电子回旋波控制托卡马克中电流分布的研究

利用电子回旋波电流驱动定域性好的特点,在数值上研究了电子回旋波对托卡马克中电流分布的控制.结果表明:电子回旋波频率、功率和波发射角度对电流分布起重要作用,优化计算得到了一组波参数.在此波参数下可以有效地驱动等离子体中心电流,并使之满足等离子体平衡电流的分布形式.     

电子回旋波驱动电流的饱和问题

通过对聚变堆级条件下的电子回旋波电流驱动进行数值模拟,研究了不同发射波功率下的电流驱动,结果表明:随着波功率的加大,驱动电流会变大,但驱动电流的变化并不与波功率的增加成正比,当波功率较大时驱动电流会接近饱和.     

中心负剪切模式中的电子回旋波电流驱动

根据中心负剪切模式中的等离子体温度分布和安全因子分布，通过将波迹方程与Fokker—P]anck方程联合进行求解，对中心负剪切模式中的电子回旋波电流驱动进行了计算．结果表明：在中心负剪切运行模式中，驱动电流大有较宽的分布，改变平行折射率可以控制波功率在等离子体中的沉积位置以及驱动电流分布的位置．     

HL-2A装置中的电子回旋波电流驱动

 通过将相对论Fokker Planck方程与波迹方程联合求解,对HL-2A装置中的电子回旋波电流驱动进行了数值模拟,研究了在HL-2A单零偏滤器条件下,中平面弱场侧发射的电子回旋波寻常波电流驱动。结果表明,HL-2A中的电子回旋波电流驱动效率较低并且受温度影响较为明显。     

射频波加入下的Fokker-Planck方程

从一般形式下的Fokker—Planck方程出发,考虑在电子回旋波和低混杂波驱动等离子体电流和加热情况下高速运动粒子的相对论效应,推导了在动量空间下的碰撞通量、电场感应通量、波感应通量等表达式,得到在电子回旋波和低混杂波加入下可直接用于计算机进行求解的Fokker—Planck方程的具体形式,为进一步数值求解Fokker—Planck方程,研究电子回旋波和低混杂波电流驱动和加热提供了条件。     

EAST托卡马克低杂波电流驱动的放电模拟研究

低杂波电流驱动是实现托卡马克稳态运行的主要手段。文章对EAST全超导托卡马克低杂波电流驱动进行了放电模拟研究,着重分析了低杂波驱动电流、波功率沉积、放电过程的伏秒消耗、等离子体电流、位置及等离子体电流剖面和位形演化,模拟结果对今后EAST开展长脉冲稳态放电有参考意义。     

托卡马克极向磁场对电子回旋波吸收的影响

分别给出了托卡马克中磁场分布的表达式,并结合波迹方程与弱相对论情况下的Fokker-Planck方程,对电子回旋波传播与吸收进行了数值模拟。结果表明,极向磁场会对波功率的沉积产生影响,对波迹的影响很小。     

功率步进电动机电流波形的补偿和变换

电流波形是决定功率步进形动机出力和运行特性的关键因素,对于功率步进电动机驱动系统而言,其驱动性能的可控性,就反映在电流波形的可控性上。本文就是从分析绕组中的电流波形对功率步进电动机力矩的影响,提出利用对电流波的波顶进行补偿及控制电流波前后沿的方法,达到对电流波形的控制目的,从而有效地改进了功率步进电动机的运行特性和增加出力;进而导出功率步进电动机电流波的仿射变换及矩频特性的仿射变换原理和控制方法。实际上,对电流波波顶补偿的本质是补偿由于旋电动势而产生的电流波波顶降落,旋转电动势是由于功率步进电动机运行过程中,绕组电感不断变化(即dl dt≠0)而引起的感应电势。测试表明采用了波顶补偿,功率步进电动机带负荷及惯量的实跳能力得到很大提高。上述提出的这些原理和方法已在多年的工业运行中得到证明。     

