多入射角椭偏法同时测量衬底光学常数和膜参数

本文首先讨论了多入射角椭偏法同时测量衬底光学常数和膜参数时结果的唯一性跟各未知参数间相关性的关系,从而提出了选择合适入射角的一般原则.计算了不同入射角下硅-二氧化硅体系和不锈钢钝化膜体系的椭偏参数△、(?)对n_2、k_2、n_f、、d和人射角(?)_0的一阶导数,考查了各未知参数之间的相关性.最后给出了用随机单纯形法对这两个体系进行拟合计算的实例.     

l_q稀疏正则化理论及其在热传导反问题中的应用

lq(0q≤1)稀疏正则化在实际应用领域已经得到了广泛的应用。在信号处理领域,简单的迭代算法能够得到满意的重构结果,但是,针对较为复杂的偏微分方程反演问题,利用这些算法进行反演往往很难达到最佳的重构效果。将已有的迭代算法进行改进,并将其应用到热传导反演问题中,通过和标准的吉洪诺夫正则化方法进行比较,说明lq稀疏正则化方法和改进的迭代算法的优点。     

二维稳态导热反问题的正则化解法

构造求解二维导热反问题的数值迭代解法,并以含内热源二维导热问题为背景,采用该迭代解法确定材料热传导系数,在每个迭代步中采用Ｔｉｋｈｏｎｏｖ正则化方法克服问题固有的不适定性。数值算例表明,该方法可行,有效、不仅适用于单介质热物性参数反演问题,而且适用于多介质热物性参数反演问题。     

偏微分方程参数反演的小波多尺度-正则化方法

针对偏微分方程参数反演问题,提出了小波多尺度-正则化反演方法,用小波变换将参数反演问题转化为小波域中有限维系数的反演问题,基于多尺度分析思想,有效改进了局部极小和计算量大的问题,结合正则化方法克服了反问题的不适定性。数值模拟试验表明了该方法的有效性。     

应用科学学报1992年(第十卷)总目录

第1期非线性椭圆型方程组的迭代和有限差分解法……………郭本瑜John J.H.Miller (24)二维极化子有效质量与温度的关系··………··…………--....-.………··王宗刚 顾世洧 (25)求最小二乘参考圆心与圆度值的采样法则…………………朱训生 薛秉源 贝季瑶 (31)最小条件圆度误差的唯一性及其精确解………………………………………毛友根 (38)单轴各向异性薄膜参数的变厚度椭偏分析方法……………………朱荣韦钰 (43)扫描法固体低温比热测量系统及其分析……周承浩 张义炳 萨加特 阮美萍 金汴骏 (49)平板电极梯度电场分选理论………………     

韧性薄膜/韧性基底体系弹性模量表征的新方法

使用有限元方法(FEM)分析了应变硬化的韧性薄膜/基底体系的锥形压痕过程.通过改变压入深度与薄膜厚度比,从0.01变化到0.85,得到了不同膜/基体系的力学响应,从而建立了压入深度、薄膜厚度和薄膜/基底弹性模量之间的无量纲关系.选取镍薄膜/低碳钢基底进行了纳米压痕试验,根据得到的无量纲关系,计算出了镍膜的弹性模量.同时与Sakai方法[1]得到的结果进行了比较,发现两者之间很吻合,证明该方法切实可行.     

TiO2纳米膜紫外可见光谱研究

采用反胶束法制备TiO2纳米溶胶,利用浸渍提拉方法制备TiO2薄膜,通过对膜进行紫外可见光谱分析,探讨了影响TiO2纳米膜厚度和禁带宽的各种因素.实验结果表明溶液的配比、陈化时间、热处理温度、涂覆次数等都将直接影响二氧化钛薄膜的紫外光谱和禁带宽.     

书画档案的聚一氯对二甲基苯涂层防护性研究

利用化学气相沉积法在书画表面形成聚一氯对二甲基苯薄膜,通过测定接触角推测膜的憎水性,研究不同工艺参数条件下膜的防护性能.结果表明,聚一氯对二甲基苯膜具有良好的连续性,使书画基材的吸湿增重缓慢;膜的憎水性与膜厚度成正比关系;膜对水汽的透过能力很低,能够使书画在常温大湿度条件下具有良好的防潮防护性能.     

磁控溅射薄膜的厚度分布

论述了磁控溅射薄膜的厚度分布,从理论上分析了固定基体、基体转动和自转加公转三种状态下的膜厚分布.计算表明,膜厚分布很大程度上取决于基体高度.适当调节基体高度和靶的距离,可以得到很好的膜厚均匀性.实验证实了这个结果.     

偶氮聚合物薄膜的全光极化特性及其驰豫过程研究

利用旋涂法制备了一种偶氮类化合物掺杂有机聚合物薄膜,并对其吸收谱、厚度、折射率、进行了测量,采用二次谐波产生的方法的方法对全光极化后薄膜的二阶非线性光学特性进行了研究.实验结果表明,随着薄膜厚度和生色团含量的增加其二阶非线性增强.这与聚合物薄膜中含有较高浓度的分散红1有关.对极化饱和后的驰豫情况进行了分析,发现不同厚度薄膜的驰豫速度不同.这是由于薄膜中偶氮分子含量越多,分子间相互作用越强,导致驰豫时间增长.     

