高电阻率碳化硅陶瓷高效电火花铣削技术研究

采用分组脉冲电源对电阻率为500 Ω·cm的碳化硅陶瓷进行电火花铣削加工, 该方法能够提高加工的稳定性和脉冲利用率, 较大地提高了材料去除率, 最高材料去除率可达72.9 mm³/min. 对高频脉冲宽度、高频脉冲间隔、峰值电压、峰值电流、加工极性、电极转速以及低频脉冲频率等对碳化硅电火花加工工艺效果的影响进行了试验研究与理论分析, 得到了相应的规律关系. 采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)分析、能谱分析(EDS)和硬度测试仪等对电火花铣削加工后碳化硅陶瓷工件表面的微观结构特性进行了测试与分析. 结果表明: 采用钢电极电火花铣削加工后碳化硅陶瓷工件表面的晶粒平均尺寸小于加工前表面的晶粒平均尺寸, 加工后表面含有少量的铁元素, 其硬度高于加工前材料的硬度.     

9Cr18不锈钢的N~+注入表面改性及其物相分析

不同含碳量的碳钢、低合金钢和含碳量低的不锈钢的N~+注入改性及对注入层的物相分析近年来进行了不少工作。内转换电子穆斯堡尔谱(Conversion Electron Mssbauer Spectroscopy,CEMS)是研究铁基合金N~+注入层内氮和铁键合的化学态的有效方法,这是因为仅在     

离子轰击渗氮层的HRTEM研究

由于离子轰击技术的广泛应用,对其渗层的精细结构的研究也日益深入,但是,对于离子轰击渗层中晶体缺陷的形成机制和界面结构尚不清楚.作者发现离子轰击渗氮层中有大量的空位和各种缺陷,本文首次采用高分辨电子显微镜(HRTEM)获得了离子轰击渗氮层各相的高分辨结构图象和界面结构原子象,在原子尺度上揭示了渗层中各相的结构和界面结构.1 实验     

氮化碳薄膜的制备及C-N/CuInSe_2/Si异质结光伏特性

新材料氮化碳薄膜具有超强硬度和独特的物理、化学性质.近年来,引起国内、外学者的重视,1989年,Liu等从理论上预测人工合成具有β-C_3N_4结构的氮化碳材料的可能性,该材料有很大体变模量B,使其具有超强硬度等特性,极有可能在光电、磁、机械工业等领域获重要的应用,但合成工艺上一直没有取得突破,直到1993年,美国哈佛大学Niu等报道采用激光束蒸发石墨加氮离子束源工艺合成出氮化碳薄膜,该方法回避了等离子工艺过程的热动力学平衡及限制,显然只可作为人工合成预测的新材料的原理性方法而无法实用.我们从1988     

SrF_2、CaF_2晶体中Ni离子g值的解释

一、引言 SrF_2和CaF_2是具有相同晶体结构的化合物.其F~(-1)离子形成简立方晶格,二价金属离子占据简立方的体心。不过,其体心被占据和不被占据是彼此相间的。近十年来,关于在SrF_2、CaF_2中渗入稀土金属离子或3d金属离子的研究已成为一个重要课题。而近来,对     

催化法制取超纯气体

新技术革命的浪潮推动着大规模集成电路和超大规模集成电路以及传感器技术的飞速发展,要把一二十万个乃至百万个电子元件或电路集成于一个仅有米粒大小的器件上,谈何容易,因此需要半导体器件和集成电路制备工艺来一个飞跃,而相应的生产过程又离不开各种超纯气体,如超纯氢气(H_2)、氧气(O_2)、氮     

稀土表面处理的空位机制

一、基本事实与模型的建立 很多实验结果表明:渗入稀土后,钢表面晶界与晶内均可检测到有稀土元素的存在。按刚球模型似乎不可能渗入如此多的稀土含量。鉴于微量稀土对钢表面组织与性能的明显改善山,作者认为对钢表面固溶稀土的存在形式及其作用的深入探索很有必要。     

高浓重氮参考样品的研制

在氮同位素分离和氮-15标记物质的制备和应用中,都需要高浓氮-15参考样品或称标准物质,用来标定分析仪器。本工作通过化学分析、样品转化和质谱测定,制得一种含98.35±0.02原子％~(15)N标准样品,计有20克硫酸铵,可向国内提供,以标定质谱计或发射光谱仪,并能与含天然丰度氮-15样品配制成其它~(15)N浓度的标准样品。     

