体表面沾污的铁、金、铬、钠等金属杂质都能得到很好的效果,清洗效率均可大于97%,甚至大于99.9%,在某些条件下比用酸、碱清洗还要高一些.有关工厂在生产中应用811、812作为半导体清洗剂,其半导体器件产品的合格率比用酸、碱和有机溶剂的清洗还有所提高.清洗机理是一个十分重要的问题.为什么清洗效率如此之高呢?我们用多种方法研究了811、812对半导体硅片和锗片表面沾污杂质的清洗机理.结果表明,其清洗效率之所以如此之高,是由于811、812是一种表面活性剂,812既是表面活性剂又是较强     

砷化镓多晶表面清洗技术的研究

根据实际生产经验,分析了GaAs多晶料表面杂质的类型、产生原因及对后续单晶生长的影响,明确了多晶表面清洗工艺的重要性,介绍了针对不同类型杂质的清洗方法和原理,并在此基础上进行了多晶表面清洗实验,结果表明:无论是酸性清洗液还是碱性清洗液,都能达到去除GaAs多晶表面杂质的目的;Ga和As各自的氧化物在酸、碱溶液中溶解的难易程度决定了利用不同清洗液清洗后,多晶表面的光亮程度;从安全性和环保性角度来看,碱性清洗液是清洗多晶料表面更好的选择。     

硫酸在硅抛光片清洗中的作用研究。

集成电路用硅片必须经严格清洗，微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除硅抛光片表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅抛光片表面。采用改进的RCA清洗工艺，通过调整预清洗工序流程，对免清洗硅抛光片进行清洗，主要解决免清洗片表面“腐蚀圈”问题，对其进行了分析。     

金表面的清洗方法与电化学表征

金被广泛应用于自组装膜的基底，金表面的清洗是完美自组装膜形成的关键技术．分别利用硫酸一过氧化氢(Piranha)洗液法和电化学清洗法对金表面进行了清洁处理，并利用循环伏安法对其进行了表征．结果表明：2种清洗方法可以达到相同的清洗效果，但前具有强氧化性，不能用于环氧树脂封装的电极的清洗，而后可以很好地解决这一问题，是一种电极表面清洗的有效方法．最后讨论了电解液中含有氯离子时对电极的腐蚀作用，进而给出了进行电化学清洗的条件．     

可降解软磨料对再制造水射流清洗性能影响因素研究

\提出一种新型可降解软磨料用于磨料水射流清洗技术,分析对比不同硬度磨料水射流清洗再制造零部件的清洗性能和表面损伤规律. 采用石榴石硬磨料水射流、核桃壳软磨料水射流和纯水射流3种射流方式,开展清洗零部件污垢的对比试验;在不同清洗方式下,分析清洗速率、比能耗、清洗后表面粗糙度、最大坑深等4个方面的差异,并从宏观和微观层面分析不同清洗模式下基体损伤情况. 结果表明,核桃壳软磨料能够有效去除表面污垢和杂质,降低比能耗,提高清洗速率,同时又不会对基体表面产生较大的损伤,在再制造业清洗或对表面粗糙度要求高的场合下,是一种较为理想的选择.     

O3氧化法处理晚期垃圾渗滤液有机污染物的特性

采用气相色谱-质谱联合(GC-MS)技术,对O3氧化法处理前后晚期垃圾渗滤液中的有机污染物种类及去除效率等进行分析,考察O3氧化法去除晚期渗滤液有机污染物的特性.研究结果表明:采用O3氧化20 min后,COD去除率为73.2％,BOD5去除率为38.7％,可生化性由0.12上升到0.61,有机污染物种类由66减少到48种,烯烃类、烷烃类及其他难降解有机物去除率为50％以上,氧化出水羧酸类与醇类有机物量有所增加,在氧化过程中有部分非酰胺类有机物转化成酰胺类有机物;采用O3氧化法处理晚期垃圾渗滤液,不仅能明显去除其中有机污染物,而且能提高其可生化性,可以考虑作为晚期垃圾渗滤液的预处理技术.     