侧向表面超晶格膜的表面静磁模式

我们计算了一个侧向磁性－非磁性超晶格膜的表面静磁模式，其中膜厚度为Ｗ，并且超晶格周期是足够短以致这个超晶格膜可以被看做一个等效各向异性的磁性膜，此文重点研究了表面静磁模式的频率随超晶格膜中磁性介质比例变化的规律，并进一步证明当磁性介质的比例比非磁性介质的比例小时表面静磁不能存在，计算建立在Ｎｉ／Ｍｏ超晶格基础上并设磁性介质中的磁化和外场沿磁条的方向。     

真空紫外薄膜光学常数的多约束非线性方程组计算

本文推导出目标函数的导数公式，改进了利用“多约束非线性方程组”计算真空紫外光学常数的方法，我们自编了ＶＵＶ－ＲＯＣＰ微机软件，可由真空紫外反射率求出真空紫外薄膜光学常数和入射光的偏振度。运用该软件对不同工艺的Ａｕ、Ｐｔ、Ａｌ样品的反射率进行解析，得到了它们的真空紫外薄膜光学常数，并与国外报道的结果进行了比较。     

不锈钢上草绿色钼酸盐转化膜组成的研究

用阴极电沉积法从钼酸盐溶液中获得了草绿色的不锈钢转化膜。该膜具有良好的热稳定性。ＸＰＳ和ＡＥＳ分析表明，膜厚约为１７３ｎｍ，膜的表面钼以Ｍｏ存在，而在膜内则以Ｍｏ和Ｍｏ共存。从ＡＥＳ深度剥蚀曲线的组成恒定区求得膜的组成为：Ｏ５２．８％，Ｍｏ３０．４％，Ｐ１２．５％和Ｆｅ４．３％。循环伏安的氧化峰也证明膜内存在Ｍｏ。     

层状YIG薄膜波导中的静磁正向体波与光相互作用

利用新的微扰方法导出了层状YIG薄膜波导中静磁波微扰下的光模式耦合振幅方程;讨论了静磁波-光相互作用Bragg衍射效率和扫描特性;实现了端面耦合方式下的静磁正向体波-光的非共线相互作用,并研究了静磁正向体波频率和功率对其的影响.     

金属薄膜的光学特性及其应用

本文利用电场边界条件并根据能量分配关系推导出金属薄膜的光学特性，也讨论了金属薄膜用于平面镜及迈克尔逊干涉仪的分光板等实例．     

砷化镓上等离子体阳极氧化膜的红外吸收光谱

GaAs的等离子体氧化在国内外已有报道.该薄膜的表面态密度约为10¹¹/cm²·eV量级,击穿场强大于10⁶V/cm.可用于MOSFET器件、半导体激光器和发光二极管的钝化膜,选择性(锌)扩散的掩蔽膜^[6,7].本文报道GaAs上等离子体阳极氧化(OPA)膜的红外吸收光谱以及该氧化膜在一定波段内对GaAs衬底的增透作用。     

ZnO压电薄膜的多晶模型研究

本文考虑了ZnO压电薄膜的晶格畸变和多晶结构,建立了ZnO压电薄膜的多晶膜模型,计算了ZnO/K9 glass和ZnO/fused quartz的SAW速度和有效机电耦合系数,测量了ZnO/K9 glass的SAW速度v₀和v₁,结果表明:多晶模型的计算值与实验值较接近,比单晶模型的结果有明显改善.计算结果还表明:分散度σ<6°时它对ZnO膜的SAW性能影响较小,而晶格畸变对SAW性能影响较大.     

导电圆柱覆盖有耗介质后的RCS和爬行波模的计算与分析

该文计算和分析了平面波垂直照射下，导电圆柱及其覆盖有耗介质后的ＲＣＳ。提出了导电圆柱及其覆盖有耗介质后，爬行波电流传播常数以及幅度的数值计算方法，该方法不仅克服了低频时，几何绕射法对导电圆柱表面爬行波传播常数计算精度差的缺陷，而且解决了几何绕射法难以求解的有耗介质包层的导电圆柱表面爬行波电流传播常数的数值计算，特别是解决了爬行波电流模的幅度计算问题。     

一种提高SOS膜结晶质量的新途径

这是一种提高SOS膜结晶质量的新方法.这种方法包括三步:1)在蓝宝石衬底上先用电子束蒸发薄无定形硅保护层.2)然后在氢气中进行退火处理.3)再用通常CVD方法在带薄硅层上外延生长所需厚度(0.6~0.8μm)的SOS膜.对所得SOS膜进行电子衍射、Nomarski相衬干涉显微镜表面观察、载流子浓度测量和光吸收研究表明:SOS膜质量完好,光吸收因子F_A ≤ 140×10⁶cm^-2,抑制了自掺杂,载流子浓度不超过1×10¹³cm^-3.