高压气体放电灯并联补偿电容的量值推导和应用

采用电感型镇流器的高压气体放电灯并联补偿电容的计算方法、经验公式和应用。     

太阳能高压气体放电灯智能控制系统

为了提高太阳能高压气体放电灯照明效率,延长照明时间,实现智能充放电控制、智能照明控制,提出一种新型太阳能高压气体放电灯照明控制系统。系统充电控制策略实现了最大功率点跟踪技术和蓄电池三段式精确充电,照明控制策略采用变开关频率控制和恒功率控制。硬件结构采用单级式逆变结构,减少了硬件成本开销,提高了能量转化率。实验结果表明:该系统延长了蓄电池寿命及点灯时间,提高了电灯效率,效率达90%以上,使得太阳能高压钠灯照明系统智能、高效、稳定的运行。     

一种高气压金属卤化物气体放电灯用新型电源的原理研究

提出一种用于高气压金属卤化物气体放电灯供电电源的新型主电路拓扑,不需设置专门提供起燃脉冲的高压脉冲发生器,只须改变电路工作频率,即能满足这类灯在起燃、负阻运行、稳态运行各阶段对电源不同输出特性的要求,电路结构简单,装置体积小,在负载稳定运动后,电源输出特性近似电流源,开头器件电流幅值较低,并可实现零电流换相,讨论了这种电源的工作原理和系统结构,并给出了模拟负载的PSPICE仿真和实验室试验结果,表明其完全符合电路的工作原理和设计思想。     

基于AVR单片机控制的半导体激光电源

激光电源系统以ATmega16为微控制器,基本功能有：查询、显示、稳光、恒温。半导体激光器激光输出功率受外界温度变化的影响极其严重,最大缺点就是易损坏。因此制作一款半导体激光器的同时,也应设计出配套的性能可靠的激光电源。本系统设计精巧、使用安全、整机性能可靠,可在同类型激光器的控制及发光二极管的控制中推广使用。     

以高压气体为动力的水压施加装置与控制系统设计

稳定水压供给设备是岩石力学水力耦合试验的关键装置,以高压气体为动力设计的水压施加装置具有压力稳定、能耗低的优点。本文以PC为上位机,西门子S7-1200为下位机设计了一种以高压气体为动力的压力控制系统。系统中PLC采集数据与上位机目标压力值实时交互,通过自动控制电磁阀开闭实现高压气体输入量的动态调控,待系统内水压接近设定目标值后,再由控制系统启动电动试压泵精准调压至设定目标值。     

脱除SO2和NOx用高压脉冲电源特性的研究

介绍了一种脱除烟气中ＳＯ＿２和ＮＯ＿ｘ用高压脉冲电源的电参数特性，形成脉冲的电参数为上升时间３０ｎｓ，脉宽３３０ｎｓ．其特点是自然形成基压．讨论了电源的脉冲成形电容Ｃ＿ｉ和负载的匹配关系，给出了最佳匹配电容的经验公式．比较了自带基压电源和无基压情况下对脱除率的影响，该电源具有明显的优点．该电源的效率大于７０％，可较大幅度提高能量利用率，并使脱除效果显著提高．     

中频电源并联逆变控制规律的研究

将积分规律引进逆变桥控制，改善并联型中频电源的起动和负载适应能力，给出了积分算法与常用定时调频法的仿真结果和新算法的单片微机实现。     

单片机控制的大功率IGBT逆变弧焊电源

介绍一种单片机控制的大功率IGBT逆变弧焊电源的基本结构和工作原理，其控制电路采用单片机，具有何种小、重量轻、功率大、智能度高的特点，给出了大功率IGBT逆变弧焊电源的软硬件部分及IGBT驱动电路。     

高精度高压脉冲电源原理与实验研究

在脉冲电场非热效应应用中，高精度高压脉冲电源是关键技术之一。利用大功率开关器件(IGBT)配合脉冲升压变压器可以得到高精度高压脉冲电源。该电源通过复杂可编程逻辑器件(CPLD)来产生脉冲触发信号，经大功率IGBT专用驱动模块驱动，可以实现脉冲电压在0～10kV，脉冲频率在10Hz～5kHz，脉冲宽度在2～30μs以及脉冲个数在1～100内的精确控制，并可实现脉冲宽度以1μs为步长增减，可以满足脉冲电场非热效应应用的参数要求。     

基于电源电流控制的三相SAPF控制与设计

文章全面分析了基于电源电流控制的三相并联型有源电力滤波器SAPF的控制方案,建立了基于同步旋转d-q坐标系的典型双环控制结构.在电流控制中,针对负载谐波性质对电流补偿特性的影响采用了在负载侧串入电感以延缓这种电流变化率,从而降低电流内环控制难度的方法;针对传统PI调节器的不足采用了电流预测控制来改善系统的动态响应.控制系统采用根轨迹和阶跃响应相结合的系统综合方法进行了设计.最后,建立了三相SAPF的实验平台,实验结果验证了上述方案的正确性和有效性.     

