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相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 93 毫秒
1.
在已完成的物象体视图的质感表现理论基础上,经实践总结出色彩润饰理论,填充了国家标准机械制图“可在零件表面上进行润饰”的可行理论与方法。  相似文献   

2.
相机的普及以及图像处理软件的广泛应用,数字图像正面临着被随意篡改和伪造的威胁。针对模糊润饰、拼接篡改操作后的数字图像,提出一种利用块效应和相关性相结合进行定位检测数字图像盲取证方法。数字图像经过模糊润饰、拼接篡改等操作后的区域的块效应和相关性与未篡改区域的块效应和相关性不一致。通过提取块效应特征以及相关性特征来定位篡改区域。实验结果表明,该算法能够有效地对模糊润饰、拼接篡改操作的图像进行检测和定位并且具有很好的鲁棒性。  相似文献   

3.
在彩色航空影像中,建筑物阴影能提供大量关于建筑物形状、位置等相关信息。提出了一种基于特性的自动提取建筑物阴影的方法,以获取彩色航空影像中建筑物阴影的形状信息。利用可分离亮度和色调的颜色模型(包括HSV、YIQ、YCbCr颜色模型)提取彩色航空影像中的建筑物阴影,并利用数学形态学处理阴影分割图像。试验结果表明该方法是行之有效的。  相似文献   

4.
论彩铅润饰     
为促进彩色立体图在工程图样中的推广,把工程绘画同艺术绘画有机地结合起来,本文对立体图用彩色铅笔润饰的技巧作了较详细的论述。作者认为,本方法北其它色秆润饰方法优越,对工业造型设计的表现和研究有一定的参考作用。  相似文献   

5.
钱锺书一向重视中西文学和文论的互相阐发,所论常有援引英国文学和文论。《谈艺录》中他根据中西文学史和批评史上的实际,把创作分为两大宗:一为模写自然;二为润饰自然。这两大宗派貌似迥然,实则内在相通。模写自然与润饰自然也是一个关乎文学起源的问题,涉及写实与想象、真实与虚构的关系。厘清模写自然与润饰自然的关系,对于我们辨析文学中的真实与虚构价值也很有意义。  相似文献   

6.
针对shadowmap算法,论述其基本原理,从数学角度解释自阴影以及锯齿现象出现的原因,利用z偏移和增加深度信息精度来解决自阴影现象,提出一种多次采样的算法来平滑阴影,消除锯齿影响,并基于DirectX3D实现,通过测试证明算法的可行性.  相似文献   

7.
依据遥感影像阴影的属性,提出一种基于彩色模型的遥感影像阴影检测方法,以提高阴影检测精度。阴影检测过程中,首先将影像转换到HSV空间。根据阴影区域高色调值、低亮度值和高饱和度的特性,定义M=(S-V)/(H+S+V)。利用光谱比技术和中值滤波,得到初步的阴影区域。其次依据散射理论对蓝光的影响,以及彩色不变特征,提出结合C1C2C3空间的C3分量和RGB空间的B分量进行双阈值阴影检测。为降低阈值选择的主观性,提出将上述两种方法进行与运算,并结合小区域去除和数学形态学处理,进行阴影提取。最后对多幅带有阴影的遥感影像进行实验。结果表明所提出的方法明显优于传统的直方图阈值法和同态滤波检测法,克服了阈值选择的主观性,提高了阴影检测精度。  相似文献   

8.
"数字是思维的体操"。在分析数学思维在培养创造力中的功能基础上,从创造意识、创造品质、创造技法三个方面分析了数学思维对创造能力培养的影响,从符号思维、对偶性思维、反例思维、函数思维四个角度提出了在数字教学中利用数学思维方式提高创造能力的具体对策。  相似文献   

9.
周宇峰 《科技资讯》2011,(34):189-189
针对高考试卷的特点,高考数学复习必须铸就高目标:扎实的基础,熟练的技法和灵活的思维。首先要扎实的进行第一轮复习,其次在第二轮复习中要精心策划,合理安排实现能力目标的保证。  相似文献   

10.
提出一种基于阴影属性的阴影检测与去除方法,首先采用光照评估方法判断阴影是否存在,若有阴影存在则确定阴影方向并计算阴影属性,最后根据阴影属性检测阴影点。由于使用了阴影属性,阴影的检测和去除更加准确。  相似文献   

11.
抛光光学玻璃等硬脆材料时常选用聚氨酯抛光垫,其微观形貌和磨损直接影响抛光精度和效率.本文对不同抛光时长下聚氨酯抛光垫微观形貌和磨损行为及其对材料去除率和表面粗糙度的影响进行了实验研究.结果表明:当主轴转速为8 000 r/min,进给速度为0.015 0 mm/s,轴向超声振幅为5μm时,材料去除率和表面粗糙度分别为0.977μm/min和153.67 nm.聚氨酯抛光垫在30 min内磨损量较小,随着抛光时长的增加,抛光垫表面孔隙逐渐被磨粒和玻璃碎屑填充,破坏抛光垫表面的疏松多孔结构,导致抛光垫表面硬化,失去弹性.同时,侵入抛光垫表面的磨粒会阻止抛光接触区域内的磨粒更新,导致抛光质量降低.  相似文献   

