三乙胺在三氟甲磺酸三甲硅酯反应中的作用

通过异丁酸甲酯（3）和三氟甲磷酸三甲硅酯（1）／三乙胺（2a）的反应，1.1—=[（2-甲氧基）乙氨基]乙烯（6）和1在不同种类叔胺碱存在下的反应研究，探讨了上述反应的可能机理，指出在用1进行的三甲硅烷基化反应中，2a是最好的助剂碱。对用1／2a进行三甲硅烷基化反应的其它条件也进行了研究。     

利用硅烷基化反应合成脱氢氨基酸

N-三氟乙酰甘氨酸在三乙胺存在下与三氟甲磺酸三甲基硅烷酯发生甲基硅烷基化反应生成2-(N-三氟乙酰-N-三甲基硅烷基)氨基-1，1-二(三甲基硅烷氧基)乙烯．醛与所生成的取代乙烯发生加成反应生成2-(N-三氟乙酰-N-三甲基硅烷基)氨基-3-三甲基硅烷氧基-羧酸三甲基硅烷酯，再经α、β消除反应就得到脱氢氨基酸．用这一新方法合成的a、8-脱氢氨基酸可用于合成新型的多肽和肽生物碱．     

甲基三甲氧基硅烷的制备

介绍了由甲基三氯硅烷与甲醇进行酯化反应制备一种硅烷偶联剂甲基三甲氧基硅烷的方法。确定了合成工艺,同时研究了对合成有影响的因素。     

双（N，N-二乙基）胺基甲基三氟丙基硅烷合成研究

以甲基三氟丙基二氯硅烷和二乙胺为原料,低温反应合成了含氟硅聚酰亚胺材料的重要中间体双（N,N-二乙基）胺基甲基三氟丙基硅烷,利用红外光谱、核磁共振及质谱等手段对产物结构进行了表征和确认．利用正交实验考察了反应温度、反应时间、原料摩尔比以及溶剂组成等因素对目标产物收率的影响,基于方差分析确定出最佳反应条件为：反应时间6h,反应温度-10℃,二乙胺与甲基三氟丙基二氯硅烷的比例为6：1,溶剂为乙醚与二氯甲烷的等体积混合物．正交实验结果经重复实验得到验证．     

三甲基硅烷化—气相色谱法研究水玻璃老化机制

本文采用三甲基硅烷化－气相色谱法（简称ＴＭＳ－ＧＣ法）,研究了水玻璃老机制,结果表明：由于硅酸聚合性质,水玻璃中存在着单硅,二硅,三硅等聚硅酸的混合物,在放置过程中,单硅酸含量逐渐增加,高聚硅酸含量也相应逐渐增加,即发生,“两级分化”现象;水玻璃经改性后,低聚硅酸含量提高,而高聚硅酸含量降低;水玻璃经回流冷凝后,组成有向原来方向转化的趋势。     

三甲基氰基硅烷促进N-氟代双苯磺酰亚胺与硫醚的胺化反应

饱和碳上的C—H直接胺化是一类较难实现的反应,有相关研究证明N-氟代双苯磺酰亚胺(NFSI)在相关金属催化剂或者无催化剂存在下可以实现对饱和碳的胺化,而且利用N-氟代双苯磺酰亚胺(NFSI)与甲基芳基硫醚反应,能够得到甲基胺化产物,但产率较低(20％～56％).为了在此基础上进一步提高胺化的效率,我们开展一系列的研究后...     

基团转移聚合新引发剂：苄硫基三甲基硅烷

报道一种基团转移聚合新引发剂－苄硫基三甲基硅烷，并对其制备方法进行改进，实现了一步合成且得率较高。新引发剂贮存稳定性好且有较高的引发活性，能引发丙烯腈暴聚，以也使丙烯酸酯类单体在高得率下快速聚合，但引发甲基丙烯酸甲酯聚合速度较慢。率也较低，还用新引发剂合成了二元嵌段共聚物及Ａ－Ｂ－Ｃ型三元嵌段共聚物。探讨了新发剂引发各类单体基团转移聚合的机理。并将新引发剂与最常用基团转移聚合引发剂进行活性比较。     

（叔丁基环戊二烯基）三甲基硅烷合成新方法

６,６－二甲基富烯能够与甲基锂进行环外双键的加成反应,形成的叔丁基环戊二烯基锂可进一步与三甲基氯硅烷反应,合成了（叔丁基环戊二烯基）三甲基硅烷产物,收率为７２．２％,提供了一条合成新方法,随后进行了产物的结构测定,并讨论了主要异构体。     