关于利用云南磷石膏制备磷建筑石膏预处理实验研究*

研究了水洗法、石灰中和法、浮选法和Hans法等不同预处理过程对云南磷建筑石膏强度及晶体形貌的影响。通过大量实验对比四种预处理效果,结果表明:经过四种预处理方法处理的磷石膏都基本都满足建材制品相关规定要求;其中Hans法对去除磷石膏中可溶性磷、氟及有机物效果最好,而且成本低,操作简单,样品强度高。而石灰中和法能够部分去除磷石膏中的无机杂质;水洗法能够较充分的去除磷石膏中的无机杂质;浮选法能有效去除磷石膏中的有机物,相比之下Hans法更加经济和操作性更强。     

具有清洗防锈润滑功能的金属保养液的研制

通过正交实验研制了一种新型的具有清洗防锈润滑功能的金属保养液。该保养液是由表面活性剂、分散剂、防锈剂、润滑剂、乳化剂等原料组成的微乳液,具有稳定、去污率高、抗磨减摩突出、防腐防锈性强等特点,而且无毒、无害,一次性完成清洗、防锈、润滑等多重功效,特别是便于快速反应,适合于野外装备的保养。     

SDBS微乳液制备及其对石油污染土壤清洗效果研究

目的 利用阴离子型表面活性剂、助表面活性剂、无机电解质、有机相与去离子水配制微乳液,研究微乳液的稳定性,利用配置的微乳液对石油污染土壤进行清洗,探究方法可行性以及最佳参数条件。方法 采用Shah法,以十二烷基苯磺酸钠为表面活性剂、分别以正丁醇、NaCl、Na₂CO₃、Na₂SiO₃、有机相正庚烷为助表面活性剂制备微乳液,通过绘制拟三元相图研究微乳液体系稳定性;分析该微乳液对石油污染土壤的洗脱率。结果 配制的微乳液Ⅲ对含油量为10.6%的石油污染土壤去除率达到90.47%,清洗后的土壤含油率为1.01%,对比单一表面活性剂SDBS的石油烃脱附效率提高了32.31%。结论 该微乳液脱附效率显著高于单一或其他复配溶液药剂,可作为高浓度石油污染土壤修复的主要备选技术。     

砂岩表面原油清洗液的研制

对各种溶剂及表面活性剂进行了筛选和复配，用正交实验方法配制了对砂岩表面砂岩表面原油具有高效清洗能力的水包油型乳状液。所研制的砂岩表面原油清洗液是由10％的混合表面活性剂及水等物质组成的。筛网实验证明，该清洗液清洗能力达到90％以上，最佳使用温度范围为50－70℃，符合油田固砂施工要求。砂岩表面原油清洗液的高效清洗能力是体系中溶剂、表面活性剂等多种成分通过溶解、渗透、分散等方式协同和的结果。这种砂岩表面原油清洗液毒性小，成本低、清洗能力强，使用方便，油田具有应用价值。     

金属硅的酸洗和氧化提纯

为了降低金属硅酸洗的后续工艺难度,在成熟的常温酸洗技术的基础上加上湿氧氧化新技术对金属硅进行提纯.酸洗主要作用是去除大部分裸露在金属硅颗粒表面的金属杂质;而湿氧氧化后,使颗粒内部分凝系数(在硅和二氧化硅系统中的分凝系数)较小的硼在高温下扩散进入二氧化硅中,再腐蚀去除氧化层和其中的杂质.实验表明该方法对硼杂质有明显的提纯作用,提纯后,硼杂质的含量最低为4×10-6.两种技术在工艺上兼容,在提纯目标上互补,是非常有效的低能耗和低成本的提纯方法.     

