双放电腔微波-ECR等离子体源增强磁控溅射沉积技术

因其设备简单,沉积速率高等特点,磁控溅射沉积技术被广泛地用于各种薄膜制备中,但用反应磁控溅射制备化合物薄膜如氧化物,氮化物膜时,为了得到化学配比的膜层,9 反应激活基因,离子等的密度必须足够大,为此对原有的微波－ECR等离一源进行了改造,研究了双放电腔微波ECR等离子体源增强磁控溅射的放电特性,并用该方法制备了氮化碳膜,结果表明,该方法是一种有效的制备化合物薄膜的技术,用该方法制备的氮化碳膜,化学成分接近化学配比。     

铜膜厚度对铜膜结构和光电学性质的影响

采用热蒸发方法在玻璃基片上沉积100 nm以内不同厚度的铜薄膜.利用X射线衍射仪、原子力显微镜和分光光度计分别检测薄膜的结构、表面形貌和光学性质,用Van der Pauw方法测量薄膜的电学性质.结果表明,可以将薄膜按厚度划分为区(0~11.5 nm)的岛状膜、区(11.5~32 nm)的网状膜和区(32.0 nm)的连续膜.薄膜的表面粗糙度随膜厚的增加,在、区时增加,区时减小.薄膜电阻在区时无法测量,在区随膜厚的增加急剧下降,而在区时随膜厚增加缓慢减小.薄膜的光学吸收与其表面粗糙度密切相关,其变化规律与表面粗糙度的变化相一致.     

类金刚石碳膜和氮化钛的摩擦学性能研究

报道了在相同条件下用磁控溅射方法在硅片上制备类金刚石膜和氮化钛薄膜的研究结果,比较了两种镀膜在机械性能和结构上的效果.实验结果表明,氮化钛薄膜虽有很高的表面硬度,但其摩擦系数、表面粗糟度比类金刚石膜要高得多.而类金刚石膜虽有很低的摩擦系数和光滑的表面,但表面硬度比氮化钛薄膜小.因此,结合两种膜的优点有可能制备高硬度、耐磨性强、表面光滑的新型复合材料.     

椭偏光谱法研究激光脉冲沉积MgO薄膜材料生长

用激光脉冲沉积技术生长、制备出了一系列不同真空度、不间衬底温度和不同激光脉冲能量的Mgo薄膜。对生长、制备出的一系列Mgo薄膜进行了椭偏光谱测量研究，在300-800nm光谱波长范围内，得到了不同条件下生长制备的MgO薄膜的光学常数谱和膜厚，其结果显示：真空度、衬底温度和激光脉冲能量对生长Mgo薄膜的折射率、膜厚均有影响，高真空、高衬底温度和适中的激光脉冲能量有利于生长制备高折射率、高密度和高质量的Mgo薄膜。     

固体-液体-基底结构中裂纹形貌形成机制

试验发现，在固体膜-液体膜-基底结构中，若固体薄膜具有受压的本征应力，往往会发生开裂破坏，且裂纹呈现正弦波浪状或分叉状,采用细观力学的方法，研究产生此种开裂现象的机制．首先假设两种不同的固体薄膜变形单元，并通过能量的方法研究，结果表明，这两种不同的变形模式单元能同时通过不同的排列，组合成复杂的图纹．以变形模式为基础，给出了固体薄膜中微缺陷扩展成裂纹的准则，解释了产生上述裂纹形貌的机制．最后讨论了裂纹起始时间的预测问题．     

浸渍法制备聚苯乙烯滤光膜均匀性的研究

利用浸渍法制备了聚苯乙烯(C8H8)滤光膜,通过改变薄膜在溶液气氛中的静置时间,制备了不同的样品.用α-step100台阶仪测量样品厚度,并研究了薄膜均匀性与静置时间的关系.结果表明,静置时间对C8H8滤光膜的均匀性是有影响的.用插值方法进行拟合,修正了计算膜层厚度的Landau-Levich理论公式,修正后的公式可适用于固化的薄膜厚度计算.     