Fe-C(H)系高温高压合成金刚石的研究及意义

Fe-C(H)系高温高压(HPHT)合成金刚石的形态、微形貌、微成分及微结构的研究表明, 所合成金刚石大多为八面体, 且自中心→边缘以片层式生长方式为主; HPHT合成金刚石粒度小, 极有可能与其形成仅经历了早期成核-长大阶段有关, 中后期会因为所合成金刚石小晶粒表面能的差异而聚结, 致使长大受限; Fe-C(H)系HPHT合成金刚石中聚合态氮的出现, 与氢可以有效降低单替代氮向聚合态氮转变的活化能有关; 目前, 通过氮聚合转变的计算获得天然金刚石的形成时间达到若干亿年, 这一问题值得商榷; 在充分关注氢的影响基础上, 从 HPHT 热力学的角度围绕表面能对金刚石长大的影响进行研究, 不但有利于解决金刚石HPHT合成中存在的问题, 而且可以在HPHT合成金刚石与天然金刚石形成的解释中建立桥梁.     

强化采油驱动问题的特征混合元及其最佳阶L~2误差估计

本文研究二维、多组分、多相、不可压缩混合流体组成的注化学溶液(如表面活性剂、醇、聚合物)强化采油数值模拟.油田经注水开采后,油藏中仍残留大量的原油,在注入液中加入某些化学添加剂则可大大改善注入液的驱洗油能力,大幅度提高采收率.其数学模型是一组非线性偏微分方程组的初、边值问题.国内外已有工程软件应用于试生产,关于简化模型我     

氮碳薄膜沉积过程的光谱诊断分析

等离子体发射光谱(OES)常用于等离子体薄膜沉积过程中气相物种及化学反应过程的诊断,它有助于对薄膜生长机理、沉积条件、薄膜结构及物性之间关系的了解.到目前为止,仍未见到有关氮碳薄膜反应溅射沉积过程的光谱诊断工作的报道,虽然已对薄膜生长的前驱物,如CN自由基、氮原子等气相物种进行了推测,但仍然缺乏有关的实验结果.从已报道的文献看,氮碳薄膜在物性上存在差异,如纳米显微力学硬度有的高达60GaP,有的只有几个GaP,类似于类金刚石薄膜其物性与碳的sp~3/sp~2键比例密切相关,氮碳薄膜的物性同样也与其多种价键结构类型相关,只是其类型相对要复杂的多,并且可以肯定地说,受沉积参数的影响.因此,光谱诊断实验和薄膜物性测量相结合有助于了解沉积参数与氮碳薄膜中各种价     

第一个含PyS配体的三核钼的络合物[Mo_3(CO)_6(μ-PyS)_2(μ_3-PyS)_2]的合成和晶体结构

α-巯基吡啶(PySH)的脱质子衍生物硫代吡啶(PyS)在与金属作用时能利用其环外的硫原子和环上的氮原子分别或同时与单个或多个金属配位形成各种结构非常不同的配位模式。作者最近报道了用[Mo(CO)_3     

类水稻叶多尺度表面构筑与各向疏水性

采用高速电火花线切割加工方法与电刷镀工艺结合在铝合金表面构筑了类水稻叶多尺度层级结构表面.利用扫描电子显微镜(SEM)、激光共聚焦显微镜(LSCM)、X射线衍射仪(XRD)和接触角测量仪表征表面的形貌结构、物相组成和润湿特性.结果表明,电刷镀获得的双尺度(微-纳米)微观结构对表面疏水性起关键作用,而高速电火花线切割加工获得的规则排列亚毫米级槽棱结构进一步放大了其平槽方向表面的疏水性能,使其未经任何化学修饰即获得优异的超疏水特性,接触角可以达到151°,且展现平槽和垂槽方向不同的疏水特性.这一研究将对各向异性功能材料结合超疏水材料的应用起到一定的指导意义.     

弹性软模决定材料硬度

利用第一原理计算研究了共价晶体和离子晶体的单晶弹性常数及机械硬度.结果表明,对材料硬度起主导作用的是最软的弹性形变模式,而非普遍认为弹性模量的平均值.这体现了力学稳定性及各向异性在决定材料硬度时的重要作用.以碳化钨为例展示了上述理念在材料设计中的应用.通过氮或铼的合金化调节费米能级,从而强化最软的弹性模式,可以进一步提高这种硬质材料的硬度.     

