硅膜特性与1060nm窄带干涉滤光片的研究

实验研究表明,硅膜在800～1100nm是一个弱吸收膜,在波长短於800nm处是个强吸收膜;利用硅膜的这一可贵特性,设计并制备了1060nm窄带干涉滤光片。     

可见光减反膜的设计原则研究

分析了光学零件表面的光能量的反射损失,从膜系选择、膜料选择、膜层厚度,镀制工艺四个方面,对可见光减反膜的膜系设计特点进行了研究,确定了基本的设计原则.     

管式膜处理高悬浮物高浊度污水的中试研究

根据污水高悬浮物、高浊度的水质特点,采用管式超滤膜系统对污水进行处理,对管式超滤膜系统处理效果、膜通量及化学清洗效果、清洗方法等指标等进行综合验证评估。中试结果表明,管式超滤膜系统具有操作稳定可靠,膜平均渗透通量为46L/(m2.h);对悬浮物、浊度去除率均高于95%,COD去除率可达30%;在碱性条件下,使用十二烷基苯磺酸钠和TX-10混合物为清洗剂,可使膜通量完全恢复。     

金属—介质多层膜的光学特性

分析了层结构对含极薄金属膜的金属－介质多层膜光学特性的影响，以及金属膜的光学常数及复合膜的光学特性与膜厚的关系。当金属膜为岛状膜时，多层膜的红外反射特性与岛状膜的几何参数有关，计算所得反射率与实验结果一致。     

强激光反射镜膜层损伤理论研究

从热传导方程出发，利用格林函数法给出了多膜层温度分布以及损伤阈值解析函数表达式，并以Si/SiO2膜系为例，在激光波长为1.315μm情况下，计算了硅镜膜层度分布，激光损伤阈值随光照时间变化的关系曲线，结果表明：激光照射镜面中心处的温度明显高于其他区域，当强激光辐射时间小于0.5s时，损伤阈值与激光辐照时间密切相关，大于等于0．5s后损伤阈值随光照时间的增加而渐渐降低。     

对光学薄膜反射率的讨论

文章从多光束干涉的理论出发，介绍了光学薄膜的反射率并对其进行简单分析，进而说明光学薄膜作为增反膜（增透膜）应满足的条件，最后还给出了光学薄膜反射率与入射光波长之间的曲线关系。     

以TiAl金属间化合物为支撑体的多孔Ni膜的制备

为了克服传统有机膜与陶瓷膜的一些不足之处,以TiAl金属间化合物为支撑体,用悬浮粒子烧结法在孔径为10．6um的片状支撑体上制备多孔金属Ni膜。考察了浸浆时间、烧结温度等工艺参数对膜表面形貌和孔径大小、分布等膜性能的影响。结果表明,合适的制膜条件是：浸浆时间为60s,烧结温度为500℃。得到了孔径分布比较窄而且表面比较平整的微滤膜,其平均孔径为0．83μm,膜厚约为30μm。     

多层高反膜的理论设计与光学特性分析

从理论上对光学多层介质反射膜作了设计，用堆积密度的概念模拟了溶胶-凝胶法制备的纳米多孔薄膜的折射率；利用反射率增幅分析与膜层制备难度分析来选择理想的膜系设计；通过计算分析了经典四分之一波长膜系的光学特性，包括薄膜膜层的驻波场分布和镀膜过程中的随机误差对膜层反射率曲线的影响，为多层高反膜的化学法制备与实际应用提供了重要依据。     

膜蒸馏浓缩中药提取液过程膜污染的气体反冲洗抑制

研究了气体反冲洗对膜蒸馏浓缩中药提取液过程中膜污染的抑制作用,重点考察了反冲洗气量、反冲洗时间、反冲洗时间间隔对膜污染的抑制效果。结果表明,气体反冲洗能够明显抑制由料液中的各种污染物引起的膜污染;气体反冲洗时间越长、反冲洗气量越大、反冲洗时间间隔越小,则气体反冲洗抑制膜污染的效果越好;在反冲洗时间为2min、反冲洗气量为2L/min和反冲洗时间间隔为20min的条件下,实验进行250min时气体反冲洗能够维持膜通量在膜清水通量的80％以上。     

半导体激光放大器高效减反膜

本文提出了设计高斯场光学膜系的方法、电子枪真空反应溅射工艺和反射率实时监控技术.利用所提出的设计方法、工艺和监控技术,在面积为0.2×2μm~2的半导体激光器(LD)芯片有源层解理面上,设计制备了剩余反射率低至5×10~(-4)的减反膜,从而获得性能优越的行波半导体激光放大器.     