电子回旋脉塞中相位俘获的数值分析

通过对柱型腔回旋管中电子与电磁波互作用自洽非线性方程组的数值计算,模拟出电子的相轨迹图,分析了与相位俘获有关的饱和现象,指出这种现象主要与波场幅值和互作用长度有关,可通过调整这些参数提高互作用效率。     

强磁场下中子星外壳层的Gamow-Teller跃迁电子俘获

以核素^55Co和^54Mn为例．讨论了强磁场下的中子星外壳层Gamow—Teller跃迁（G-T）电子俘获率．结果表明，对于大部分中子星，表面磁场（10^4～10^9T）对Cr-T跃迁电子俘获率的影响很小，对于超磁中子星．表面磁场（10^9～10^13T）使GT跃迁电子俘获率降低大约2—3个数量级．     

电子束直接熔化技术中的粉末状态分析

在电子束直接熔化金属粉末技术中,为了避免真空室抽气瞬间的气流和电子束对金属粉末的作用力改变粉末的堆放状态,建立了金属粉末受力模型,并对金属粉末的受力进行计算和分析。理论分析与实验结果表明,在抽气口位置粉末容易被气流抽走,工作台不能与抽气口在同一水平高度。0.5mA以上的电子束束流引起的压力会推开气雾化不锈钢粉末,该现象的主要解决途径为降低电子束束流、提高粉末致密度和选用摩擦因数大的金属粉末。此外,利用电子束对金属粉末预热,提高其相互间的粘结力也是解决方法之一。     

铜膜制备过程中辉光等离子体的双探针诊断

采用Langmuir双探针技术对氩气环境下射频磁控溅射铜薄膜过程中产生的辉光等离子体进行了实时诊断.结果表明,在一定的射频功率下,电子温度随气压的增大呈指数衰减的趋势变化;在一定的反应气压下,电子温度和电子密度随射频功率的增大均呈线性增加的趋势.电子的运动速度数量级为106 m/s.比离子的运动速度大3个数量级.     

俄歇电子能谱仪系统及其对铜快离子导体的表面研究

介绍了一台用于表面分析的饿歇电子能谱仪(AES)系统。用该系统研究了铜快离子导体CuI-Cu_2O-MoO_3-P_2O_5在AES的探针电子诱导下铜沉积的规律;并发现在这种样品表面,部分氧在电子轰击过程中被蒸发而减少,总的二次电子发射电流由于铜沉积在样品表面上面随电子轰击时间迅速改变。     

带状电子束发散因素的分析

本文分析了带状电子束发散因素,从而有助于估算电子束流密度,为设计符合要求的、用于大功率二氧化碳激光器的电子枪提供了依据.     

非晶快离子导体AgI-Ag_4P_2O_7中银沉积的电子探针研究

用电子探针显微分析法,研究了AgI-Ag_4P_2O_7非晶态快离子导体中的银沉积问题。给出了在电子束轰击下银计数率随时间变化曲线。开始时银沉积率随时间而增加较快,然后变得缓慢,最后趋于一个极限值。对于晶化后的样品,由于晶界的阻碍作用,向轰击区迁移的Ag~ 离子减少,离子源枯竭快,银计数率达到极限值比未晶化前快。文中同时给出了电子束轰击区的二次电子像、背射电子像。AgLαX-射线扫描像。在银沉积过程中,发现在电子束轰击区周围伴生有枝叶状的脉纹似的析出物,是由于电子束轰击样品产生温升而导致玻璃中银和银的化合物析晶所致。     

日立H-7650透射电镜的快速调整与操作

现代透射电镜是电镜与计算机结合的产物,由于计算机软件程序对电镜操作的控制,使透射电镜运行的复杂过程简单一键开机、光轴调整、样品观察到三个步骤。H-7650的样品台和成像部分,安装了三维马达驱动和CCD,掌握好H-7650的操作要点,该透射电镜的多项机械和电子光学参数调整,都可以在瞬间自动或手动完成。