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1、当打开某一个文本编辑器进行文字编辑时,我们需要选择输入方法来输入汉字,你可以使用鼠标来选择输入方法,但熟练用键盘操作的用户可以先按住Ctrl键,同时在按下Shift键,就能够随意选择自己所喜欢的中文输入方法了,当然我们也可以自定义成其他快捷键,而按Shift加空格键则可进行全角/半角方式的转换。 2、在Windows 98的各个对话框中,凡是对编辑框的操作都可以通过 Aft+ Backspace键来撤消,其效果和Ctrl+Z完全一样。该功能同样适用于微软的各字处理软件。如记事本、书写器、WORD… 相似文献
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在对用XRD表征确证分属于TS-2分子睡无定形TS氧化物结构的一系列样品进行红外表征时,首次发现在分子筛骨架与无定形表面都存在Ti-SiO3键,但这两进在红外是可区分的。 相似文献
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化学表面处理对热生长氧化形成的SiO2驻极体电荷寿命的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
以实验结果为依据研究了化学表面处理对SiO_2薄膜驻极体内电荷储存稳定性的影响。得知用HMDS或DCDMS等有机试剂进行的化学表面处理将在SiO_2驻极体表面形成一个疏水的保护层。通常情况下,它将起到防止外界环境中的水吸附而形成的表面导电结构,对改善这一驻极体薄膜的电荷储存稳定性起到显著的作用;伴随着驻极体内长久电荷的捕获储存,在驻极体内发生的电化学反应将有水分子生成,而用化学表面处理后形成的疏水保护层有时也会阻止驻极体内部过剩的水分子向外扩散,造成用化学表面处理后驻极体内的电荷较快衰减这一反常现象的发生。 相似文献
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采用循环伏安法分别测定了脂肪族正链醇和水溶性醛在Na2So4,H2SO4和NaOH溶液中的半波电势E1/2,结果表明,E1/2与电极特性和溶液酸度有关,与正链醇的链长基本无关。使用铂电极,在H2SO4溶液中,E1/2.醇=0.60 ̄0.66,0.90 ̄0.97V(vsSCE),E1/2.醛=0.85 ̄0.95V(vsSCE)。 相似文献
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设计、合成了一种新的蛋白质特异性氧化断裂试剂BAPBE,用它共价修饰BSA的唯一巯基。修饰物与Fe^2+螯合,在pH7.0、25℃下用H2O2及抗坏血酸钠处理,使BSA发生2种方式的断裂,产生4种BSA片段,但在相同条件下巯基枯草杆菌蛋白酶未被切断。 相似文献
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本文构造了K阶Sikkema-Stencu-Kantorouitch算子,讨论了它的L^P收敛性,将[2]中关于K阶Sikkema-Kantorouitch算子的L^P收敛性结果推广到K阶Sikkema-Stencu-Kantorouitch算子上。 相似文献
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提出了一个优化量子MonteCarlo波函数的新方法,与前人的方法相比,它不使用变分原理而是极小化薛定谔方程的剩余量;不按ψ^2取样而是按ψ^2(EL-E)^2取样不用差分而是用分析导数,不使用系统的速降法而是使用一个步长自动调节的下降法,它具有拟牛顿性质,因而是超线性收敛的,H2O,CH4和F2分子的检验结果表明,本文提出了的这一优化量子MonteCarlo波函数的新方法是非常成功的。 相似文献
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根据半经验MO计算结果,讨论了硫氮环S2N2和S3N3^-与过渡金属形成的夹心化合物的稳定构象及电子结构与稳定性的关系。S2N2环形成的Ti(S2N2)2是D2对称性的交叉式稳定,而S3N3^-环形成的Cr(S3N3^-)2是D3d对称性的反重迭式稳定。轨道相互作用分析表明,硫原子d轨道对于夹心化合物的形成起着重要作用。 相似文献