双(1-二乙膦基-2-二苯膦基乙烷)双(分子氮)钼(0)[Mo(N_2)_2(Et_2PCH_2CH_2PPh_2)_2]的合成

分子氮络合物的研究,是近年来极为活跃的一个领域,Chatt等于1975年在室温下成功地将分子氮络合物中的氮分子加质子转变成氨,证明了配位于过渡金属的氮分子的确能被活化并接受质子而生成氨.他们对分子氮络合物的加质子反应进行了详细研究后发现:只有单膦配位的分子氮络合物,如顺式[M(N_2)_2(PMe_2Ph)_4]及反式[M(N_2)_2(PMePh_2)_4](M=Mo或W),在室温下能和硫酸-甲醇作用而生成氨;具有双膦配位的分子氮络合物反式[M(N_2)_2(Ph_2PCH_2CH_2PPh_2)_2](M=Mo或W)则在质子酸作用下只能加质子而得到一系列具有     

表面引发氮氧自由基聚合反应制备聚苯乙烯/SiO2纳米复合材料

将过氧基团锚固于纳米SiO₂粒子表面, 进而通过表面原位引发苯乙烯聚合制备了聚苯乙烯(PS)/SiO₂纳米复合粒子. 纳米SiO₂经亚硫酰氯(SOCl₂)处理, 再与叔丁基过氧化氢(TBHP)反应锚固形成过氧引发基团, 通过表面引发氮氧自由基聚合反应引发苯乙烯聚合, 制备了纳米氧化硅表面接枝聚苯乙烯/SiO₂ (PS-g-Silica)纳米复合材料, 利用红外光谱、透射电子显微镜、原子力显微镜、热重分析等测试方法对制备的纳米复合粒子进行了表征与分析, 结果表明表面引发氮氧自由基聚合反应可以制备良好的PS/SiO₂纳米复合材料.     

第一个含PyS配体的三核钼的络合物[Mo_3(CO)_6(μ-PyS)_2(μ_3-PyS)_2]的合成和晶体结构

<正> α-巯基吡啶(PySH)的脱质子衍生物硫代吡啶(PyS)在与金属作用时能利用其环外的硫原子和环上的氮原子分别或同时与单个或多个金属配位形成各种结构非常不同的配位模式。作者最近报道了用[Mo(CO)_3     

化学镀钴基垂直磁化膜的磁力显微镜研究

垂直磁记录是一种高密度的磁记录方式.从实用的角度出发,逢坂弥哲在1981年提出了用化学镀方法制备CoNiMnP垂直磁化膜;薄膜的磁结构对其磁记录性能具有直接影响.磁力显微镜(MFM)是扫描探针显微术(SPM)的一种,通过控制磁性针尖在样品表面的扫描可获得表面磁场信息,它被较多地应用于研究磁头和磁盘或其他存储介质上的数据位结构,例如数据位的大小和形状、介质噪音、重写和材料承受高密度存储的能力,获得有关磁头性能及存储介质质量的的信息,分辨率优于25nm.MFM的一个主要优点是不需要特殊的样品制备技术,甚至样品表面可以裹镀非磁性薄层.我们根据多年研究制定的工艺参数,镀制了几种不同的CoNiMnP膜,对其形貌、磁性能等作了观察和分析,并用MFM观察和分析了这     

负载型草酸铁(Ⅲ)的光分解研究

草酸铁(Ⅲ)(固相或溶液体系)的光化学分解的研究已有一些工作,但负载型草酸铁(Ⅲ)的光分解研究尚未见报道。吸附在载体表面上的化合物的性质与化合物本体的性质有很大的区别,载体表面化合物的研究对考察载体的作用,揭示其表面性质有重要的意义。本文用穆斯堡尔谱和气相色谱研究了活性炭、硅胶、γ-Al_2O_3和氧化镁负载的草酸铁(Ⅲ)的光化学分解。     

激光修饰金刚石膜的表面抛光技术

化学气相沉积(CVD)金刚石为多晶材料,其表面多为杂乱分布晶粒的堆积,尤其是金刚石厚膜,其表面堆积的大晶粒显露出明显的棱角,表面相当粗糙.而金刚石膜在电子学等领域的应用要求其表面具有较好的光洁度,以便形成良好的接触表面.同时受到合成工艺条件的影响,使生长的膜在厚度的一致性方面很差,特别是用灯丝热解CVD(HFCVD)和电子增强CVD(EACVD)方法合成的金刚石膜,一般膜厚度的不均匀性在平均厚度的±20%范围内变化(表面积为1cm×1cm).这种表面粗糙厚度不一致的膜不能直接得到应用,否则由于接触和厚度的一致性差而造成的缺陷将完全掩盖金刚石膜在电子学等领域的应用优势,其效果可能比不用金刚石膜还差.因此对金刚石膜表面必须进行抛光以获得较好的光洁度,同时要解决厚度一致性差的问题.