砂岩表面原油清洗液的研制

对各种溶剂及表面活性剂进行了筛选和复配 ,用正交实验方法配制了对砂岩表面原油具有高效清洗能力的水包油型乳状液。所研制的砂岩表面原油清洗液是由 1 0 %的混合溶剂、2 .1 %的混合表面活性剂及水等物质组成的。筛网实验证明 ,该清洗液清洗能力达到 90 %以上 ,最佳使用温度范围为 50～ 70℃ ,符合油田固砂施工要求。砂岩表面原油清洗液的高效清洗能力是体系中溶剂、表面活性剂等多种成分通过溶解、渗透、分散等方式协同作用的结果。这种砂岩表面原油清洗液毒性小、成本低、清洗能力强、使用方便 ,在油田具有应用价值。     

精密金属零件非ODS清洗技术研究

由于精密金属零件表面洁净度要求很高，目前一般采用ODS溶剂清洗．介绍了一种非ODS清洗技术，并利用X射线光电子谱等测试方法，分别比较用两种清洗技术清洗过的金属零件表面，结果表明新型清洗技术优于传统ODS清洗技术．     

锗片清洗工艺对太阳电池性能影响的研究

随着砷化镓太阳电池对锗片的需求,免清洗锗片的需求日益增加.本文在试验的基础上阐述了锗单晶抛光片的清洗机理.通过对锗抛光片表面有机物和颗粒的去除技术研究,建立了超薄锗单晶抛光片的清洗工艺,利用该清洗工艺制备的锗抛光片完全满足了空间岛效太阳电池的使用要求.     

放射性同位素示踪法研究清洗剂“811”和“812”对半导体表面杂质的清洗效果

半导体表面杂质的清洗工艺是半导体器件生产中关键的工艺之一,它对器件性能有很大影响.目前普遍使用腐蚀性强的硝酸、盐酸、硫酸、过氧化氢和氢氧化铵等酸碱,以及毒性较大的甲苯、四氯化碳、丙酮等有机溶剂进行清洗,产生大量废水、废气,以致损害工作人员健康,造成环境污染.此外,这些高纯试剂价格较贵,清洗成本高.因此,近年来有关单位在这方面进行了探索,期望能找到一种新的半导体清洗剂,以改善这种状况.     

煤气热水器的化学清洗

对煤气热水器管壁水垢的形成原因及其化学成分进行了分析，基于煤气热水器的铜管壁构造特点，采用柠檬酸与表面活性剂复配技术，研究了用化学清洗法除去换热器的铜管壁水垢，恢复热水器性能的方法；使用该清洗方法可以有效保护煤气热水器不受强酸的化学腐蚀，同时又能够延长煤气热水器的使用寿命和提高煤气热水器的热效率。     

激光清洗在金属表面处理中的应用研究进展

激光清洗可以高效去除金属表面杂质和氧化物,提高表面质量,具有无污染、对基体伤害小、清洗效率高等优点。本文综述了激光清洗在金属表面脱漆除锈、轮胎模具清洗、微型机械清洗、文物保护、去油污以及核净化等方面的应用研究进展,发现目前该领域存在的问题主要是激光清洗的机理、工艺还不够完善,对于不同的材料没有明确清洗阈值和损伤阈值之间的关系,未来应完善不同材料的清洗机制,明确清洗阈值,以实现精密高效清洗。     

氧化偶合絮凝法处理城市污水中有机物特性

研究了氧化偶合絮凝法处理城市污水的性能及污水中有机污染物的性质,并通过色谱-质谱对原污水、混凝沉降后水、氧化偶合絮凝处理后水中的可分析有机物进行了定性、定量分析,探讨了氧化偶合絮凝法处理城市污水中有机物的机理.结果表明,一般化学混凝沉降只是通过絮凝吸附作用去除污水中有机物,有机污染物总量和种类均降低很少;氧化偶合絮凝法通过催化氧化协同絮凝吸附,不仅使污水中有机物的总量大大降低,同时也使有机物种类大大减少.     

半导体硅材料的清洗方法

半导体行业中的很重要的一道工序就是对半导体材料的清洗,这直接影响着半导体材料的质量及下游产品的性能。介绍了硅片表面污染的种类来源以及形成机理。对目前硅片主要清洗方法——RCA清洗法、超声清洗法、气相清洗法和其他清洗法的工作原理、清洗效果、适用范围等特点进行研究,分析了各种清洗方法的优缺点。最后,重点对半导体硅片传统的RCA清洗方法中各种清洗液的清洗原理、清洗特点、清洗局限进行了详细介绍。生产企业可根据实际生产情况和产品要求选择合适的清洗方法。