丝网印刷厚膜集成电路工艺

厚膜是指10～25微米的膜层厚度,利用丝网印刷的方法形成导体及厚膜电阻、电容,与用薄膜(膜层厚     

考虑薄膜力影响的简支园板极限强度分析

本文研究了简支园板考虑簿膜力影响下的极限强度分析。提出了用配置外围环筋的方法对板产生薄膜压力，取得了明显的效果。文中给出了园板考虑薄膜力的极限强度计算公式。并指出在板中考虑薄膜压力的影响，将提高板的极限承载能力。在烟囱基础、囤仓底板等结构中，尤其能够取得良好的效果。     

氢化碳膜的胺掺杂及其对甲酸蒸气的质量传感特性

通过将其他元素或原子基团掺入氢化非晶碳膜网结构中的方法,可以实现对α－Ｃ：Ｈ薄膜的改性,赋予α－Ｃ：Ｈ膜新的特性,从而满足某些特殊应用的需要,用含胺基的碳氢化合物正丁胺作为碳源,用等离子体增强化学气相沉积方法制备α－Ｃ：Ｈ膜．薄膜的红外光分析表明胺基团已掺入薄膜的网络结构中,喇曼光谱分析表明薄膜具有无序态碳、三配位碳和四配位碳原子的混合结构,但主要成份为无序态碳,将掺胺的α－Ｃ：Ｈ薄膜作为质量传     

磁控溅射PP基氧化锌／铜层状膜性能研究

用磁控溅射法在PP非织造布表面沉积氧化锌/铜薄膜来增加抗静电、抗菌、抗紫外等性能．研究首先采用正交试验设计方法沉积铜薄膜,选择最优抗静电性效果的铜膜．铜膜参数为1Pa,20W,5min时,抗静电性能达到最好．接着在沉积最优铜膜的PP表面溅射不同参数氧化锌形成层状膜,并利用扫描电子显微镜进行表面分析．结果表明,ZnO／Cu层状膜比ZnO单层膜颗粒明显且更加致密．经过测试后,镀层状膜的PP具有良好的抗紫外透过性和良好的抗菌性．氧化锌参数为0．5Pa,75W,40min,铜膜参数为1Pa,20W,5min具有最好抗紫外性．     

金属铝薄膜制备实验研究

采用金属铝片作为靶材,用热蒸发镀膜的方法,在玻璃基体上制备金属铝膜样品,样品再经过不同条件下的退火处理。X射线衍射检测分析表明:热蒸发法在玻璃基底上能够制备生成金属铝膜。退火处理后依然是金属铝膜,薄膜样品中没有氧化物成分。金属铝膜主要有两种结构成分,部分为非晶结构,部分为单晶结构晶体,薄膜形貌呈准直阵列状的结构。     

用反射椭偏术测膜厚实验中存在的问题及解决办法(英文)

薄膜科学与技术是当前高科技中的一个重要领域，用反射式椭偏仪测量薄膜厚度是一个重要的物理实验．然而，目前的实验内容只能确定膜厚在第一周期以内的值而不能确定膜厚的周期数，因而不能测得薄膜的实际厚度．本文讨论了这一问题并提供了一个简易可行的解决办法     

PECVD法低温制备富氮的SiOxNy栅介质膜及其特性

在ＰＥＣＶＤ法低温制备优质薄膜技术中，改变衬底温度、反应室气压、混合气体组份，过以用退火致密工艺，制备富氮的ＳｉＯｘＮｙ栅介质膜样品，采用准静态Ｃ－Ｖ和高频Ｃ－Ｖ特性测试，俄歇电子能谱分析、椭偏谱仪检测，Ｉ－Ｖ特性测试，研究了该薄膜的电学、光学特性；探讨多种工艺制备条件对膜特性的影响，同时给出了制备该膜最优化工艺条件。经测定，用这种工艺条件制成膜的特性参数已中接近热生长ＳｉＯ２栅介质膜的水平。     

薄膜生成过程的计算机模拟研究

根据多种制膜方法的共同点建立模型，用微机模拟源物质粒子在靶衬底上沉积成膜的全过程，研究了影响薄膜质量的工艺条件，如沉积速率、衬底温度等因素在微观成膜过程中所表现出来的物理细节及其规律。     