LB累积层膜的气体传质研究

应用ＬＢ累积层膜技术把聚合物单分子层沉积在微孔基底膜上，制成复合膜并进行ＣＯ２和ＣＨ４的传质试验．结果表明，足够层数的聚合物单分子层能复盖住基底膜的全部微孔，排除Ｋｎｕｄｓｅｎ扩散的影响，改善分离系数，实验还发现，当温度升高时，该复合膜的ＣＯ２相对于ＣＨ４的透过选择性有明显提高．     

Co—Al／Cu多层膜中层间耦合的振荡对光学性质和磁光效应的作用

用四探针法,纵向表面磁光效应,极克尔磁光谱仪和椭圆偏胱谱仪研究了离子束溅射法制备的「Ｃｏ９０Ａｌ１０（１．６ｎｍ）／Ｃｕ」３０多层膜中的层间耦合,磁光效应及光学性质。结果发现对于Ｃｏ－Ａｌ／Ｃｕ多层膜,其面内饱和场ＨＳ,矫顽力ＨＣ,磁电阻ΔＲ／Ｒ,特别是等效介电函数δ,磁光极克尔角θＫ分别随Ｃｕ层厚度的变化同步作周期性的振荡,其 ０．９ｍｍ。     

Fe/Cu巨磁阻多层薄膜的XPS研究

利用磁控溅射方法在Si衬底上制备了Cu/Fe多层薄膜, 采用XPS方法及Ar离子对薄膜样品进行刻蚀. 研究表明, 在多层薄膜的溅射界面存在合金, 并观测到溅射层向基体扩散的现象.     

10.6μm红外膜系制备工艺研究

采用真空镀膜法,在半导体晶片GaAs衬底上制备红外增透和增反光学薄膜,研究了Si滤光片对镀膜工艺的影响以及10.6μm增透膜系和10.6μm增反膜系的透射特性.结果表明,Si滤光片可以有效地消除单色仪二级以上光谱对镀膜工艺的影响,是一种理想的红外监控光的滤光片.监控光波长的修正值△λ约为原波长的2.5%～3%时,是制备该红外光学薄膜的较佳的条件.     

纳米磁性多层膜电磁介观特性

利用多靶离子束真空溅射技术制备平面结构为“铁磁金属／非磁性绝缘体／铁磁金属”的纳米多层膜样品．在室温下研究了样品的电磁输运特性．测量了样品的磁致电阻、垂直和平行样品膜面方向的电磁输运特性．研究结果显示了纳米金属磁性多层膜材料的微结构空间位置相关性和电磁输运过程奇异的非定域特性．     

一种新型光学匹配滤波器的研制

讨论了用计算全息方法研制的用于单模光纤场分布测量的光学匹配滤波器，给出了一个含有９个低阶高斯－拉盖尔模的光学匹配滤波器实例及其再现像。     

基于共面波导传输线的铁电薄膜可调带通滤波器

铁电薄膜的介电常数强烈地依赖于所施加电场强度的大小。基于这一原理,提出一种新颖的基于共面波导传输线结构的铁电薄膜可调带通滤波器。滤波器的输入输出采用抽头线的方式分别与谐振器相接,外加电压通过滤波器的输入输出端口直接施加到谐振器处的铁电薄膜上,用以改变铁电薄膜的介电常数,从而改变谐振器的谐振频率,实现带通滤波器通带频率的移动。这种新型结构的铁电薄膜可调带通滤波器具有结构紧凑、尺寸小及施加外加偏压容易等优点。仿真结果表明:铁电薄膜的介电常数在外加偏压下从250减小到200时,带通滤波器的传输特性曲线的形状基本保持不变,通带的中心频率从9.95GHz增加到10.04GHz,其3dB带宽保持在0.13GHz,反射损耗始终小于-20dB。     

适用于波分复用器的高性能滤光片设计

本文讨论了适用于波分复用器的高性能滤光片设计方法.所设计的滤光片通带透射率大于99.98%,阻带反射率也大于99.99%.同时还发现,截止滤光片的膜层厚度灵敏度较小,带通滤光片的膜层厚度灵敏度较大.因此,应将带通滤光片的膜层误差控制在1%以内.由于偏振的影响,入射角应小于15°.     

新型铷原子滤光器斯塔克频移研究

首次报道了对新型铷775.9nm斯塔克型主动式原子滤光器中心波长的电场调频的实验研究。设计了抑制高压放电的双层结构的原子汽室,实验方案采用了双光子吸收谱观测及声光移频定标技术,当外加电场强度为11kV/cm时,频移约为50MHz。还进行了实验值与理论值的比较和分析。     

光学层析卷积反投影算法中的滤波函数

研究了光学层析卷积反投影算法中滤波函数的性质和作用,导出并分析了全息干涉法测量和光束偏转扫描测量中的滤波函数.