电解抛光技术在电子背散射衍射分析中的应用

电解抛光技术是一种简便易行的表面加工技术,获得试样的表面粗糙度低,光亮度高,常用于电子背散射衍射技术测试试样的最终处理。文章在对电解抛光原理分析和加工工艺的选择和调整的基础上,分别对TRIP钢和钛合金试样进行电解抛光工艺,试样表面满足电子背散射衍射技术的要求。文章对相关的试样制备具有很好的借鉴作用。     

电子背散射衍射分析技术——一种新型的晶体材料研究方法

介绍了一种新型的晶体材料研究方法——电子背散射衍射分析技术.简介了电子背散射衍射分析的发展,阐明了电子背散射衍射产生的机制和电子背散射衍射分析的基本原理。说明了电子背散射衍射分析系统的性能特点,概述了电子背散射衍射分析的应用.     

基于EBSD系统的工业纯铁微观结构观测方法

简述了电子背散射衍射(EBSD)的技术原理和试样的制备工艺,简要说明了工业纯铁EBSD试样的制备过程和测试参数选择等。利用EBSD技术分析表征了未发生塑性变形的工业纯铁、发生塑性变形的工业纯铁以及塑性变形后回复再结晶的工业纯铁。通过数据处理分析,研究讨论了三种不同处理条件下的工业纯铁的组织变化规律,包括晶粒尺寸、晶粒取向、晶粒取向差和晶界特征等信息。通过实例进一步表明EBSD是材料微观组织结构表征中一种非常有效的分析手段。     

电铸超细晶材料的微观组织研究

应用电铸法制备超细晶粒金属Cu ,对电铸工艺参数与形成的材料的微观组织的关系进行了探讨。运用扫描电子显微镜 (SEM )和电子背散射衍射 (EBSP)等实验手段 ,对电铸Cu的显微组织及晶粒的生长方向进行了系统研究。研究表明 :电铸Cu材料晶粒十分细小 (晶粒尺寸在 1μm 3μm范围 ) ,且内部晶粒的晶体取向沿材料的法线方向存在择优取向 ,即有丝织构的存在 ;同时 ,通过对电子背散射所获得的极图与反极图进行分析可知 ,丝织构受电铸液成份的影响     

铅合金阳极电解二氧化锰的研究(Ⅰ)——电解条件的确定及成品的理化性能

作者用正交试验法探索铅合金阳极电解制备二氧化锰电流效率较高的电解条件。然后按这些条件进行电解,获得一定量的成品。对产品进行放电试验,再根据放电性能提出用铅合金阳极电解制备二氧化锰的较优惠工艺条件。文中列出试样及对照样品的理化特性数据。     

医用镍钛合金的电解抛光进展

随着市场对金属材料的粗糙度、光泽度以及耐腐蚀性能的要求逐渐提高,电解抛光技术作为精密表面加工技术,由于具有效率高、处理试样表面光滑、能够保持材料原有性能等特点,在表面处理领域得以迅速发展.介绍了目前业界比较流行的三类电解抛光液体系：酸-酸体系、酸-醇体系和醇-盐体系以及其主要成分,分析了在不同电解抛光液体系成分下电解抛光液浓度、抛光温度和抛光电压等条件的改变对抛光效果（粗糙度、耐腐蚀）以及抛光效率的影响,进一步比较了不同电解抛光液体系的优缺点,并综述了电解抛光原理机制及其技术的新发展.     

热处理工艺对NM500耐磨钢组织和力学性能的影响

通过扫描电子显微镜,电子背散射衍射、透射电子显微镜以及力学分析等方法研究了在线淬火–回火(DQ-T)和再加热淬火–回火(RQ-T)对NM500耐磨钢组织和性能的影响,并讨论了不同热处理工艺的强化机理.发现试样经过不同的热处理工艺后在较高的强度下均能保持良好的韧性.由于位错密度的增加和更细的马氏体板条束尺寸,DQ-T试样的抗拉强度和硬度明显高于RQ-T试样,但是强度的增加并没有造成韧性和塑性急剧的降低.再加热淬火温度对RQ-T试样的强度影响较大,当淬火温度较低时,马氏体板条束得到细化,这种细晶强化作用有效地提高了RQ-T试样的强度.     

