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相似文献
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1.
一般最小低阶混杂准则是一个判断分区组设计好坏的新的最优性准则,一般最小低阶混杂准则下的最优分区组设计的构造是一个重要的问题.对一个分区组设计,本文给出了它的与饱和设计Hq中的某个列γ混杂的三阶处理交互作用的个数的表达式,这些结果在构造一般最小低阶混杂准则下的最优分区组设计时是有用的.  相似文献   

2.
给出了一般最小低阶混杂准则的一个新的表示形式,讨论了一般最小低阶混杂准则的新形式与几个现存准则的关系.  相似文献   

3.
均匀性是一个几何概念,通常采用不同的偏差来度量设计的均匀性.但偏差的度量侧重于总体,即考虑所有投影子设计的均匀性总和,而根据效应排序原则,低维投影均匀性应该比高维投影均匀性更重要,基于这一思想许多学者提出了类似于字长型的均匀性模式的新概念,并用它来度量设计的各阶投影均匀性.该文对均匀性模式的文献进行了综述,并给出均匀性模式及相关的最小低阶投影均匀性准则的统一定义.该文还对最小低阶投影均匀性准则与其他各种设计筛选准则之间的联系及其在补设计中的应用等进行了综述,这些联系表明最小低阶投影均匀性准则与因子设计中的广义最小低阶混杂准则、正交性准则、V准则、最近平衡性准则、设计效率准则、E(s2)准则之间是相互等价的,这些准则彼此之间可以互相支持,因此揭示了均匀设计和因子设计之间的内在关系.此外,该文还对现有文献中均匀性模式的下界进行了综述,并将达到下界的MPU设计案例罗列出来以方便实际工作者使用.  相似文献   

4.
为了更灵活地构造列扩展设计,采用一种不需要计算机搜索,只需从列数较小的初始设计出发,按照一定规则进行变换的方法,构造了二水平最优列扩展设计,并在E(s2)准则、广义最小低阶混杂准则和最小矩混杂准则下,讨论了列扩展设计与初始设计之间的关系.  相似文献   

5.
广义最小低阶混杂(Generalized Minimum Aberration,简称GMA)准则和最小矩混杂(Minimum Moment Aberration,简称MMA)准则是因子设计中两种非常重要的准则,它们被用来比较不同的因子设计的优劣.用MMA中各阶矩的解析表达式来描述广义字长型,得到MMA与GMA之间一个新的解析表达式,从而进一步说明这两种准则是等价的.  相似文献   

6.
对于二水平因析设计,献[2,3]提出了广义分辨度和最小低阶混杂准则对不同的(正规的或非正规的)设计排序.本将他们的结果推广到任意的s-水平因析设计得到了一般的形式,其中s是任意素数或素数幂.  相似文献   

7.
为了研究三水平设计投影均匀性与设计效率的关系,在中心化L2-偏差度量下,建立了强度为2的三水平正交设计的均匀性模式与设计效率的解析联系,对于强度为3的三水平正交表,最小低阶投影均匀性准则与设计效率准则等价.对于三水平设计,获得了均匀性模式紧的下界,该下界可以衡量设计是否为最小低阶投影均匀设计.  相似文献   

8.
最大最小距离设计和正交设计在计算机试验和实体试验中备受关注.研究了一类正交U-型设计在最大最小距离准则下的表现.结果表明,此类设计如果在正交性准则下是最优的,那么在最大最小距离准则下也是最优的,从而表明正交设计和最大最小距离设计有着密切联系.  相似文献   

9.
推广了J特征的定义,并证明了一个3水平部分因析设计由它的J特征唯一决定.主要结果是一个显式,它把设计点构成的集合与设计的J特征联系起来.通过这个公式,给出了G2最小低阶混杂的投影证明.  相似文献   

10.
在分析基于奇异值分解(SVD)的线性最小均方误差(LMMSE)估计的实现原理的基础上,结合信号、噪声子空间理论,给出了矩阵低阶近似时秩的选取方法.计算机仿真结果表明提出的低阶秩选取准则能够提高该算法在各种工作环境下的适应性.  相似文献   

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