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用X射线衍射及电子探针微区成分分析技术,研究了ZnO-Bi2O3-Sb2O3-BaO为基的压敏陶瓷的显微结构.除通常的ZnO、Bi2O2和Zn2.33Sb0.67O4晶相之外,发现了一新的晶界相.分析表明,新的晶界相是固溶有微量Zn的BaSb2O6晶相;它以颗粒状夹杂于弥散的Bi2O3晶界相中;随钡含量增加,BaSb2O6相的数量增多,粒径也增大,相应地Zn2.33Sb0.67O4相的数量则减少.同时还发现,晶界层中组分及结构的这种变化,使压敏陶瓷在长期电负荷下工作的稳定性得到改善. 相似文献
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ZnO—Bi2O3—Sb2O3BaO系压敏陶瓷组成相的显微分析 总被引:3,自引:0,他引:3
用X射线衍射及电子探针微区成分分析技术,研究了ZnO-Bi2O3-Sb2O3-BaO为基的压敏陶瓷的显微结构。除通常的ZnO,Bi2O3和Zn2.33Sb0.67O4晶相之外,发现了一新的晶界相。分析表明,新的晶界相是固溶有微量Zn的BsSb2O6晶相;它以颗粒状夹杂于弥散的Bi2O3晶界相中;随钡含量增加,BaSbO6相的数量增多,粒径也增大,相应地Zn2.33Sb0.67O4相的则减少。 相似文献
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研究了一种新型自对准硅化物MOS晶体管制备技术,通过Co/Si固相反应在源漏区和栅电极表面形成一层自对准的低电阻率CoSi_2薄膜,在CoSi_2/Si结构中进行杂质离子注入,用计算机模拟程序对离子注入杂质分布及损伤进行计算,选择适当的注入能量,使注入的杂质浓度峰值位于CoSi_2/Si界面附近,经快速退火,可获得界面载流子浓度较高、性能优良的增强型和耗尽型NMOS晶体管。该文还研究了注入在CoSi_2/Si结构中的杂质在不同的热处理条件下的分布变化,结果表明,磷在热处理过程中,存在向硅衬底较强的扩散趋势,而硼则明显不同。 相似文献
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(NH4)2SO4—ZrO2体系的热分散性质 总被引:1,自引:1,他引:0
用红外光谱和X射线光电子能谱对研磨法制得的(NH4)2SO4-ZrO2样品进行了表征,并将表征结果与其催化性能关联。结果表明,热处理时存在着(NH4)2SO4在ZrO2表面的自发分散过程,同时形成S-Zr配合物,且随着处理温度的升高,配合物含量逐步增大,573K时达极大值,催化反应活性最大;超过573K时,表面S-Zr配合物逐渐分解,催化反应活性也相应地降低。 相似文献
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Na3+xLuxZr2-xSi2Po12系统的钠快离子导体,由Na2Co3、Lu2O3、ZrO2,SiO2和NH4H2PO4为原料经高温(1000-1200℃)固相反应20-28小时制得。一个具有C2/结构的Nasicon相可在起始组成为x=0-0.8范围内发现,Na3+xLuxZr2-xSi2PO12系统的晶胞体积在X≤0.4时是随X增大而增大,当X〉0.4时则是随X增大而缩小,该系统的起始组成 相似文献
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将Ar(95%)-SH4(2.5%)-D2(2.5%)混合气体等离子体直流正辉区用化学敢相沉淀(PCVD)方法制备α-Si:D/H薄膜,采用双探针技术测量了混合气体等离子体参数,红外照相方法测量了反应腔壁温度,结果表明,基片支架对反应腔的等离子体有干扰,反应腔壁温度分布不均匀;基片温度高的区域薄膜沉淀速度大;加大电源功率可提高薄膜沉淀速率。 相似文献
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讨论环面上U(1)丛的基本群在SU(2)中的表示空间,并计算环面上U(1)丛的平坦SU(2)-连络的Chern-Simons不变量。 相似文献
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本文对用Fe2O(SO4)3·xH2O做催化剂催化酯化反应进行了研究。首次报道了Fe2(SO4)3·xH2O在酯内的残留问题,为使用及改进Fe2(SO4)3·xH2O做为实用催化剂提供帮助。 相似文献