现场金相检测中电解抛光技术的应用探索

为了改善工件表面的抛光效果,解决传统机械抛光对抛光工件几何形状的限制,提高实际工程中对工件的抛光效率,本文介绍了一种全新的抛光工艺--电解抛光。电解抛光工艺与工件的材质、电流大小以及电解液的温度等参数密切相关,合理的控制这些工艺参数才能达到理想的抛光效果。本文主要探究电流密度、抛光温度以及阴阳极间的距离等因素对抛光效果的影响。     

不锈钢微结构电解抛光工艺研究与试验

为提高304不锈钢微结构的电解抛光加工质量,开展了不锈钢的电解抛光工艺分析与试验.首先根据不锈钢在电解抛光液中的极化曲线检测结果分析,选定抛光的电流密度为2.2 A/dm2.其次,设计正交因素分析法试验,研究不锈钢在不同电流密度、温度、抛光时间等工艺参数下电解抛光后的表面质量.试验结果表明:随着电流密度增加,表面粗糙度呈现先减小后增大的趋势;温度及抛光时间对表面粗糙度的影响规律与电流密度类似.在影响表面粗糙度的三个因素中,电流密度影响最大,温度次之,抛光时间最弱.最后,利用最佳电解抛光参数组合,加工出高表面质量的不锈钢微结构.     

基于PLC的齿轮电解抛光控制系统的设计

齿轮电解抛光控制系统对加工质量等影响重大,为设计实现电解抛光高精度控制系统,基于电解抛光加工原理、PLC控制和界面组态技术,设计实现一套齿轮电解抛光控制系统。通过对工艺的分析与闭环控制思想设计PLC程运行流程,通过组态软件设计控制系统的人机交互界面。选择西门子S7-1200 PLC控制器和交流伺服电机主轴控制策略,通过温度控制仪和p H仪等辅助控制设备对温度和p H值进行闭环控制。设计短路检测电路,保护控制系统器件。调试验证系统的运行稳可靠,达到很好的抛光效果,同时该控制系统也可用于其它结构件的电解抛光加工。     

用湿化学法制备电子材料用ZnO粉未

本文研究用湿化学法－ＮＨ３法改性ＺｎＯ粉末使之用于电子材料。用Ｘ－ｒａｙ衍射分析和ＳＥＭ分析方法确定了焙烧温度，球磨时间等主要工艺参数；用ＳＥＭ分析，ＢＥＴ分析，粒度与粒度分布分析方法研究了改性前后ＺｎＯ粉末的赋存状态。压敏电阻验证试验结果表明，改性后的ＺｎＯ粉末可以制备出小电流性能很好的ＺｎＯ压敏电阻。     

用湿化学法制备电子材料用ZnO粉末

本文研究用湿化学法——ＮＨ＿３法改性ＺｎＯ粉末使之用于电子材料．用ｘ－ｒａｙ衍射分析和ＳＥＭ分析方法确定了焙烧温度、球磨时间等主要工艺参数；用ＳＥＭ分析、ＢＥＴ分析、粒度与粒度分布分析方法研究了改性前后ＺｎＯ粉末的赋存状态．压敏电阻验证试验结果表明，改性后的ＺｎＯ粉末可以制备出小电流性能很好的ＺｎＯ压敏电阻．     

爆炸喷涂涂层厚度及其过程控制对涂层性能的影响

本文介绍了爆炸喷涂工艺方法及其应用范围。优选了北京钢冶研究总院制备的碳化铬／镍铬粉末并对粉末进行测试研究,采用爆炸喷涂工艺进行碳化铬／镍铬耐磨涂层试验,通过调整爆炸喷涂涂层厚度及喷涂次数,并对涂层结合强度、热震、金相组织等性能进行检测及分析,确定爆炸喷涂工艺过程控制对涂层性能的影响机制。     