低然度三甲基丙烯酸三羟甲基丙烷酯的合成

采用在反应过程中加入脱色剂的新的直接酯化法合成了三甲基丙烯酸三羟甲基丙互。产品色度≤３５ＡＰＨＡ，产品收率及纯度分别为９１．９％和９６．４９％。考察了原料（三羟甲基丙烷）的纯度、反应温度等对产品色度的影响，研究了不同脱色剂对产品脱色效果。并对产品进行了ＧＣ、ＩＲ、＾１ＨＮＭＲ、ＭＳ分析。     

一类新的三氟甲基酮化合物的合成

通过锂试剂的方法，合成了三氟甲基苯基环已基酮化合物，反应产率在到６０％。     

苯基甲基二烷氧基硅烷的合成研究进展

苯基甲基二烷氧基硅烷是一种重要的有机硅化学工业单体,可用来合成多种性能优良且具有重要用途的聚硅氧烷材料。本文综述了已有的合成苯基甲基二烷氧基硅烷,特别是苯基甲基二甲氧基硅烷和苯基甲基二乙氧基硅烷的方法,并对这些方法的优缺点进行了讨论。     

基团电负性与三甲基硅烷衍生物的标准生成热

利用前文建立的基因电负性,通过分析ΔΔfH~0(MeSiX/CH_3X)与基团电负性XG的关系,本文建立了两个计算ΔfH(Me_3SiX)的公式: ΔfH~0(Me_3SiX)=ΔfH~0(CH_3X)-15.18X_G-19.70 ΔfH~0(Me_3SiX)=ΔfH~0(HX)+(6.05p-15.18)X_G-16.08p-19.70 式中,X_G为基团X的电负性;X=F.0H、NH_2、Cl Br、SH.I.ΔfH~0(Me_3SiX)和ΔfH~0(HX)分别为Me_3SiX、CH_3X和HX的标准生成热,P为分子HX中氢原子的个数。两式计算的平均偏差分别为0.99 Kcal/mol和0.84Kcal/mol。同时,导出了一个计算Me_3Si—X键的键裂能的方法: DH(Me_3Si—X)=DH(CH_2—X)+15.18X_G-16.2, X=F、OH、NH_2、Cl、Br、SH、上式计算的平均偏差为0.99Kcal/mol。     

2,4—二氯碱氟甲基苯的合成

论述了２，４－二氯三氟甲基苯的合成方法，并讨论了温度，压力和催化剂用量对收率的影响，以及氟化设备的选型即雷诺准数的确定。     

2,4—二氯—3,5—二硝基三氟甲基苯的合成

论述了２,４－二氯－３,５－二硝基三氟甲基苯的合成方法：对影响收率的反应温度,反应时间和催化剂进行了研究。     

五甲基环戊二烯基有机硅烷的合成(Ⅲ)

本文用正丁基锂与五甲基环戊二烯反应,生成五甲基环戊二烯基锂,再与卤代硅烷反应,合成了五种新的五甲基环戊二烯基有机硅烷,并用元素分析和~1H,~(13)C,~(29)Si—NMR 及 Ms 对这些化合物作了测定。     

聚甲基苯基硅烷的合成及非线性光学性能的研究

苯锂与甲基三氯硅烷反应制得了甲基苯基二氯硅烷，氮气保护下，在甲苯号金属钾反应生成了聚甲基苯基硅烷，用元素分析，ＩＲ，ＵＶ，＾１Ｈ－ＮＭＲ和ＧＰＣ作了表征，并测定了它的非线性谐波极化率Ｘ＾（３）的值为５．８＊１０＾－１２ｅｓｕ。     

甲基丙烯酰氧基三甲氧基硅烷改性SiO2的制备

采用原位一步法制备了表面甲基丙烯酰氧基三甲氧基硅烷(MPS)改性的单分散纳米二氧化硅（SiO₂）粒子。该过程将纳米SiO₂的缩合形成过程与功能化改性同步进行，并用红外光谱（FTIR）、X射线光电子能谱（XPS）、透射电子显微镜（TEM）、热失重分析（TGA）等测试方法研究了粒子的表面化学结构、形态和分散性以及粒子中MPS的含量。结果表明，原位一步法制备的MPS改性纳米SiO₂粒子粒径约75nm，基本上呈单分散状态，且含有大量的MPS功能性基团，其表面密度为3.45μmol/m²。     

AlCl3催化1,1,1-三甲基-2,2,2-三氯二硅烷裂解的理论研究

结合采用DFT（B3LYP）及二级微扰方法对AlCl3催化1,1,1-三甲基-2,2,2-三氯二硅烷裂解反应的机理进行了研究.通过计算数据结果表明,此裂解反应为放热反应,理论产率比较高.反应可以同时按2种通道进行,其中通道2反应较为容易,其3步反应的焓变依次为：ΔH1（86.963 kJ.mol-1）,ΔH2（-237.596 kJ.mol-1）,ΔH3（-127.568 kJ.mol-1）.通道2的各步正反应活化能数值表明,第3步为速控步,其正反应的活化能E3为214.913 kJ.mol-1.