12.
为了改善硅片化学机械抛光效果,提高硅片表面质量,一小振幅兆声振子引入化学机械抛光系统,通过对比表面粗糙度大小和分布,发现该振子对改善硅片化学机械抛光效果有明显促进作用。测试表明:振子频率为1.7 MHz,中心最大振幅约为70 nm;硅片表面振动频率为1.7 MHz,中心最大振幅小于10 nm;该振子独立抛光时,未发现硅片表面粗糙度明显降低,但它能引起抛光液微流动,使储存在抛光垫窠室中更多的抛光液进入接触区参与抛光。无振动抛光时,硅片中心区域抛光液供给不足,造成该区抛光效果较差;兆声致微流动能有效缓解这种不足,改善硅片中心区域抛光效果,不仅如此,它还能有效降低其他区域的表面粗糙度。与无振动抛光的硅片相比,经过兆声辅助抛光的硅片,表面粗糙度更小,分布更均匀。  相似文献   

13.
针对蓝宝石衬底超精密加工存在的抛光表面不稳定问题,对蓝宝石衬底铜抛-化学机械抛光(CMP)加工技术进行研究,系统探讨铜抛与CMP的抛光压力、转速和抛光时间对蓝宝石衬底表面质量及加工效率的影响.综合评价各表面质量指标,结果表明:在满足表面质量对抛光工艺要求的前提下,采用铜抛的最佳工艺参数为铜抛压力98.0 kPa,转速55 r·min-1,铜抛时间30 min;化学机械抛光的最佳工艺参数为抛光压力215.6 kPa,转速60 r·min-1,抛光时间120 min,由此可获得高质量、无损伤的蓝宝石衬底抛光表面.  相似文献   

14.
本文研究了高氯酸/乙醇抛光液体系在15V安全电压下高纯铝的抛光工艺以及抛光过程的电流密度,并对"暗色膜"现象进行了解释,对抛光电极间距、操作温度对抛光效果的影响进行探讨,得出最佳抛光工艺:电极间距7~8cm,操作温度10~15℃,电流密度0.7~0.8A/m~2,抛光时间3min。  相似文献   

15.
雾化施液CMP工艺及实验设备   总被引:1,自引:0,他引:1  
针对传统化学机械抛光的平坦化制程中抛光液使用量大和环保等问题,提出了一种利用超声波雾化抛光液进行抛光的工艺方法。介绍了试验台架搭建、工艺处理方法、工作原理和抛光工艺,并与传统化学机械抛光效果进行了比较。研究表明,在表面质量上,雾化工艺能够达到传统化学机械抛光的量级,其使用量是传统化学机械抛光的1/10。  相似文献   

16.
采用磁性复合流体(MCF)对BK7玻璃进行定点抛光实验,对抛光斑进行三维模型重构,并对磁场空间分布进行仿真与实验分析,阐明抛光材料去除机理,确定材料去除率、表面粗糙度及硬度随抛光时间的变化规律,建立了材料去除量与磁通密度的关系曲线。实验结果表明:抛光形成的抛光斑表面轮廓为蝶形,其沿抛光轮轴向的截面轮廓呈"W"形;材料去除量与磁场强弱及抛光时间密切相关,抛光深度去除率最高可达553 nm/min;表面粗糙度随抛光时间的增加先上升后下降,MCF抛光可获得表面粗糙度Ra6 nm的光滑表面,且粗糙度与硬度呈现一定的正相关关系。  相似文献   

17.
介绍了影响石材抛光的几个因素:抛光剂的类型,抛光剂(膏),抛光磨具(块)和抛光工艺参数,重点通过实验的方法得出石才抛光光泽度与压力P的关系;光泽度与时间的关系;光泽度与进给速度Vw的关系。为石材的机械加工提供了实验依据。  相似文献   

18.
快速抛光技术接触压力建模与仿真   总被引:1,自引:0,他引:1  
快速抛光技术不但可提高加工速度,还能保证抛光精度,是实现超精密平面光学元件批量化加工的最有效加工方式.通过对快速抛光原理的分析,建立了工件与抛光垫之间的弹性力学模型,分析了载荷条件和边界位移条件,并以此为基础建立了工件与抛光垫的有限元模型.通过仿真分析得出了接触压力的分布情况,并通过抛光实验验证了仿真结果,为研究快速抛光技术提供了实验理论依据.  相似文献   

19.
介绍了两个系列细集料磨光试验的结果,其一是砂浆磨光值试验,用于调查碳酸钙(及硅颗粒)含量对砂浆磨光值的影响;其二是砂纸式试件的磨光试验,用于考察不同试验方法的磨光效果。试验设备为英式磨光机和魏勒-舒尔茨磨光机。得出的主要结论有:(1)砂浆磨光值试验没能反映出碳酸钙(及硅颗粒)含量的影响,而砂纸式试件的磨光能反映出细集料抗磨光品质的差异;(2)在砂纸式试件的磨光试验中砂的粒径对试验值有明显影响。  相似文献   

20.
大面积CVD金刚石膜的热铁板抛光   总被引:8,自引:0,他引:8  
研制成功国内第1台大面积CVD金刚石膜热铁板抛光机,它可以在10^-3pa真空条件下,加热到1100℃;抛光台可以在0-10r/min间实现无级调速,一次完成3片φ110mm的金刚石膜的抛光,金刚石膜在980℃,2h抛光的结果表明该装置有良好的抛光效果。金刚石膜在980℃抛光不同时间的Raman谱表明,金刚石热铁板抛光是金刚石石墨化和C原子不断扩散的过程。  相似文献   

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