厚度对ZnS薄膜结构和应力的影响

用射频磁控溅射法在单晶Si基片上制备了4种不同厚度的ZnS膜,采用XRD和光学干涉相移法对薄膜的微结构和应力进行研究。结构分析表明,不同厚度的ZnS膜均呈多晶状态,并有明显的(220)晶面择优取向,晶体结构为立方晶型(闪锌矿)结构;随着薄膜厚度的增加,平均晶粒尺寸随之增大;薄膜的晶格常数在不同厚度下均比标准值稍大。应力分析表明,随着膜厚的增加,ZnS膜的应力差减小,在厚度为768 nm时的选区范围内应力差最小,应力分布较均匀。     

慢正电子技术研究ZrO2（Y2O3）薄膜的温度效应

用慢正电子技术研究了在溅射时不加偏压，纯Ａｒ气氛，基片分别为加热３００℃和不加热的情况下制备的Ｎｏ．２系列和Ｎｏ．７系列的用Ｙ２Ｏ３稳定的ＺｒＯ２薄膜（简称ＹＳＺ膜）。研究发现：ＹＳＺ膜心部区Ｓ参数随退火温度升高而降低；ＹＳＺ膜的过渡区宽度随退火温度升高而变窄；基片加热，有助于获得稳定、均匀、致密的薄膜组织。     

P（St—HEMA）／PPrO共混体系浊化的膜厚效应

用自由基溶液聚合的方法合成了苯乙烯和甲基丙烯酸β－羟乙酯共聚物（Ｐ（Ｐｔ－ＨＥＭＡ），简称ＳＨ６）将其与聚环氧丙烷（ＰＰｒＯ，简称Ｎ３３０）共混，利用液浇铸法制备共混物薄膜，通过测定不同膜厚的ＳＨ６－Ｎ３３０共混体系的浊点，研究了薄膜厚度对ＳＨ６－Ｎ３３０共混体系浊化的影响，并利用逾渗机制建立了浊点值与薄膜厚度之间的定量关系，结果表明这一理论与实验数据相符合。     

通过固化液态前驱体，模塑制备高比表面积聚合物电解质

用光化学方法将能够100％固化的低分子量活性液态前驱体固化成拥有优良质子电导率的固体膜，从而通过这种简单的过程制备了用于燃料电池的聚合物电解质膜（PEM）。这种方法不需要熔融挤出或溶剂重塑等进一步处理过程，而是直接将液态前驱体固化为薄膜，并使薄膜保持在所需要的尺寸。通过化学交联，可以在薄膜中增加磺酸基团数目以此达到高的质子传导率而又不增加薄膜的水溶性，水溶性会破坏非交联的聚合物。用这种薄膜制备了膜电极组件（MEA），它的电池性能优于基于商业化材料的电池。而且。由于液态前驱体的存在，通过柔性平面印刷或微模塑技术可以在薄膜表面上形成具有高精确性，微型的三维结构。相比于普通平面膜，这种有表面微结构的膜在膜与催化剂层之间提供了一个更大的接触面积，进而使其组成的MEA具有更高的功率密度。因此它能使燃料电池微型化，促进燃料电池在移动设备中的应用。     

多层高反膜的理论设计与光学特性分析

从理论上对光学多层介质反射膜作了设计，用堆积密度的概念模拟了溶胶-凝胶法制备的纳米多孔薄膜的折射率；利用反射率增幅分析与膜层制备难度分析来选择理想的膜系设计；通过计算分析了经典四分之一波长膜系的光学特性，包括薄膜膜层的驻波场分布和镀膜过程中的随机误差对膜层反射率曲线的影响，为多层高反膜的化学法制备与实际应用提供了重要依据。     

膜反应器—化学,化工,材料科学发展中的机遇

将有机、无面微孔薄膜与反应器组合形成膜反应器，用于液体、气体的分离，从而实现催化分离一体化、分子组装、主一客体合成、定向合成、仿生合成等难度较高的化学过程，可显示出独特的效果，是当今化学、化工、材料科学中的热点课题，也是未来最有希望获得突破性进展的高技术之一。一、膜反应器技术概况1．膜反应器技术的特点膜反应器最早用于同位素的分离、富集，后来逐步应用到多种气体、液体的分离及一些复杂化工过程。将膜反应器应用到化工反应中，与普通反应器相比，具有如下优点：（1）反应转化率高。可逆反应的转化率受化学平衡的限…