一款基于MCU控制的高性能汽车HID灯电子镇流器

设计了一款基于单片机（MCU）控制的高性能汽车高强度气体放电灯(HID)灯电子镇流器。利用MCU实 现HID灯分段启动控制、恒电流控制、恒功率控制以及各种异常状态保护$采用软开关变频控制方案使反激式变 换器在额定输入工作电压下,始终处于临界导通状态,达到减小噪声和损耗并提高效率的目的。     

高压钠灯电压降低时的光电参数及节能应用

高压钠灯是城镇道路照明的主要电光源之一。从高压钠灯电压变化时光电参数的测定入手，计算了不同电源电压下灯泡的耗电情况，提出了道路照明节电的具体方案。     

低压无极灯汞蒸气压控制

汞蒸气压控制是无极灯的关键技术之一 ,通过对纯汞和汞齐的性能进行分析 ,指出汞齐的成分配比、用量和安放位置的确定是控制汞蒸气压达到最佳值的有效途径 .     

长深气藏天然气高压物性和相态特征研究

长深气藏天然气富含CO2,尚未常规方法计算其高压物性参数及其相态特征分析.针对这一特殊性,采用室内PVT实验进行测定与分析.研究表明,对于含CO2天然气,其压缩因子、密度、体积系数、等温压缩系数在低压(20 MPa以下)时表现出很强的压力敏感性,而水蒸气含量则表现相反,绝对黏度则始终保持较强的压力敏感性;压缩因子、密度、绝对黏度、水蒸气含量随着CO2含量增大而变化幅度较大,对CO2的敏感性较强,而体积系数对CO2的敏感性较弱,等温压缩系数对CO2则无敏感性.长深气藏的原始地层温度(140℃)和井口温度(40℃)均在气液两相区之外,可以判断在开发过程(从气层到井口分离器)中流体不穿过两相区,表明该气藏为干气气藏.     

放电灯中汞的危害及降低汞污染的措施

阐述放电灯利用汞作发光物质和缓冲气体时对环境、人体带来的危害,从灯的制造、汞的回收处理及开发、推广无汞灯等方面提出降低汞污染的具体措施。     

基于线电极电火花展成加工的放电特征研究

针对基于线电极展成加工的放电间隙进行了理论分析,提出了一些新的研究观点。研究分析表明,其放电间隙对制定伺服控制进给策略至关重要。     

快走丝电火花线切割加工试验研究

结合青海大学基础工业训练中心的DK7740型电火花线切割机床,研究了脉冲宽度和峰值电流对线切割加工效率和表面质量的影响,为正确选择电参数提供了参考。     

充Kr－Ar－Ne对紧凑型荧光灯性能的影响

在不改变制灯常规工艺前提下，通过充入不同比例的混合惰性气体，以改善紧凑型荧光灯的光电性能．从理论上近似地计算了低压气体放电中的弹性碰撞损耗、电离损耗和辐射损耗．实验结果显示：当混合气体中Ｎｅ比例上升时，灯的功率和总光通量提高，工作电压上升５％～３０％，但光效下降；当混合气体中Ｋｒ比例上升时，灯的功率和总光通量下降５％～１０％，工作电压也下降．最后，对实验结果作了分析．     

植物绝缘油击穿放电故障特征气体分析

对山茶籽植物绝缘油和矿物绝缘油两种变压器用油进行击穿放电故障试验,采用油中溶解气体分析方法测量并分析两种绝缘油放电故障所产生的油中溶解气体,分析并对比两种绝缘油纯油及油纸击穿产生气体的种类及百分含量。结果表明:两种绝缘油在击穿故障后均产生H_2、CH_4、C_2H_4、C_2H_6、C_2H_2、CO及CO_2这7种特征气体;随击穿故障次数的增加,植物绝缘油中溶解气体总量呈增加趋势,并且山茶籽植物绝缘油中CO和CO_2溶解气体含量大于矿物绝缘油;在两种绝缘油中,C_2H_2的含量在总烃中始终是最高的,这说明与矿物油相同,C_2H_2是山茶籽植物绝缘油电击穿故障的主要特征气体。     

The minimization of non-equilibrium plasma source at high pressure

The density of plasma produced by atmospheric non-equilibrium plasma source is the function of energy dissipation rate in ionization electric field and gas particles momentum. The experiment shows that the plasma density highly rises with the increasing of energy dissipation rate and gas particles momentum. When the energy dissipation rate of activation field is 2.18 Wh/m^3 and the average gas particles momentum is 109×10^-22 g· m/s, the air throughput of plasma source whose volume is only 2.5 cm^3 can be up to 12 m^3/h and the density of plasma can be up to 10^10 cm^-3. The research can develop a method of producing minitype plasma source which is low energy consumption but high ion concentration used for chemical industry, environmental engineering and military.