制备12—铈钼杂多酸的一种新方法

本文提出了电解酸化制备12-铈钼杂多酸一种新方法。X-射线粉末衍射图,红外光谱,紫外吸收光谱等与文献上按离子交换法制得的12-铈钼杂多酸的数据是一致的,证明是同一物质,但此方法较离子交换法生产周期短,简便,适于多量制备。     

控轧控冷TRIP钢的微观相组成及其与力学性能的关系

采用电子背散射衍射技术等实验方法,研究了控轧控冷工艺制备的铌钒微合金化C-Mn-Si系热轧TRIP钢的显微组织及相组成,并分析了与其对应的力学性能．奥氏体轧制过程中的热变形及随后的冷却工艺对最终各相组织的形貌、大小和分布都有直接影响,并决定TRIP钢最终的力学性能．对TRIP钢卷取温度的模拟结果显示,与450和350℃模拟卷取温度相比,400℃模拟卷取温度能使该钢获得更好的综合力学性能．     

复合涂层粉料制备莫来石陶瓷的工艺研究

莫来石陶瓷是一种具有优良特性的陶瓷 ,在结构、电子、光学领域具有广泛的应用前景。利用 TEOS的水解在亚微米级氧化铝颗粒表面涂上无定型 Si O2 ,制得莫来石前驱体——复合涂层粉料。并对制备莫来石瓷的成型工艺及制备参数进行了研究。采用 90 0 MPa干压成型 ,1 60 0℃保温 2 h常压烧结制备出直径 1 3mm烧成体 ,相对密度为 99.2 4 % ,几乎完全致密 ;根据 XRD衍射图谱 ,烧成体试样由纯莫来石相组成 ;根据 SEM分析 ,试样显微结构致密、均匀     

喷丸和电解抛光对齿轮弯曲疲劳强度的影响

为提高渐开线齿轮齿根承载能力,研究了喷丸强度、喷丸覆盖率、电解抛光对齿根圆角表面完整性和齿轮弯曲疲劳极限的影响规律.依据啮合原理和APDL语言,对齿条型刀具展成的齿轮进行了参数化有限元建模,应用ANSYS/FE-SAFE软件对齿轮进行弯曲疲劳强度的仿真计算,并通过单齿弯曲疲劳试验进行了验证.结果表明:通过软件仿真的渗碳淬火齿轮弯曲疲劳极限载荷与试验结果相比偏大；对齿轮齿根进行喷丸,并非喷丸强度和喷丸覆盖率越高越好,而是存在最佳的喷丸工艺参数；对齿轮喷丸后再进行电解抛光,可以改善表面完整性,进一步提高齿轮的弯曲疲劳强度,但强化效果受初始喷丸工艺参数的影响.     

合金粉末的制备方法

本文综述了合金粉末的制备方法,即雾化法,电解沉积法,化学还原法和机械粉碎法。列举了各种制备方法的特点包括可以制备的合金或金属单质粉末,粉末颗粒的形状,粒度以及优缺点。     

非晶态Co-Si-B合金纳米粉末的制备及表征

用化学还原法制备Co-Si-B粉末,采用X射线衍射(XRD)、差示扫描量热分析(DSC)、透射电镜(TEM)及X 射线光电子能谱(XPS)对粉末试样进行表征,结果证实所制备的粉末为非晶态纳米合金粉末.粉末组元除了以合金形态存在外,还有一部分是以氧化态存在的.Co元素的氧化仅仅发生在粉末表面,而且氧化比较轻微.粉末颗粒表面以下不同距离处的合金态B数量与氧化态B数量之比几乎为常数,约为1.2.合金态的Si在总Si量中的相对含量随距颗粒表面距离的增加而提高.     

MnFeP0.6 Si0.25 Ge0.15粉末样品的制备及X射线衍射分析

使用机械合成法制备了MnFeP0.6Si0.25Ge0.15粉末样品,研究了试样颗粒大小和半峰宽随球磨时间的变化关系.X射线粉末衍射分析表明,该样品退火后为Fe2P结构,样品密度ρ=6.655 g/cm3,颗粒大小D=43.2 nm,晶格畸变量Δd/d=0.053 818,表明在球磨过程中存在一定的晶格畸变.球磨100 h后,试样颗粒大小达到纳米量级.